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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]照明光学系统、照明方法、曝光装置以及曝光方法-CN201610084052.0有效
发明人： 谷津修;田中裕久 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2009-05-12 - 公布日： 2019-07-30 - 主分类号： G01M11/02 文献下载
摘要：本发明提供一种检查装置，其能够随时检查例如配置于照明光学系统的光路中的空间光调制器的反射镜部件的反射率。本发明是对具有被二维排列且被独立控制的多个光学部件的空间光调制器进行检查的检查装置(10)，其具备：共轭光学系统(11、12)，其配置于空间光调制器的光学上的下游侧，形成与多个光学部件所被排列的排列面在光学上共轭的共轭面；光检测器(13)，其具有配置于上述共轭面或其附近的检测面；检查部(14)，其基于光检测器的检测结果检查多个光学部件的光学特性。
照明光学系统方法曝光装置以及

[发明专利]照明光学设备、曝光设备、照明方法、曝光方法和装置制造方法-CN201410018304.0有效
发明人： 谷津修 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2008-10-23 - 公布日： 2017-05-10 - 主分类号： G02B26/08 文献下载
摘要：一种照明光学设备具有光学单元(3)。所述光学单元具有分光器(35)，用以使入射射束分裂成两个射束；第一空间光调制器(33)，其可布置于第一射束的光学路径中；第二空间光调制器(34)，其可布置于第二射束的光学路径中；和光组合器(36)，其将已通过所述第一空间光调制器的射束与已通过所述第二空间光调制器的射束组合；所述第一空间光调制器和所述第二空间光调制器中的每一者具有二维地布置且个别地被控制的多个光学元件(33a、34a)。
照明光学设备曝光方法装置制造

[发明专利]照明光学设备、曝光设备、照明方法、曝光方法和装置制造方法-CN201410018301.7有效
发明人： 谷津修 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2008-10-23 - 公布日： 2017-05-10 - 主分类号： G02B27/28 文献下载
摘要：一种照明光学设备具有光学单元(3)。所述光学单元具有分光器(35)，用以使入射射束分裂成两个射束；第一空间光调制器(33)，其可布置于第一射束的光学路径中；第二空间光调制器(34)，其可布置于第二射束的光学路径中；和光组合器(36)，其将已通过所述第一空间光调制器的射束与已通过所述第二空间光调制器的射束组合；所述第一空间光调制器和所述第二空间光调制器中的每一者具有二维地布置且个别地被控制的多个光学元件(33a、34a)。
照明光学设备曝光方法装置制造

[发明专利]照明光学设备、曝光设备、照明方法、曝光方法和装置制造方法-CN201410019498.6有效
发明人： 谷津修 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2008-10-23 - 公布日： 2014-05-07 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种照明光学设备具有光学单元(3)。所述光学单元具有：分光器(35)，用以使入射射束分裂成两个射束；第一空间光调制器(33)，其可布置于第一射束的光学路径中；第二空间光调制器(34)，其可布置于第二射束的光学路径中；和光组合器(36)，其将已通过所述第一空间光调制器的射束与已通过所述第二空间光调制器的射束组合；所述第一空间光调制器和所述第二空间光调制器中的每一者具有二维地布置且个别地被控制的多个光学元件(33a、34a)。
照明光学设备曝光方法装置制造

[发明专利]照明光学装置的制造方法、照明方法、曝光方法和装置制造方法-CN201310320160.X有效
发明人： 谷津修 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2008-09-10 - 公布日： 2014-01-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种照明光学系统，其在来自光源（1）的光线的基础上对要照明的表面照明，所述照明光学系统具有：第一光学路径，衍射光学元件（6）可布置于其中的第一位置处；第二光学路径，具有二维地形成阵列且个别地加以控制的多个光学元件（3a）的空间光调制器（3）可布置于其中的第二位置处；和第三光学路径，其为已通过所述第一光学路径和所述第二光学路径中的至少一者的光线的光学路径且一种分布形成光学系统（11）布置于其中。所述分布形成光学系统（11）基于已通过所述第一光学路径和所述第二光学路径中的至少一者的光线而在位于所述第三光学路径中的照明光瞳上形成预定的光强度分布。
照明光学装置制造方法曝光

[发明专利]照明光学系统、曝光设备、光学元件和装置制造方法-CN201110307567.X有效
发明人： 谷津修 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2008-09-10 - 公布日： 2012-03-21 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种照明光学系统，其在来自光源(1)的光线的基础上对要照明的表面照明，所述照明光学系统具有：第一光学路径，衍射光学元件(6)可布置于其中的第一位置处；第二光学路径，具有二维地形成阵列且个别地加以控制的多个光学元件(3a)的空间光调制器(3)可布置于其中的第二位置处；和第三光学路径，其为已通过所述第一光学路径和所述第二光学路径中的至少一者的光线的光学路径且一种分布形成光学系统(11)布置于其中。所述分布形成光学系统(11)基于已通过所述第一光学路径和所述第二光学路径中的至少一者的光线而在位于所述第三光学路径中的照明光瞳上形成预定的光强度分布。
照明光学系统曝光设备光学元件装置制造方法

[发明专利]空间光变频器的检查装置及检查方法、照明光学系统、照明光学系统的调整方法、曝光装置、以及器件制造方法-CN200980101546.3有效
发明人： 谷津修;田中裕久 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2009-05-12 - 公布日： 2010-12-08 - 主分类号： G01M11/00 文献下载
摘要：本发明提供一种检查装置，其能够随时检查例如配置于照明光学系统的光路中的空间光变频器的反射镜部件的反射率。本发明是对具有被二维排列且被独立控制的多个光学部件的空间光变频器进行检查的检查装置(10)，其具备：共轭光学系统(11、12)，其配置于空间光变频器的光学上的下游侧，形成与多个光学部件所被排列的排列面在光学上共轭的共轭面；光检测器(13)，其具有配置于上述共轭面或其附近的检测面；检查部(14)，其基于光检测器的检测结果检查多个光学部件的光学特性。
空间变频器检查装置方法照明光学系统调整曝光以及器件制造

[发明专利]偏光转换装置-CN201010128876.6有效
发明人： 谷津修;广田弘之;重松幸二;栗田信一 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2006-01-18 - 公布日： 2010-10-20 - 主分类号： G02B27/28 文献下载
摘要：本发明提供一种实质上不受作为波长板发挥机能的光学构件的制造误差的影响，而以所需的偏光状态的光对被照射面进行照明的照明光学装置。该照明光学装置为基于来自光源(1)的光，对被照射面(M，W)进行照明的照明光学装置。该照明光学装置具有被配置在照明瞳面或其附近，用于将入射光的偏光状态转换为特定的偏光状态的偏光转换元件(12)。偏光转换元件具有用于对入射的直线偏光可变地赋予旋光角度的多个可变旋光构件。各可变旋光构件由具有旋光性的光学材料形成，且具有沿与光轴(AX)交叉的方向可相对移动的2个偏角棱镜。
偏光转换装置

[发明专利]偏光转换装置-CN201010128136.2有效
发明人： 谷津修;广田弘之;重松幸二;栗田信一 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2006-01-18 - 公布日： 2010-07-28 - 主分类号： G02B27/28 文献下载
摘要：本发明提供一种实质上不受作为波长板发挥机能的光学构件的制造误差的影响，而以所需的偏光状态的光对被照射面进行照明的照明光学装置。该照明光学装置为基于来自光源(1)的光，对被照射面(M，W)进行照明的照明光学装置。该照明光学装置具有被配置在照明瞳面或其附近，用于将入射光的偏光状态转换为特定的偏光状态的偏光转换元件(12)。偏光转换元件具有用于对入射的直线偏光可变地赋予旋光角度的多个可变旋光构件。各可变旋光构件由具有旋光性的光学材料形成，且具有沿与光轴(AX)交叉的方向可相对移动的2个偏角棱镜。
偏光转换装置

[发明专利]光学单元、照明光学设备、曝光设备和装置制造方法-CN200880100940.0有效
发明人： 谷津修 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2008-10-23 - 公布日： 2010-06-30 - 主分类号： G02B27/09 文献下载
摘要：一种照明光学设备具有光学单元3。所述光学单元具有：分光器35，用以使入射射束分裂成两个射束；第一空间光调制器33，其可布置于第一射束的光学路径中；第二空间光调制器34，其可布置于第二射束的光学路径中；和光组合器36，其将已通过所述第一空间光调制器的射束与已通过所述第二空间光调制器的射束组合；所述第一空间光调制器和所述第二空间光调制器中的每一者具有二维地布置且个别地被控制的多个光学元件33a、34a。
光学单元照明设备曝光装置制造方法

[发明专利]照明光学系统、曝光设备、光学元件和其制造方法和装置制造方法-CN200880024806.7无效
发明人： 谷津修 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2008-09-10 - 公布日： 2010-06-16 - 主分类号： G02B26/08 文献下载
摘要：一种照明光学系统，其在来自光源(1)的光线的基础上对要照明的表面照明，所述照明光学系统具有：第一光学路径，衍射光学元件(6)可布置于其中的第一位置处；第二光学路径，具有二维地形成阵列且个别地加以控制的多个光学元件(3a)的空间光调制器(3)可布置于其中的第二位置处；和第三光学路径，其为已通过所述第一光学路径和所述第二光学路径中的至少一者的光线的光学路径且一种分布形成光学系统(11)布置于其中。所述分布形成光学系统(11)基于已通过所述第一光学路径和所述第二光学路径中的至少一者的光线而在位于所述第三光学路径中的照明光瞳上形成预定的光强度分布。
照明光学系统曝光设备光学元件制造方法装置

[发明专利]光学单元、照明光学装置、曝光装置、曝光方法以及元件制造方法-CN200880018312.8有效
发明人： 谷津修 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2008-10-30 - 公布日： 2010-03-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：光学单元(3)，其具备：第1光路，可配置具有二维排列并可个别控制的多个光学元件(36a)的空间调变元件(36)；第2光路，具有供于表面具有既定固定图案的角度分布赋予元件(5)插入的机构；以及第3光路，经过该第1光路及该第2光路的两者的光的光路。在角度分布赋予元件(5)插入该第2光路时，根据射入该角度分布赋予元件(5)的光对射出的光赋予角度分布。
光学单元照明装置曝光方法以及元件制造

[发明专利]曝光装置-CN200910129712.2有效
发明人：西永寿;引间郁雄;丰田光纪;中川正弘;萩原恒幸;水野恭志;北尚宪;谷津修;江村望 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2004-09-29 - 公布日： 2009-09-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种曝光装置，通过将曝光光经由液体照射在基板上而将所述基板曝光，其中，具备：投影光学系统；以及计测装置，具有设置在所述投影光学系统的像面侧的光透过部，以及经由该光透过部而接收通过了所述投影光学系统的曝光光的光接收器，所述计测装置的光接收器，在所述投影光学系统和所述光透过部之间没有液体的状态下，接收通过了所述光透过部以及投影光学系统的曝光光。
曝光装置

[发明专利]偏光变换元件、光学照明装置、曝光装置以及曝光方法-CN200810126659.6有效
发明人： 谷津修;重松幸二;广田弘之;松山知行 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2005-01-14 - 公布日： 2008-12-10 - 主分类号： G02B27/28 文献下载
摘要：一种偏光变换元件，可以将有约为单一方向的偏光方向的直线偏光状态的入射光，变换成有约为周方向的偏光方向的周方向偏光状态的光，且可以防止光量损失。偏光变换元件(10)变换入射光的偏光状态成为所定的偏光状态。例如利用有如水晶旋光性的光学材料所形成，在周方向有厚度变化的分布。厚度分布，被设定使约为单一方向的偏光方向的直线偏光状态的光，变换成有约为周方向的偏光方向的周方向偏光状态的光。周方向被分割成有多个区域(10A～10D)，且这些区域中的任意2相邻区域的厚度不同。又，这些区域中的任意2相对区域有大约相等的旋光角度。
偏光变换元件光学照明装置曝光以及方法

[发明专利]光学照明装置、曝光装置以及曝光方法-CN200710195641.7无效
发明人： 谷津修;田中裕久;村松研一;小峯典男;西永寿;松山知行;工藤威人 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2003-12-02 - 公布日： 2008-06-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明是有关于一种光学照明装置、曝光装置以及曝光方法。该光学照明装置，例如搭载于曝光装置中，便可以依据光罩图案的特性，抑制光量损且使照明光的偏振状态改变，得以实施适当的照明条件。具有提供直线偏振光的光源部(1)，以光源部发出的光来照明被照射面(M、W)。光学照明装置具有偏振状态切换手段(10、20)，配置在光源部与被照射面之间的光路中，用以使照明被照射面的光的偏振状态在特定偏振状态与非偏振状态之间做切换。偏振状态切换手段更具有去偏振器(20)，其架构成可以自在地插入与脱离于照明光路中，并且可依据所需将入射的直线偏振光去偏振。
光学照明装置曝光以及方法

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