“藤泽泰充”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果4个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]光学装置、曝光装置以及曝光方法-CN202211742609.7在审
发明人：西村辰彦;藤泽泰充 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2022-12-30 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： G02B27/00 文献下载
摘要：本发明的光学装置、使用该光学装置的曝光装置及曝光方法的目的在于，在使光的行进路径发生位移的技术中，既为简单的结构，又能够抑制像散差的增大并且能够进行位移量的调整。本发明的光学装置使输入光的行进路径发生位移并输出沿着与输入光的光路平行且不相同的光路的输出光。光学装置具有：第一楔形棱镜，将输入光向该第一楔形棱镜入射的入射角设定为使射出光的偏角最小的角度；第二楔形棱镜，其顶角与第一楔形棱镜大致相同，其与第一楔形棱镜相互反向地相对配置；位移量调整机构，支撑第一楔形棱镜和第二楔形棱镜，改变它们之间的距离来对位移量进行调整；补正光学元件，配置于输入光的光路或输出光的光路，对输出光中出现的像散差进行补正。
光学装置曝光以及方法

[发明专利]曝光装置以及曝光方法-CN202310288062.6在审
发明人：水端稔;秩父孝夫;藤泽泰充 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2023-03-22 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明的曝光装置以及曝光方法能够提供一种在利用从多个光源生成的激光光束对基板进行曝光的技术中，还能够适当地应对描绘中可能产生的光源的经时变动的技术。在本发明的曝光装置以及曝光方法中，在激光光束的光路上检测激光光束。在执行描绘中检测出的激光光束的光斑尺寸偏离规定的适当范围时，执行规定的错误处理。
曝光装置以及方法

[发明专利]光学装置以及三维造型装置-CN202110358008.5有效
发明人：水野博文;桥本佳三;藤泽泰充 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2021-04-01 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： B22F12/41 文献下载
摘要：光学装置(12)包括照明光学系统(21)、光调制器(22)以及投影光学系统(23)。照明光学系统(21)包括：光束整形器(213)，将激光(L31)的短轴方向和长轴方向上的强度分布从高斯分布进行变换，并使光调制器的调制面上的平行光束(L32)的短轴方向和长轴方向的强度分布成为平顶分布。在投影光学系统中，在长轴方向上利用第三透镜(223)以及第四透镜(234)使上述调制面与照射面(131)光学共轭。另外，在短轴方向上，利用第一透镜(231)、第二透镜(232)以及第三透镜(233)使该调制面与第四透镜(234)的前侧焦点位置光学共轭。第四透镜(234)将该前侧焦点位置处的平顶分布的光束在照射面(131)会聚。由此，能够增加向光调制器投入的光量。
光学装置以及三维造型

[发明专利]曝光数据生成方法、多层立体结构的制造方法、曝光数据生成装置、计算机可读存储介质及多层立体结构的制造系统-CN201580078204.X有效
发明人： 藤泽泰充;古谷祥雄 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2015-11-25 - 公布日： 2019-04-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及多层立体结构的制造，提供能够分别调整凹凸面中的各凹部的深度且能够抑制曝光位置的位置偏移导致的凹凸面的形状变化的技术。在本发明中，通过对在各层重复进行抗蚀剂层的形成与对该抗蚀剂层进行选择性的曝光而生成的抗蚀剂层叠体进行显影，来制造多层立体结构。因此，根据对于各抗蚀剂层的各曝光图案，能够分别调整凹凸面中的各凹部的深度。另外，在本发明中，曝光数据的曝光区域由凸面区域、凹面区域以及凹面周围区域构成。因此，即使在两层偏移的情况下，也能在对某两个抗蚀剂层进行曝光时，抑制在多层立体结构的凹凸面产生意料之外的台阶差。
曝光数据生成方法制造装置程序系统