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[发明专利]防污性膜的制造方法-CN201780043471.2有效
发明人：林秀和;田口登喜生;中松健一郎;芝井康博;厚母贤;山下恒雄;阪本英司;新居沙弥;荒木孝之 -专利权人：夏普株式会社;大金工业株式会社
申请日： 2017-07-03 - 公布日： 2021-12-14 - 主分类号： B05D5/00 文献下载
摘要：本发明提供一种能以长期间连续制造防污性优异的防污性膜的防污性膜的制造方法。本发明的防污性膜的制造方法是具备在表面具有以可见光的波长以下的间距设有多个凸部的凹凸结构的聚合物层的防污性膜的制造方法，包括：将树脂涂敷到基材的表面上的工序(1)；在涂敷有第一脱模剂的模具的表面上涂敷第二脱模剂的工序(2)；在将上述树脂夹在中间的状态下，将上述基材按压到上述模具的涂敷有上述第二脱模剂的表面，在上述树脂的表面形成上述凹凸结构的工序(3)；以及使在表面具有上述凹凸结构的上述树脂固化，形成上述聚合物层的工序(4)，上述树脂含有包含规定的化合物而成的防污剂，上述第一脱模剂是包含规定的化合物而成的，上述第二脱模剂是包含规定的化合物而成的。
防污制造方法

[发明专利]防污性膜的制造方法-CN201780043472.7有效
发明人：林秀和;田口登喜生;中松健一郎;芝井康博;厚母贤;山下恒雄;新居沙弥;阪本英司;英翔;三桥尚志;荒木孝之 -专利权人：夏普株式会社;大金工业株式会社
申请日： 2017-07-03 - 公布日： 2021-04-20 - 主分类号： B29C59/04 文献下载
摘要：本发明提供一种防污性和耐擦性优异的防污性膜的制造方法。本发明的防污性膜的制造方法是具备在表面以可见光的波长以下的间距设有多个凸部的凹凸结构的聚合物层的防污性膜的制造方法，包括：将树脂涂敷到基材的表面上的工序(1)；在将上述树脂夹在中间的状态下将上述基材按压到模具，在上述树脂的表面形成上述凹凸结构的工序(2)；以及使在表面具有上述凹凸结构的上述树脂固化，形成上述聚合物层的工序(3)，上述树脂含有包含具有全氟(聚)醚基团的化合物而成的防污剂，上述模具的表面用包含具有全氟(聚)醚基团、可水解的基团以及Si原子的化合物而成的脱模剂实施了脱模处理。
防污制造方法

[发明专利]具有转印图案的被转印物的制造方法-CN201780034912.2有效
发明人：山下恒雄;阪本英司;英翔;新居沙弥;荒木孝之 -专利权人：大金工业株式会社
申请日： 2017-06-14 - 公布日： 2020-11-06 - 主分类号： B29C33/62 文献下载
摘要：本发明提供一种制造方法，其中即使反复进行转印，被转印物也不容易从基板剥离或附着于模具。一种被转印物的制造方法，其特征在于，其包括下述工序：工序(1)，将含有氟聚醚的组合物涂布至形成有脱模层的在表面具有凹凸图案的模具的上述脱模层；工序(2)，将上述模具压抵至被转印物，转印上述凹凸图案；以及工序(3)，将上述模具从上述被转印物脱模，得到具有转印图案的上述被转印物。
具有图案被转印物制造方法

[发明专利]聚氯三氟乙烯膜-CN201310167972.5无效
发明人：尾崎秀典;川崎健次;樋口达也;荒木孝之 -专利权人：大金工业株式会社
申请日： 2009-05-21 - 公布日： 2013-09-18 - 主分类号： C08L27/12 文献下载
摘要：本发明提供一种聚氯三氟乙烯膜，其兼具紫外线屏蔽能力、防湿性及低热变形率的聚氯三氟乙烯膜。本发明的聚氯三氟乙烯膜的特征在于，其紫外线屏蔽率为70%以上、水蒸气透过率为1.00g/m2·天以下、且在150℃加热30分钟后的热变形率的绝对值为5.0%以下。
聚氯三氟乙烯

[发明专利]太阳能电池组件用耐候性片材和使用该片材的制品以及该太阳能电池组件用耐候性片材的制造方法-CN201180006083.X有效
发明人：中川秀人;午坊健司;青木和子;荒木孝之;鸟居宽;山本喜久;藤田英二 -专利权人：大金工业株式会社
申请日： 2011-01-13 - 公布日： 2012-10-03 - 主分类号： B32B27/30 文献下载
摘要：提供一种与不透水性片材的密合性和耐粘连性得到了进一步的提高、同时与作为密封剂的EVA的密合性也得到了提高的太阳能电池组件用耐候性片材；该太阳能电池组件用耐候性片材的固化涂膜层能够显著抑制UV透过性的太阳能电池组件用耐候性片材和使用该片材的制品以及该太阳能电池组件用耐候性片材的制造方法。该太阳能电池组件用耐候性片材为在不透水性片材上形成固化涂膜层而成的太阳能电池组件用耐候性片材，所述固化涂膜层由涂料组合物的交联物构成，该涂料组合物含有含羟基的氟聚合物；该片材的特征在于，在该固化涂膜层的交联度为80%～99%的时刻进行测定的耐压接性试验中，在固化涂膜层与未形成有固化涂膜层的不透水性片材叠合的状态下，在施加负荷后未密合。
太阳能电池组件用耐候性片材使用该片制品以及制造方法

[发明专利]聚光膜及其制造方法、聚光元件、太阳能电池以及聚光方法-CN201080040273.9有效
发明人：佐藤数行;尾崎秀典;荒木孝之 -专利权人：大金工业株式会社
申请日： 2010-09-10 - 公布日： 2012-05-30 - 主分类号： G02B5/32 文献下载
摘要：本发明提供能够以高效率聚集宽角度范围的入射光的聚光方法和聚光膜、具备该聚光膜的聚光元件、以及太阳能电池。本发明涉及一种聚光膜，其特征在于，其为由有机材料构成的聚光膜，其具有多级层次图案。
聚光及其制造方法元件太阳能电池以及

[发明专利]废塑料的再利用方法和成型方法-CN201110306374.2无效
发明人： 荒木孝之;福田耕一;加藤健次 -专利权人：新日本制铁株式会社
申请日： 2004-10-20 - 公布日： 2012-04-11 - 主分类号： C10B53/07 文献下载
摘要：本发明提供了一种废塑料的再利用方法和成型方法，其可以形成作为焦炉的配合原料的、挥发性成分或油化物减少至适当程度的、即使在装入焦炉后也能保持合适形状的塑料颗粒化物，并且不需要用于处理产生的氯化氢气体的昂贵的设备；本发明的废塑料的再利用方法的特征在于，使废塑料在大于160℃小于等于250℃的温度下部分或全部熔融来进行压缩成型，由此形成表观密度为0.7～1.2kg/升的塑料颗粒化物，将该塑料颗粒化物与煤混合后，用焦炉进行干馏。通过使在废塑料压缩成型时产生的气体与水或氨水接触，并且使该水或氨水合流到焦炉附带的氨水处理设备的氨水中，可以除去在产生气体中含有的氯化氢。
塑料再利用方法成型

[发明专利]聚氯三氟乙烯膜以及太阳能电池用背面保护板-CN200980117537.3无效
发明人：尾崎秀典;川崎健次;樋口达也;荒木孝之 -专利权人：大金工业株式会社
申请日： 2009-05-21 - 公布日： 2011-04-20 - 主分类号： C08J5/18 文献下载
摘要：本发明提供兼具紫外线屏蔽能力、防湿性及低热变形率的聚氯三氟乙烯膜。本发明的聚氯三氟乙烯膜的特征在于，其紫外线屏蔽率为70％以上、水蒸气透过率为1.00g/m2·天以下、且在150℃加热30分钟后的热变形率的绝对值为5.0％以下。
聚氯三氟乙烯以及太阳能电池背面保护

[发明专利]废塑料的再利用方法和成型方法-CN201010145129.3有效
发明人： 荒木孝之;福田耕一;加藤健次 -专利权人：新日本制铁株式会社
申请日： 2004-10-20 - 公布日： 2010-08-18 - 主分类号： C10B57/04 文献下载
摘要：本发明提供了一种废塑料的再利用方法和成型方法，其可以形成作为焦炉的配合原料的、挥发性成分或油化物减少至适当程度的、即使在装入焦炉后也能保持合适形状的塑料颗粒化物，并且不需要用于处理产生的氯化氢气体的昂贵的设备；本发明的废塑料的再利用方法的特征在于，使废塑料在大于160℃小于等于250℃的温度下部分或全部熔融来进行压缩成型，由此形成表观密度为0.7～1.2kg/升的塑料颗粒化物，将该塑料颗粒化物与煤混合后，用焦炉进行干馏。通过使在废塑料压缩成型时产生的气体与水或氨水接触，并且使该水或氨水合流到焦炉附带的氨水处理设备的氨水中，可以除去在产生气体中含有的氯化氢。
塑料再利用方法成型

[发明专利]含氟粘合性材料和用其制成的层压体-CN200610100037.7无效
发明人： 荒木孝之;北原隆宏;匂坂重仁;加藤丈人;稻叶刚志;石割和夫;清水哲男;尾崎秀典;樋口达也 -专利权人：大金工业株式会社
申请日： 1999-03-05 - 公布日： 2008-04-09 - 主分类号： B32B27/00 文献下载
摘要：聚合物链末端或侧链上有碳酸酯基和/或羧酰卤基，且碳酸酯基和/或羧酰卤基的数目合计相对于主链碳原子数1×10⁶个而言为150个以上的含氟乙烯类聚合物组成的含氟粘合性材料，能使氟聚合物所具有的优异耐药品性、耐溶剂性、耐候性、防污性等特性保持原样，还能赋予对金属、玻璃、树脂等基材的直接牢固粘合性。
粘合材料制成层压

[发明专利]树脂组合物-CN200710096050.4无效
发明人： 荒木孝之;久米川昌浩;宫森强;加藤雅己;小森政二;加藤丈人;清水哲男 -专利权人：大金工业株式会社
申请日： 1996-10-25 - 公布日： 2007-09-19 - 主分类号： C08L27/18 文献下载
摘要：本发明提供一种既维持了含氟聚合物的优良耐热性、耐腐蚀性、表面特性(不粘合性、低摩擦性)和电绝缘性等特性，又使成型制品兼具优良的机械特性和耐磨耗性等性能的树脂组合物以及用其成型的制品及其制法。一种树脂组合物，它是由特定比例的以下组分组成：(A－2)使具有羟基、羧基或羧酸盐或羧酸酯基或者环氧基中任一种的含氟乙烯性单体的至少一种以占单体总量0.05～30mol％的比例共聚获得的含氟乙烯性聚合物，(B－2)无机填充剂或预先使其不可熔的有机填充剂，与(C)侧链上不含官能团的含氟乙烯性聚合物。
树脂组合

[发明专利]含有含氟聚合物的非线性光学材料-CN200610168722.3无效
发明人： 荒木孝之;田中义人;大桥美保子;小松雄三 -专利权人：大金工业株式会社
申请日： 2002-05-16 - 公布日： 2007-06-20 - 主分类号： G02F1/355 文献下载
摘要：本发明涉及一种含氟非线性光学材料，该非线性光学材料能维持近红外波长范围的透明性，同时利用比较简单的工艺即可制造优秀的非线性光波导型元件。
含有聚合物非线性光学材料

[发明专利]偏氟乙烯均聚物薄膜的形成方法-CN200580009081.0无效
发明人： 荒木孝之;小谷哲浩 -专利权人：大金工业株式会社
申请日： 2005-03-09 - 公布日： 2007-03-21 - 主分类号： B05D7/24 文献下载
摘要：本发明涉及偏氟乙烯均聚物薄膜的形成方法，该方法利用比较简单的方法(涂布条件、方法等)来提供可以适用于各种基材的I型结晶结构的末端为功能性官能团的偏氟乙烯均聚物的薄膜。本发明的方法是含有偏氟乙烯均聚物的薄膜的形成方法，在该形成方法中，将在一个末端或两个末端具有式(1)：－(R¹)_n－Y(1)(式中，R¹为2价有机基团，但是不含偏氟乙烯均聚物的结构单元，n为0或1，Y为功能性官能团)所示的部位且偏氟乙烯均聚物单元的数均聚合度为3～100的偏氟乙烯均聚物应用于基材，形成含有完全为I型结晶结构的偏氟乙烯均聚物或含有以I型结晶结构为主要成分的偏氟乙烯均聚物的薄膜的偏氟乙烯均聚物的薄膜。
乙烯均聚物薄膜形成方法

[发明专利]含氟粘合性材料和用其制成的层压体-CN200610084881.5有效
发明人： 荒木孝之;北原隆宏;匂坂重仁;加藤丈人;稻叶刚志;石割和夫;清水哲男;尾崎秀典;樋口达也 -专利权人：大金工业株式会社
申请日： 1999-03-05 - 公布日： 2007-01-17 - 主分类号： B32B27/30 文献下载
摘要：聚合物链末端或侧链上有碳酸酯基和/或羧酰卤基，且碳酸酯基和/或羧酰卤基的数目合计相对于主链碳原子数1×10⁶个而言为150个以上的含氟乙烯类聚合物组成的含氟粘合性材料，能使氟聚合物所具有的优异耐药品性、耐溶剂性、耐候性、防污性等特性保持原样，还能赋予对金属、玻璃、树脂等基材的直接牢固粘合性。
粘合材料制成层压

[发明专利]抗蚀剂层积体的形成方法-CN200480034295.9无效
发明人： 荒木孝之;高明天;佐藤数行;大桥美保子;岸川洋介 -专利权人：大金工业株式会社
申请日： 2004-11-15 - 公布日： 2006-12-20 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：抗蚀剂层积体的形成方法，该抗蚀剂层积体在利用真空紫外区域的光线的照相平版法工艺中具有充分的防反射效果，并且即使在显影工艺中也具有充分的显影特性。光致抗蚀剂层积体的形成方法包括工序(I)，在基板上形成光致抗蚀剂层(L1)；和工序(II)，在光致抗蚀剂层(L1)上通过涂布含有含氟聚合物(A)的涂层组合物形成防反射层(L2)，所述含氟聚合物(A)具有亲水性基团Y，其特征为，含氟聚合物(A)具有由含亲水性基团Y的含氟乙烯型单体衍生的结构单元，并且，对于该含氟聚合物(A)，(i)亲水性基团Y含有pKa小于等于11的酸性OH基团；(ii)含氟率大于等于50质量％；以及(iii)100克含氟聚合物(A)中亲水性基团Y的摩尔数大于等于0.14。
抗蚀剂层积形成方法

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