专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [其他]二氧化碲单晶体的生长技术-CN101985000007803在审
  • 蒲芝芬;葛增伟 - 中国科学院上海硅酸盐研究所
  • 1985-10-09 - 1989-09-13 -
  • 一种属于晶体生长技术的二氧化碲(TeO2)单晶体生长。其特征在于用坩埚下降法可生长多种切向和形状的单晶体。利用本技术可沿[100][001][110]方向并可沿其中任一方向生长方棒、椭圆形、菱形、板状及圆柱形晶体。所生长晶体可达(70~80)mm×(20~30)mm×100mm。本方法与一般提拉法比具有设备简单,不受提拉方向和切形限制,基本无污染等优点,而且晶体利用率可相应提高30~100%。
  • 氧化单晶体生长技术

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