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[发明专利]一种多监控点光学膜厚直接监控系统-CN202310721596.3在审
发明人： 董所涛;潘永刚;林兆文;王奔;陈晓东;付秀华 -专利权人：广东长理精讯光电科技有限公司
申请日： 2023-06-16 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本申请提供一种多监控点光学膜厚直接监控系统，涉及光学薄膜制备仪器技术领域。所述多监控点光学膜厚直接监控系统包括设于待监控膜厚基板上的多点位监控片、光源装置、光路传输系统、光谱分析装置、探测器、放大器装置、信号转换装置和信号处理系统，所述光源装置发出的光线透过与所述待监控膜厚基板同时镀膜的多点位监控片，然后经所述光路传输系统传输至所述光谱分析装置进行光信号处理，所述探测器将处理后的光信号转换成电流信号并传输至所述放大器装置，所述放大器装置将电流信号转换成电压信号并放大，所述信号转换装置将放大后的电压信号转换成数字信号并传输至所述信号处理系统，所述信号处理系统经信号处理后获得膜厚监控数据。
一种监控光学直接系统

[发明专利]一种宽带超低减反射膜及其制备方法-CN202310653220.3在审
发明人：付秀华;魏雨君;陈琦;董所涛;林兆文;王奔;潘永刚 -专利权人：中山吉联光电科技有限公司;长春理工大学中山研究院
申请日： 2023-06-02 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： G02B1/11 文献下载
摘要：本申请提供一种宽带超低减反射膜及其制备方法，涉及光学薄膜技术领域，包括：S1、将基板放入真空室内，对真空室抽真空，当真空度为1×10‑1～5×10‑2Pa时，对基板进行烘烤，烘烤温度为220～300℃，烘烤时间不少于1小时；S2、当真空度达到6×10‑4～9×10‑4Pa时，采用离子源对基板进行预清洁；S3、开启挡板前将SiO2膜料和Ti3O5膜料预熔至蒸发状态，打开挡板后在预清洁后的基板上利用SiO2膜料和Ti3O5膜料交替镀膜；S4、开启挡板前将MgF2膜料和最后一层SiO2膜料预熔至蒸发状态，打开挡板后在前层材料上进行MgF2膜料的镀膜，然后加镀SiO2膜料，得到宽带超低减反射膜。
一种宽带减反射膜及其制备方法