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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]聚硅氧烷组合物和用于光电子应用的涂层-CN201610344848.5有效
发明人： D·瓦拉普拉萨德;S·穆霍帕亚伊;谢松元;A·H·格布雷尔罕;H·扁 -专利权人：霍尼韦尔国际公司
申请日： 2016-03-04 - 公布日： 2021-08-10 - 主分类号： C09D183/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种聚硅氧烷组合物和用于光电子应用的涂层。可交联的组合物，其包含第一含硅树脂和第二含硅树脂，所述第一含硅树脂包含烷基和芳基，且所述第二含硅树脂包含芳基。第一含硅树脂具有1000AMU至10,000AMU的重均分子量。第二含硅树脂具有900AMU至5000AMU的重均分子量。所述组合物还包含至少一种溶剂和至少一种热活化的催化剂。
聚硅氧烷组合用于光电子应用涂层

[发明专利]用于减轻图案塌陷的水溶性聚合物-CN201980058622.0在审
发明人：德萨拉吉·瓦拉帕萨德;谢松元 -专利权人：霍尼韦尔国际公司
申请日： 2019-08-22 - 公布日： 2021-04-16 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于防止半导体衬底中形成的图案化高纵横比特征在从该特征之间的空间移除用于清洁蚀刻残留物的类型的初始流体时发生塌陷的方法。在本方法中，空间至少部分地填充有置换溶液，诸如经由旋涂，以基本上置换初始流体。该置换溶液包含至少一种溶剂和至少一种水溶性聚合物诸如聚乙烯基吡咯烷酮(PVP)或聚丙烯酰胺(PAAM)形式的填充材料。然后使溶剂挥发以便使填充材料以基本上固体形式沉积在空间内。与使用当前填充材料相比，可以通过采用高去胶速率的已知等离子体去胶方法来移除填充材料，这防止或减轻了硅损失。
用于减轻图案塌陷水溶性聚合物

[实用新型]一种汽车机械设备表面用除尘装置-CN201922475720.4有效
发明人：范崤康;李楠;孙鹏;贾曦睿;谢松元 -专利权人：迟广;王坤鹏;汤永利
申请日： 2019-12-31 - 公布日： 2020-08-25 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种汽车机械设备表面用除尘装置，包括底座和龙门支架，所述龙门支架固定连接在所述底座的上端两侧，所述底座的上端位于所述龙门支架的两个内侧分别固定连接设有吹风机和抽风机，所述底座的上端中部固定连接设有支撑架，所述支撑架的上端固定连接设有液压柱，所述液压柱的上端固定连接设有夹持平台，所述龙门支架的上部固定连接设有横架，所述横架的两侧均固定连接设有卷扬机，所述卷扬机的下方通过线缆固定连接设有带多角度喷头的喷洒枪，所述横架的中部位于所述夹持平台的上方固定连接设有测距仪。本实用新型与现有技术相比的优点在于：本汽车机械设备表面用除尘装置除尘效果好，方便自动清洗。
一种汽车机械设备表面除尘装置

[发明专利]用于防粘滞应用的可热移除填充材料-CN201880060452.5在审
发明人：德萨拉吉·瓦拉帕萨德;谢松元 -专利权人：霍尼韦尔国际公司
申请日： 2018-09-11 - 公布日： 2020-05-08 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于防止半导体衬底中形成的图案化高纵横比特征在从特征之间的空间移除用于清洁蚀刻残留物的类型的洗涤溶液时发生塌陷的方法。在本方法中，空间至少部分地填充有置换溶液，诸如经由旋涂，以基本上置换洗涤溶液。置换溶液包括至少一种溶剂和至少一种填充材料，至少一种填充材料是聚烯烃碳酸酯(PAC)和/或糖类。然后使溶剂挥发以便使填充材料以基本上固体形式沉积在空间内。可以经由热处理通过热降解来移除填充材料，其中消除了对通过等离子体灰化来移除填充材料的需要以便防止或减轻硅损失。
用于防粘滞应用可热移填充材料

[发明专利]用于减轻图案塌陷的改善填充材料-CN201880058583.X在审
发明人：德萨拉吉·瓦拉帕萨德;谢松元;约瑟夫·T·肯尼迪 -专利权人：霍尼韦尔国际公司
申请日： 2018-09-11 - 公布日： 2020-04-24 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于防止半导体衬底中形成的图案化高纵横比特征在从该特征之间的空间移除用于清洁蚀刻残留物的类型的初始流体时发生塌陷的方法。在本方法中，空间至少部分地填充有置换溶液，诸如经由旋涂，以基本上置换初始流体。该置换溶液包括至少一种溶剂以及以苯酚‑甲醛聚合物形式的第一填充材料和/或以聚烯烃碳酸酯(PAC)形式的第二填充材料中的至少一者或其组合。然后使该溶剂挥发以便使填充材料以基本上固体形式沉积在空间内。与使用当前填充材料相比，可以经由高蚀刻速率通过已知等离子体蚀刻过程来移除填充材料，这防止或减轻了硅损失。
用于减轻图案塌陷改善填充材料

[发明专利]适用于高级平面化应用的材料和旋涂方法-CN201780036256.X在审
发明人：德萨拉吉·瓦拉帕萨德;罗纳德·R·卡特桑斯;谢松元 -专利权人：霍尼韦尔国际公司
申请日： 2017-06-14 - 公布日： 2019-02-05 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明公开提供了一种组合物，所述组合物包括树脂，所述树脂包括一种或多种硅基材料、一种或多种有机基材料、或硅基材料和有机基材料的组合。所述组合物还包括沸点为140℃至250℃的第一溶剂和沸点为50℃至110℃的第二溶剂，其中所述第一溶剂与所述第二溶剂的重量比为1∶1至1∶5。还提供了将所述涂层施用到基底上的方法。
有机基材料第二溶剂第一溶剂硅基材料沸点树脂高级平面重量比基底旋涂施用应用

[发明专利]用于光电子应用的聚硅氧烷配制物和涂层、其制备方法和用途-CN201780029596.X在审
发明人： N.E.伊瓦莫托;J.T.肯尼迪;D.瓦拉普拉萨德;S.穆霍帕迪亚伊;谢松元 -专利权人：霍尼韦尔国际公司
申请日： 2017-03-03 - 公布日： 2018-12-21 - 主分类号： C09D183/04 文献下载
摘要：一种组合物包含溶剂、催化剂、包含甲基和苯基侧基的聚硅氧烷和包含亚苯基二甲硅烷基和对二甲硅烷基亚苯基的至少一种的交联剂。示例性的交联剂包括双甲硅烷基苯、双烷氧基硅烷、1,3‑双(三乙氧基甲硅烷基)苯和1,4‑双(三乙氧基甲硅烷基)苯、2,6‑双(三乙氧基甲硅烷基)‑萘、9,10‑双(三乙氧基甲硅烷基)‑蒽和1,6‑双(三甲氧基甲硅烷基)‑芘。
甲硅烷基三乙氧基交联剂苯基三甲氧基甲硅烷基聚硅氧烷配制物光电子应用甲硅烷基亚双甲硅烷基聚硅氧烷双烷氧基亚苯基溶剂侧基硅烷催化剂制备

[发明专利]液体钛氧化物组合物、用于形成所述组合物的方法和用于使用所述组合物蚀刻基材的或覆盖基材的材料层的方法-CN201480044622.2在审
发明人： H.X.徐;R.A.斯皮尔;R.Y.梁;L.M.梅廷;谢松元;Z.B.吴;J.肯尼迪 -专利权人：霍尼韦尔国际公司
申请日： 2014-06-02 - 公布日： 2016-06-08 - 主分类号： C09D1/00 文献下载
摘要：提供了液体钛氧化物组合物、用于形成此类组合物的方法和用于使用此类组合物蚀刻材料层的方法。依照一个示例性的实施方案，液体钛氧化物组合物包含溶剂体系、有机钛酸酯和具有约140℃至约400℃的沸点的高沸点溶剂。
液体氧化物组合用于形成方法使用蚀刻基材覆盖材料

[实用新型]鼠标垫-CN200520127060.6无效
发明人： 谢松元 -专利权人：通用矽酮股份有限公司
申请日： 2005-09-23 - 公布日： 2006-10-04 - 主分类号： G06F3/033 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种鼠标垫，底层是由一大面积的硅胶层，顶面设有一层较薄的耐磨层，该耐磨层是由聚氨酯塑料(PU，Polyurethane)材质所构成，所述耐磨层为非光滑面，由此形成一超薄、使用手感佳、不易脏的鼠标垫。
鼠标垫

[发明专利]农业园艺用新抗生素SP-120组合物的制备方法-CN85106596.1无效
发明人：戴仙文;谢松元;沈寅初;倪长春;黄瑞珊;杨慧心;见里朝正;矶野清;黄取堂;浦本昌和;日下部宽南;小日间君代 -专利权人：化学工业部科学技术局;日本科技厅
申请日： 1985-09-03 - 公布日： 1993-12-29 - 主分类号： C07G11/00 文献下载
摘要：本发明提供了一新抗生素SP-120，SP-120A，SP-120B及其制备方法，还提供了有效成分为SP-120，SP-120A，SP-120B或其复合体的农业园艺用农药。它们具有强选择性，又有高度安全性，对施用人员毫无影响并且无任何药害。是通过培养链霉菌SP.SP-120(StreptomycesSP.SP-120)来生产本发明的物质。
农业园艺抗生素 sp 120 组合制备方法

[其他]新抗生素SP-120，SP-120A，SP-120B及其制备方法和农业园艺用农药-CN85106596无效
发明人：戴仙文;谢松元;沈寅初;倪长春;黄瑞珊;杨慧心;見里朝正;磯野清;黄耿堂;浦本昌和;日下部宽南;小日间君代 -专利权人：化学工业部科学技术局;日本科技厅
申请日： 1985-09-03 - 公布日： 1987-03-25 - 主分类号： C12P19/54 文献下载
摘要：本发明提供了一新抗生素SP-120，SP-120A，SP-120B及其制备方法，还提供了有效成分为SP-120，SP-120A，SP-120B或其复合体的农业园艺用农药。它们具有强选择性，又有高度安全性，对施用人员毫无影响并且无任何药害。是通过培养链霉菌SP.SP-120(StreptomycesSP.SP—120)来生产本发明的物质。
抗生素 sp 120 及其制备方法农业园艺农药

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