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[发明专利]用于分析物传感器插入的系统、装置和方法-CN202180053331.X在审
发明人：维韦克·S·拉奥;安东尼·林·彻恩;菲利普·W·卡特;乔舒·亚林赛;图安·恩固因;文森特·M·迪帕尔马 -专利权人：雅培糖尿病护理公司
申请日： 2021-08-27 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： A61B17/34 文献下载
摘要：本申请公开了一种用于输送分析物传感器的组件和方法，该分析物传感器包括具有近侧部分和远侧部分的可重复使用的施加器。可重复使用的施加器可包括壳体、配置为可释放地接收第一分析物传感器的传感器载体、配置为可释放地接收尖锐件模块的尖锐件载体，以及可相对于壳体移动的致动器。致动器可包括三个位置：传感器载体和尖锐件载体在可重复使用的施加器的近侧部分处的第一位置，传感器载体和尖锐件载体在可重复使用的施加器的远侧部分处的第二位置，用于输送第一分析物传感器，以及在从可重复使用的施加器输送第一分析物传感器之后，传感器载体在可重复使用的施加器的远侧部分处并且尖锐件载体在可重复使用的施加器的近侧部分处的第三位置，其中，第一位置、第二位置和第三位置是不同的，并且其中，致动器配置为从第三位置返回到第一位置，用于输送另一个分析物传感器。
用于分析传感器插入系统装置方法

[发明专利]用于分析物传感器施加器的系统、装置和方法-CN202180053333.9在审
发明人：维韦克·S·拉奥;安东尼·林·彻恩;菲利普·W·卡特;乔舒·亚林赛;图安·恩固因 -专利权人：雅培糖尿病护理公司
申请日： 2021-08-11 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： A61B5/1459 文献下载
摘要：公开了一种用于输送分析物传感器的组件和方法，该分析物传感器包括具有近侧部分和远侧部分的可重复使用施加器。可重复使用施加器可包括：壳体；传感器载体，该传感器载体为配置成可释放地接收第一分析物传感器的传感器载体；尖锐物载体，该尖锐物载体配置为可释放地接收尖锐物模块，并且可在可重复使用施加器的近侧部分和可重复使用施加器的远侧部分之间移动，以用于从可重复使用施加器输送第一分析物传感器；以及重置工具，该重置工具配置为重置可重复使用施加器以输送另一个分析物传感器。
用于分析传感器施加系统装置方法

[外观设计]分析物传感器装置-CN202030796725.2有效
发明人：马修·西蒙斯;彼得·罗宾森;维韦克·劳;文森特·迪帕尔马;菲利普·W·卡特;米谢勒·旺;贝纳斯·塞伊菲·诺费雷斯特 -专利权人：雅培糖尿病护理公司
申请日： 2020-12-23 - 公布日： 2021-12-07 - 主分类号： 10-05 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：分析物传感器装置。2.本外观设计产品的用途：用作分析物传感器装置，用于测量使用者体内的分析物，用于医疗领域。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：设计1立体图1。5.指定设计1为基本设计。6.设计1分解状态图1中的E部为半透明材料；设计2分解状态图1中的F部为透明材料；设计3分解状态图1中的G部为半透明材料；设计4分解状态图1中的H部为半透明材料。
分析传感器装置

[外观设计]分析物传感器-CN202130421204.3有效
发明人：马修·西蒙斯;彼得·罗宾森;维韦克·劳;文森特·迪帕尔马;菲利普·W·卡特;米谢勒·旺;贝纳斯·塞伊菲·诺费雷斯特 -专利权人：雅培糖尿病护理公司
申请日： 2020-12-23 - 公布日： 2021-11-09 - 主分类号： 10-05 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：分析物传感器。2.本外观设计产品的用途：用作分析物传感器，用于测量使用者体内的分析物水平，用于医疗领域。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：设计1立体图1。5.指定设计1为基本设计。
分析传感器

[发明专利]用于分析物传感器插入的系统、装置和方法-CN201980082748.1在审
发明人：维韦克·S·拉奥;文森特·M·迪帕尔马;菲利普·W·卡特;吴学杰;乔纳森·D·麦坎利斯;史蒂文·T·米切尔;乌多·霍斯;彼得·G·鲁滨逊;安德鲁·H·内格利;斯蒂芬·T·普吉扬托;艾伦·C·布恩孔瑟若;米歇尔·旺;马修·西蒙斯 -专利权人：雅培糖尿病护理公司
申请日： 2019-06-06 - 公布日： 2021-07-30 - 主分类号： A61M5/32 文献下载
摘要：提供了用于插入体内分析物传感器的至少一部分的系统、装置和方法，体内分析物传感器用于感测受试者的体液中的分析物水平。具体地，本文公开了涂敷器及其部件的各种实施方式，其设计成减少对传感器插入部位的组织的创伤并增加传感器成功插入的可能性。还公开了确保传感器的结构完整性的实施方式。
用于分析传感器插入系统装置方法

[发明专利]用于化学机械抛光的摩擦减小辅助物-CN200680043796.2在审
发明人：凯文·J·莫根伯格;菲利普·W·卡特 -专利权人：卡伯特微电子公司
申请日： 2006-10-24 - 公布日： 2008-11-26 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明提供一种用于抛光基板的化学机械抛光系统，其包含抛光组分、水溶性硅酸盐化合物、氧化剂及水，其中该抛光系统的pH为8至12。本发明进一步提供一种用前述抛光系统对基板进行化学机械抛光的方法。该抛光系统在基板的抛光过程中提供减小的摩擦。
用于化学机械抛光摩擦减小辅助

[发明专利]抛光含硅电介质的方法-CN200480002763.4有效
发明人： 菲利普·W·卡特;蒂莫西·P·约翰斯 -专利权人：卡伯特微电子公司
申请日： 2004-02-02 - 公布日： 2006-03-01 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明涉及抛光含硅介电层的方法，包括使用含有下列物质的化学－机械抛光体系：(a)无机研磨剂、(b)抛光添加剂、和(c)液体载体，其中该抛光组合物的pH值为约4－约6。该抛光添加剂含有pK_a为约3－约9的官能团并选自芳基胺、氨基醇、脂族胺、杂环胺、氧肟酸、氨基羧酸、环状一元羧酸、不饱和一元羧酸、取代酚、磺酰胺、硫醇、其盐、及其组合。本发明进一步涉及化学－机械抛光体系，其中该无机研磨剂为氧化铈。
抛光电介质方法

[发明专利]用于替换介质内容物的装置和方法-CN03824065.3有效
发明人：戴维·J·施罗德;凯文·J·莫根伯格;霍默·乔;杰弗里·P·张伯伦;约瑟夫·D·霍金斯;菲利普·W·卡特 -专利权人：卡伯特微电子公司
申请日： 2003-09-29 - 公布日： 2005-10-26 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明提供抛光基材的方法，包括：(i)将包含至少一含铜金属层的基材与化学－机械抛光(CMP)系统接触，及(ii)研磨至少一部分的该含铜金属层，以抛光该基材。该CMP系统包含(a)研磨剂、(b)两亲性非离子表面活性剂、(c)氧化该金属层的方式、(d)有机酸、(e)抗蚀剂及(f)液态载体。本发明还提供抛光基材的两步法，该基材包含第一金属层及不同的第二金属层。第一金属层用包含研磨剂和液态载体的第一CMP系统抛光，而第二金属层则用包含(a)研磨剂、(b)两亲性非离子表面活性剂和(c)液态载体的第二CMP系统抛光。
用于替换介质内容装置方法

[发明专利]用于CMP的经正电性聚电解质处理的阴离子性研磨颗粒-CN03803719.X有效
发明人：艾萨克·K·彻里安;菲利普·W·卡特;杰弗里·P·张伯伦;凯文·J·莫根伯格;戴维·W·博尔德里奇 -专利权人：卡伯特微电子公司
申请日： 2003-02-10 - 公布日： 2005-06-22 - 主分类号： C09G1/16 文献下载
摘要：本发明提供化学机械抛光体系及利用该抛光体系抛光基底的方法，其中该体系包括(a)研磨剂，(b)液体载剂，及(c)分子量为约15,000或更高的正电性聚电解质，其中该研磨剂包括与该正电性聚电解质静电结合的颗粒。
用于 cmp 正电电解质处理阴离子研磨颗粒

[发明专利]涉及基于频率分析监视的化学机械抛光处理-CN02815555.6无效
发明人： 菲利普·W·卡特;杰弗里·P·张伯伦 -专利权人：卡伯特微电子公司
申请日： 2002-08-19 - 公布日： 2005-04-13 - 主分类号： G05B19/416 文献下载
摘要：本发明提供一种监视化学机械抛光处理的方法，包含以下步骤：自化学机械抛光处理接收实时数据信号，其中所述实时数据信号与摩擦力、力矩、马达电流有关；将该数据信号转换成一不同频率的信号的功率频谱，其中各频率总和等于该原始数据信号；识别并监视该功率频谱的对应于所述化学机械抛光处理的信号成分；检测该信号成分的振幅或频率的变化；及改变所述化学机械抛光处理以响应所检测的变化。本发明也提供一种完成上述方法的装置。
涉及基于频率分析监视化学机械抛光处理

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