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[发明专利]光谱仪布置-CN201080058824.4有效
发明人： S.弗洛雷克;H.贝克-罗斯;M.奥克鲁斯 -专利权人： 莱布尼茨解析科学学院
申请日： 2010-12-13 - 公布日： 2012-09-05 - 主分类号： G01J3/18 文献下载
摘要：一种光谱仪布置（10），其包含有中阶梯光栅（18；46）以用于把入射到该光谱仪布置（10）中的射线在主散射方向上进行散射，以及散射布置（16；40）以用于把由入射到该光谱仪布置中的射线所生成的平行射束在横向散射方向上进行散射，其特征在于，该散射布置（16；40）构造为反射性的，并关于该中阶梯光栅（18；46）如此来布置，使得该平行射束被反射到该中阶梯光栅的方向上。该中阶梯光栅（18；46）可以优选地如此来布置，使得被分散的射线被反射返回到该散射布置（16；40）的方向上。
光谱仪布置

[发明专利]具有内部预色散的中阶梯光栅光谱仪装置-CN201080015286.0有效
发明人： H.贝克-罗斯;S.弗洛雷克;M.奥克鲁斯 -专利权人： 莱布尼茨解析科学学院
申请日： 2010-01-25 - 公布日： 2012-03-14 - 主分类号： G01J3/18 文献下载
摘要：具有内部级次分离的中阶梯光栅光谱仪装置（10）包含中阶梯光栅（34）和色散元件（38）、成像光学系统（18，22，28，46）、面检测器（16）以及预色散装置（20），所述色散元件（38）用于进行级次分离，使得可产生具有多个被分离的级次（56）的二维谱，所述预色散装置（20）用于朝色散元件（38）的横向色散的方向使辐射预色散。该装置的特征在于：预色散装置（20）包括预色散元件，该预色散元件沿着光学路径被布置在光谱仪装置内部的入射缝隙（12）之后；成像光学系统被构造为使得预色散辐射可以被成像到附加的在预色散方向上无限制的图像平面（24）中，该图像平面（24）沿着光学路径被布置在预色散元件（20）和中阶梯光栅（34）之间；以及光学装置（20,68）被设置在预色散光谱的位置上，用于影响在检测器（16）上的空间和/或光谱辐射密度分布。
具有内部色散阶梯光栅光谱仪装置

[发明专利]光谱计装置-CN200880020833.7无效
发明人： H·贝克-罗斯;M·奥克鲁斯;S·弗洛雷克 -专利权人： 莱布尼茨解析科学学院
申请日： 2008-05-09 - 公布日： 2010-08-11 - 主分类号： G01J3/02 文献下载
摘要：一种光谱计装置(10)具有光谱计，用于在探测器(34)上产生来自辐射源的辐射的光谱，它包含有一个成像的，光学的利特罗装置(18，20)，用于使进入光谱计装置里的辐射(16)成像在一个图像平面里，有第一分散装置(28，30)，用于对进入光谱计装置里的辐射的第一波长范围进行光谱分解，还有第二分散装置(58，60)，用于对进入光谱计装置里的辐射的第二波长范围进行光谱分解，以及有一个共同的布置在成像光学机构的图像平面里的探测器(34)，其特征在于，成像的光学机构(18，20)包括有在两个位置(20，50)之间运动的元件(20)，其中射入光谱计装置里的辐射在第一位置上通过第一分散装置，而在第二位置上通过第二分散装置进行传导。
光谱装置