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- [发明专利]光信息记录介质-CN200610132066.1无效
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角田毅;齐藤真二;石田寿男
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富士胶片株式会社
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2002-04-26
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2007-03-21
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G11B7/246
- 本发明提供C/N和再现耐久性都优秀且可无故障进行高密度记录的光记录介质。另外,提供照射短波长蓝色激光可进行信息的高密度且大容量记录和再现并具有感光度和反射率均优秀的记录特性的光信息记录介质。该光记录介质使用450nm以下的激光进行记录再现,在形成了轨道间距为200~400nm、槽深为50~150nm、槽半值宽度为90~200nm的凹槽的基板上,设置反射层、记录层等,且前述记录层含有在600~800nm和300~400nm分别具有极大吸收在1以上的有机物。该光信息记录介质,是基板上具有通过数值孔径(NA)0.7以上的透镜照射波长380~500nm的激光可记录信息的记录层的光信息记录介质,其特征在于,前述记录层是含有有机物的层,且前述基板的槽深是15~45nm,轨道间距为250~400nm,槽半值宽度为60~200nm,槽的倾斜角为40~80°。
- 信息记录介质
- [发明专利]光信息记录介质及其制造方法-CN03101912.9无效
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角田毅;石田寿男;小泽贵子
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富士胶片株式会社
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2003-01-23
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2003-08-06
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G11B7/24
- 一种光信息记录介质,在基板上,自基板一侧依次有记录层、中间层、粘合剂层、以及覆盖薄膜,可通过激光的照射进行信息的记录与再生,在所述粘合剂层中,含有其玻璃化转变温度Tg在0℃以下的聚合物。本发明还涉及一种光信息记录介质的制造方法,在基板上设置记录层一侧的表面上,贴附由设置粘接层的覆盖薄膜所构成的覆盖层,且该粘接层与所述表面相接触,所述覆盖层是经过依次层压第1脱模薄膜、粘接层、覆盖薄膜、以及第2脱模薄膜而成的层压体形成工艺、和将该层压体卷成辊状的工艺而制作的,且所述第1脱模薄膜的与所述粘接层的表面相接合的面的中心面平均粗糙度为50nm以下,另一面的中心面平均粗糙度为100nm以下,厚度为20μm以上。
- 信息记录介质及其制造方法
- [发明专利]光信息记录介质-CN02118520.4无效
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角田毅;齐藤真二;石田寿男
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富士胶片株式会社
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2002-04-26
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2002-12-04
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G11B7/24
- 本发明提供C/N和再现耐久性都优秀且可无故障进行高密度记录的光记录介质。另外,提供照射短波长蓝色激光可进行信息的高密度且大容量记录和再现并具有感光度和反射率均优秀的记录特性的光信息记录介质。该光记录介质使用450nm以下的激光进行记录再现,在形成了轨道间距为200~400nm、槽深为50~150nm、槽半值宽度为90~200nm的凹槽的基板上,设置反射层、记录层等,且前述记录层含有在600~800nm和300~400nm分别具有极大吸收在1以上的有机物。该光信息记录介质,是基板上具有通过数值孔径(NA)0.7以上的透镜照射波长380~500nm的激光可记录信息的记录层的光信息记录介质,其特征在于,前述记录层是含有有机物的层,且前述基板的槽深是15~45nm,轨道间距为250~400nm,槽半值宽度为60~200nm,槽的倾斜角为40~80°。
- 信息记录介质
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