专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种负极集流体制造方法-CN202310678458.1在审
  • 李金明;许永章 - 江西鸿美新能源科技有限公司
  • 2023-06-09 - 2023-10-13 - H01M4/64
  • 本发明涉本发明涉及锂电池材料制造领域,尤其涉及一种负极集流体制造方法,通过真空磁控溅射镀膜、微蚀、镀铜、涂覆最后烘干的方式制得负极集流体。本发明以Ni‑Cu合金膜为多孔合金材料,具有丰富的纳米和微米级孔隙结构,提高集流体与负极料之间的粘附力,降低充放电过程中含硅负极由于膨胀问题造成与集流体之间的脱离效果,改善了硅基负极的循环性能,通过孔隙结构为Si体积膨胀提供了空间,减少了膨胀带来的应力,从而有效减缓了硅负极的“粉化”情况。
  • 一种负极流体制造方法
  • [发明专利]一种用于印刷电路板的无镍水平沉铜工艺-CN202310681017.7在审
  • 喻荣祥;王颖;许永章;张本汉;余慧璇 - 信丰正天伟电子科技有限公司
  • 2023-06-09 - 2023-10-10 - C23C18/38
  • 本发明涉及印刷电路板生产技术领域,且公开了一种用于印刷电路板的无镍水平沉铜工艺,解决了目前印刷电路板处于沉铜液的不同深度,导致无法保证印刷电路板板面沉铜厚度一致的问题,其包括外壳,所述外壳的内部固定安装有沉铜池,沉铜池的底部对称固定安装有两个支撑板,两个支撑板的底部均固定于外壳的内部底壁上,外壳的顶部安装有升降机构,升降机构上安装有搅拌机构和限位机构,升降机构包括固定于外壳顶部的U型架;本发明,通过电机和传动轴之间的配合,便于圆盘转动,并通过驱动杆和U型板以及顶柱之间的配合,便于镂空箱带动其内部的印刷电路板上下移动,从而使得印刷电路板板面上的沉铜厚度均匀。
  • 一种用于印刷电路板水平工艺
  • [实用新型]一种电镀溶液取样装置-CN202321142102.8有效
  • 张元正;苗向阳;王佳城;许永章 - 信丰正天伟电子科技有限公司
  • 2023-05-12 - 2023-10-03 - G01N1/14
  • 本实用新型涉及取样装置技术领域,且公开了一种电镀溶液取样装置,解决了现有的电镀溶液取样装置使用安全性不好的问题,其包括取样盒,取样盒内部一侧的顶端设置有抽液泵和出液管一,出液管一的一侧设置有出液管二,取样盒内部一侧的底端设置有卡座,卡座的顶端设置有可拆卸取样杯,取样盒内部的另一侧设置有防护套管,防护套管两侧的顶端均开设有弧形槽,弧形槽的内部活动设置有压轮一和压轮二,防护套管的内部设置有抽液管,抽液管的两侧均设置有耐磨防滑条,抽液管的顶端与抽液泵之间通过耐腐蚀软管连接,取样盒的底端设置有防滴漏机构;通过该电镀溶液取样装置能够避免电镀液飞溅至人体和设备上,提高使用的安全性。
  • 一种电镀溶液取样装置
  • [实用新型]一种PCB浸洗装置-CN202321007550.7有效
  • 张文彬;张本汉;许永章;喻荣祥 - 信丰正天伟电子科技有限公司
  • 2023-04-28 - 2023-09-26 - H05K3/26
  • 本实用新型涉及电路板浸洗装置技术领域,且公开了一种PCB浸洗装置,解决了现有PCB浸洗装置存在使用不足的问题,其包括浸洗槽体,所述浸洗槽体内部的上部和下部均安装有转动清理部件,浸洗槽体内部中部的两侧均安装有固定输送部件,两个固定输送部件位于两个转动清理部件之间;两个转动清理部件均包括一对转动轴一,两对转动轴一分别转动连接在浸洗槽体内部的上部和下部,且两对转动轴一的中部均固定连接有清理刷,两对转动轴一的一端均延伸至浸洗槽体的后侧并能够固定连接有传动齿轮,一对转动轴一端部的两个传动齿轮啮合连接;本PCB浸洗装置带有自动固定与输送结构以及带有清理结构,其能够有效的对PCB板进行固定移动与清理操作。
  • 一种pcb浸洗装置
  • [实用新型]一种电镀槽-CN202320898139.7有效
  • 许永章;王佳城;苗向阳;张本汉 - 信丰正天伟电子科技有限公司
  • 2023-04-20 - 2023-08-25 - C25D17/00
  • 本实用新型涉及电镀槽技术领域,且公开了一种电镀槽,解决了现有电镀槽存在使用不足的问题,其包括电镀槽本体,所述电镀槽本体的顶部对称设有两个伸缩盖板,两个伸缩盖板两侧的一端均固定连接有连接块,连接块与电镀槽本体侧面的端部活动连接,电镀槽本体两侧的上部均转动连接有转动杆,两个转动杆的两侧分别与两个伸缩盖板同一侧的两个连接块传动连接,两个转动杆的一端部均固定连接有涡轮,电镀槽本体的一端固定连接有固定架,固定架的顶部安装有双出轴电机;本电镀槽具有转动调节功能的封闭盖板,该封闭盖板能够对使用的电镀槽进行密封遮盖,避免水汽及气味飘散到加工车间而污染加工环境以及影响工作身体健康。
  • 一种电镀
  • [实用新型]一种带有温控结构的电解槽-CN202320898431.9有效
  • 张本汉;张元正;苗向阳;许永章 - 信丰正天伟电子科技有限公司
  • 2023-04-20 - 2023-08-25 - C25B9/67
  • 本实用新型涉及电解槽技术领域,且公开了一种带有温控结构的电解槽,解决了现有的电解槽不具有温控功能的问题,其包括壳体,所述壳体的顶端依次设置有若干进液口、排液口、接线柱和热电偶,进液口、排液口和接线柱均连接于壳体顶端的侧边,热电偶固定连接于壳体顶端的中间位置并穿插于壳体,壳体正面一端的底部固定设置有温控壳体,温控壳体正面的一端固定设置有智能控制面板,温控壳体内部的一端由上至下依次设置有抽风机和充排气泵,温控壳体正面的另一端设置有网格板,壳体由外部保护壳、隔热保温层、若干气囊和内衬槽构成;通过该电解槽能够实现对温度的控制,从而提高电解效率,降低能耗。
  • 一种带有温控结构电解槽
  • [发明专利]一种用于电镀后铜板的保护剂溶液浸入结构-CN202210966044.4有效
  • 许永章;喻荣祥;张本汉;王颖 - 信丰正天伟电子科技有限公司
  • 2022-08-12 - 2023-06-23 - C23F11/14
  • 本发明公开了一种用于电镀后铜板的保护剂溶液浸入结构,涉及线路板技术领域,本发明包括:箱体,所述箱体的底部固定连接有升降机构,所述升降机构用于控制镀铜后线路板浸入箱体内的溶液内和伸出箱体内的溶液外;驱动机构;夹持机构;推送机构;本发明提供一种用于电镀后铜板的保护剂溶液浸入结构,通过夹持机构以及推送机构的设置,使得推送机构根据溶液的浮力推送镀铜的线路板在夹持机构上上下滑动,改变了夹持机构对镀铜线路板的夹持位置,解决了传统的夹持位置在浸入镀铜线路板时无法做到线路板位置的改变,使得线路板无法完全浸入溶液内,实现了线路板外表面能够完全浸入溶液内,使得线路板的外表面能够形成完整的保护膜。
  • 一种用于电镀铜板保护溶液浸入结构
  • [发明专利]一种铜表面防氧化剂组合物及其制备方法-CN202211624794.X在审
  • 许永章;张元正;张文彬;刘贤杰 - 深圳市正天伟科技有限公司
  • 2022-12-16 - 2023-05-26 - C23C22/40
  • 本申请涉及防氧化剂技术领域,具体提供一种铜表面防氧化剂组合物及其制备方法。本申请的铜表面防氧化剂组合物,按100%重量计,包括以下各原料组分:2‑3%酸、1‑2%短碳链醇、0.15‑0.25%苯并咪唑及其衍生物、0.15‑0.25%苯并三氮唑及其衍生物、0.01‑0.1%氨基酸聚合物、0.2‑0.4%硫酸钠、0.15‑0.25%钼酸钠、0.05‑0.1%酒石酸钾钠,余量为去离子水;优选示例中,原料组分还可以包含巯基三氮唑及其衍生物或巯基烷基聚乙二醇醚表面活性剂。采用本申请的铜表面防氧化剂组合物对铜进行处理,可以加快疏水膜的成膜速率及提高成膜完整性,提高铜表面的防氧化性能。
  • 一种表面氧化剂组合及其制备方法
  • [发明专利]一种PCB干膜显影槽清洗剂生产工艺-CN202310104140.2在审
  • 张本汉;张文彬;许永章;王颖;张元正 - 信丰正天伟电子科技有限公司
  • 2023-02-13 - 2023-05-09 - B01F33/81
  • 本发明公开了一种PCB干膜显影槽清洗剂生产工艺,该工艺步骤为:称量,按照配料比称取:硫酸:15~25%;乙酸:15~25%;助溶剂:3~7%;表面活性剂:1~4%;水:余量;预热和预混合,通过PCB干膜显影槽清洗剂生产设备对除水外的四种配料进行预热,提高分子活性,将四种配料进行预混合;进料:通过PCB干膜显影槽清洗剂生产设备将配料均匀分散在水中的上中下层;搅拌混合:通过PCB干膜显影槽清洗剂生产设备使水呈螺旋状运动,并且同步搅拌液体,液体形成乱流,实现混合;同步清洗:PCB干膜显影槽清洗剂生产设备内部进行自清洗,防止设备腐蚀。本发明搅拌时间有效缩短,混合均匀度也优于现有方式的混合。
  • 一种pcb显影洗剂生产工艺
  • [发明专利]一种显影槽清洗剂的制备工艺-CN202310051992.X在审
  • 许永章;张本汉;喻荣祥;张元正;张文彬;王颖 - 信丰正天伟电子科技有限公司
  • 2023-02-02 - 2023-04-18 - B01F27/90
  • 本发明公开了一种显影槽清洗剂的制备工艺,步骤为:制备表面活性剂,使用显影槽清洗剂加工设备制备表面活性剂;收集,通过显影槽清洗剂加工设备将实施步骤一泄漏出的气体进行收集,并对收集的气体重新利用;称量,按质量称取硫酸:10~20%、乙酸:10~30%、增溶剂:1~5%、步骤一中制得的表面活性剂:0.5~3%、水:余量;混合,将步骤二中称取的硫酸、乙酸、增溶剂、表面活性剂和水混合搅拌,得到混合溶液;搅拌,对步骤三中混合溶液充分搅拌,制得显影槽的清洗剂;通过本发明制备的显影槽清洗剂,可高效乳化粘附在设备上的干/湿膜残留物。
  • 一种显影洗剂制备工艺

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