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[发明专利]一种提高激光划刻透明导电氧化物薄膜绝缘性能的方法-CN201210308502.1在审
发明人：冯燕;贾海军;贺天太;潘清涛;刘佳;张丽;宋鑫;麦耀华 -专利权人：保定天威薄膜光伏有限公司
申请日： 2012-08-28 - 公布日： 2012-12-12 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：本发明涉及一种提高激光划刻透明导电氧化物薄膜绝缘性能的方法，属于薄膜太阳能电池技术领域。本发明包括如下工艺步骤：（1）利用磁控溅射配合湿法刻蚀的技术制备绒面透明导电氧化物薄膜；（2）采用波长为355nm的激光器对绒面透明导电氧化物薄膜进行绝缘划线；（3）将经过激光划线的绒面透明导电氧化物薄膜进行退火处理，获得具有优良绝缘性能的激光划线。本方法与现有的薄膜太阳能电池的生产工艺兼容，采用薄膜太阳能电池生产线常用的355nm激光器可成功划刻氧化物薄膜，提升划刻质量，降低生产成本；激光划刻形貌好，绝缘性能符合生产工艺需求；工艺操作简单；本发明适用于硅基系列薄膜电池、碲化镉系列薄膜电池等。
一种提高激光透明导电氧化物薄膜绝缘性能方法

[发明专利]一种新型背反射结构硅基薄膜太阳能电池-CN201210185805.9无效
发明人：朱红兵;黄跃龙;王颖;王志强;马云祥;冯燕;贺天太 -专利权人：保定天威薄膜光伏有限公司
申请日： 2012-06-07 - 公布日： 2012-09-26 - 主分类号： H01L31/0216 文献下载
摘要：本发明公开了一种新型背反射结构硅基薄膜太阳能电池，实现高的短路电流和光电转化效率。新型背反射结构硅基薄膜太阳能电池包含背反射薄膜、封装背板、硅基薄膜电池、透明前基板和封装材料；背反射薄膜至少包含一层银金属薄膜、或者铝金属薄膜、或者铜金属薄膜、或者含有银、铝、铜金属的合金薄膜，背反射薄膜被制备在封装背板上，薄膜可以通过物理或者化学方法制备得到，总的膜厚控制在10纳米到1毫米之间；硅基薄膜电池为所有硅材料和硅基合金材料的单结和多结叠层结构的薄膜太阳能电池。封装背板上的背反射薄膜的制备与硅基薄膜电池的制备同步独立进行，将封装背板与硅基薄膜电池的透明前基板通过封装材料采用层压工艺进行封装。本发明简化了电池制备工艺、同时提高了节拍、增加了产能、降低电池的制备成本。
一种新型反射结构薄膜太阳能电池

[发明专利]一种新型二氧化钛背反射结构硅基薄膜太阳能电池-CN201210199250.3无效
发明人：朱红兵;黄跃龙;尹晶晶;高锦成;马云祥;冯燕;贺天太 -专利权人：保定天威薄膜光伏有限公司
申请日： 2012-06-18 - 公布日： 2012-09-26 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：本发明涉及一种新型二氧化钛背反射结构硅基薄膜太阳能电池，属于硅基薄膜太阳能电池生产技术领域。技术方案是：包含二氧化钛背反射薄膜（4）、封装背板（5）、硅基薄膜电池（2）、透明前基板（1）和封装材料（3）；封装背板上二氧化钛背反射薄膜的制备与硅基薄膜电池的制备同步独立进行，然后，将封装背板与硅基薄膜电池的透明前基板通过封装材料采用层压工艺进行封装。本发明的积极效果：将高反射的二氧化钛背反射薄膜的制备与硅基薄膜电池的制备同步独立进行，然后通过层压工艺将两者进行封装，这样将有效地提高电池效率，同时提高了节拍、增加了产能、简化了电池制备工艺，降低电池的制备成本，并可广泛用于实际的批量工业生产中。
一种新型氧化反射结构薄膜太阳能电池

[发明专利]薄膜太阳能电池的绒面透明导电氧化物薄膜的制备方法-CN201210104462.9无效
发明人：贾海军;贺天太;冯燕;张丽;朱红兵;潘清涛;麦耀华 -专利权人：保定天威薄膜光伏有限公司
申请日： 2012-04-11 - 公布日： 2012-08-01 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：本发明涉及一种薄膜太阳能电池的绒面透明导电氧化物薄膜的制备方法，制备大面积均匀且低成本绒面TCO薄膜，属于薄膜太阳能电池技术领域。技术方案是：①在低于100℃条件下采用磁控溅射技术，在衬底上利用不同掺杂浓度的靶材沉积透明导电薄膜；②对制备的透明导电薄膜经先退火后化学湿法刻蚀处理或先化学湿法刻蚀后退火处理，形成绒面结构，获得适用于薄膜太阳能生产的绒面透明导电氧化物薄膜。本发明制备出具有良好陷光效果的大面积薄膜，可广泛应用于各种高效光电器件、平板显示器以及太阳能电池，尤其适合于薄膜太阳能电池的制备，可以提高太阳能电池的光电转换效率；本发明降低能耗的同时降低了对真空设备的要求，从而降低了制备成本。
薄膜太阳能电池透明导电氧化物制备方法

[发明专利]物理气相沉积设备的清洗方法-CN200910195836.0有效
发明人：黄平;陆一峰;叶青;张文展;贺天太 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2009-09-17 - 公布日： 2011-04-20 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种物理气相沉积设备的清洗方法，包括：步骤1：使用能够溶解加热器或者反应腔内壁的金属膜的酸溶液，去除所述金属膜；步骤2：采用去离子水清洗所述加热器或者反应腔内壁，并使用干燥空气或惰性气体吹干所述区域；步骤3：采用易挥发的有机溶剂继续清洗所述加热器或者反应腔内壁，并使用干燥空气或惰性气体吹干所述区域；重复1～5次步骤2和步骤3；步骤4：关闭反应腔，对反应腔内做干燥处理。采用所述的清洗方法，不仅去除了反应腔内壁以及加热器上的金属膜，而且能够保证反应腔在清洗之后能够满足后续进行PVD工艺的需要。由于无需更换反应腔以及加热器，节约了成本。
物理沉积设备清洗方法