专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]投影系统-CN202310912364.6在审
  • 刘思扬 - 苏州山河光电科技有限公司
  • 2023-07-24 - 2023-10-20 - G03B21/20
  • 本发明提供一种投影系统,包括入射光投射装置和合束超表面,入射光投射装置用于投射出红色、绿色、蓝色入射光,合束超表面配置为使三种颜色的入射光以相同的出射角进行出射,三种颜色的入射光均从合束超表面的同一侧面入射,在所述合束超表面的同一入射点上,所述红色入射光和绿色入射光分别从合束超表面法线的两侧进行入射;将红色入射光和绿色入射光分别从合束超表面的两侧进行入射,实现入射光路之间的大角度间隔,方便入射光路的小型化排布,避免小角度间隔造成的光路遮挡。
  • 投影系统
  • [发明专利]CMOS图像传感器及其制备工艺、电子设备-CN202310909364.0在审
  • 吴贤丰;延宇豪;邱山峰;孙磊 - 苏州山河光电科技有限公司
  • 2023-07-24 - 2023-10-13 - H01L27/146
  • 本发明提供一种CMOS图像传感器、制备工艺、电子设备,CMOS图像传感器包括半导体基板,所述半导体基板具有光电转换单元阵列区,光电转换单元阵列区包括多个光电转换单元;所述CMOS图像传感器还包括于所述半导体基板的受光面排列于所述光电转换单元阵列区的超表面,所述超表面包括与所述多个光电转换单元一一对应的多个微结构组;所述超表面能够通过调节相位从而改变入射光的偏折路径,实现聚焦成像的功能,同时,超表面中的每一微结构设计时不受感光面积的影响,提高超表面的光线汇聚能力,提升光电转换单元接收的光线,提升CMOS图像传感器的感光性能,提高暗态环境下的拍摄效果,避免了滤光片与传统微型透镜面间反射形成的红色花瓣鬼影问题。
  • cmos图像传感器及其制备工艺电子设备
  • [发明专利]光电材料性质模拟的解析式的生成方法及装置-CN202310976112.X在审
  • 宋凯 - 苏州山河光电科技有限公司
  • 2023-08-04 - 2023-10-13 - G16C60/00
  • 本发明揭示了一种光电材料性质模拟的解析式的生成方法及装置,方法包括:获取光电材料性质的样本数据集;基于所述样本数据集,生成训练数据集;初始化深度学习模型;获取前传函数;定义损失函数;基于所述前传函数和所述损失函数,通过所述训练数据集训练所述深度学习模型,优化所述可训练参数,得到最优模型参数;生成基于所述最优模型参数得到的解析式。该方法可以得到研究者感兴趣的整个波段的解析表达式,因而可以用于多波段的并行运算,大大加快了计算速度,为后续光电仿真,尤其光谱计算提供基础,且拟合的准确率更高。
  • 光电材料性质模拟解析生成方法装置
  • [实用新型]晶片的清洗干燥设备-CN202321174407.7有效
  • 邱山峰;吴贤丰;延宇豪;孙磊 - 苏州山河光电科技有限公司
  • 2023-05-16 - 2023-09-26 - B08B3/04
  • 本实用新型提供一种晶片的清洗干燥设备,包括依次设置的清洗装置、冷冻装置和真空装置,其中,清洗装置包括清洗槽,所述清洗槽用于盛放清洗剂清洗晶片;冷冻装置形成有用于冷冻晶片的冷冻间室;真空装置形成有真空间室、与所述真空间室连通的真空泵、为所述真空间室传递热量的加热件。晶片在清洗装置的清洗槽内清洗干净后,在冷冻装置的冷冻间室内快速冷冻,使晶片上的液体冷冻成固体,然后将冷冻后的晶片放置于真空装置的真空间室内进行抽真空,再开启加热器,使晶片上凝固后形成的固体物质在低压条件下吸热升华成蒸汽,避免液体从晶片分离的过程,避免表面张力对晶片表面产生的影响。
  • 晶片清洗干燥设备
  • [发明专利]基于超表面透镜的镜头模组及具有其的移动电子设备-CN202310826746.7在审
  • 吴贤丰;邱山峰;延宇豪;孙磊 - 苏州山河光电科技有限公司
  • 2023-07-06 - 2023-09-19 - G02B13/00
  • 本发明提供一种基于超表面透镜的镜头模组及具有其的移动电子设备,其包括屏幕层和设置于屏幕层下的成像单元,屏幕层包括触摸层,成像单元包括图像传感器,镜头模组包括第一超表面透镜单元和第二超表面透镜单元,第一超表面透镜单元设置于屏幕层内,第二超表面透镜单元设置于成像单元内,第一超表面透镜单元和第二超表面透镜单元分别包括衬底和设置于衬底上的微结构单元阵列,微结构单元阵列对入射其上的光线进行传播和调控;第一超表面透镜单元被配置用于接收光线,并将光线调控后向第二超表面透镜单元传输;第二超表面透镜单元被配置用于接收经由第一超表面透镜单元调控传输的光线,并将光线调控后传输向图像传感器。
  • 基于表面透镜镜头模组具有移动电子设备
  • [发明专利]光学系统、摄像头模组及成像方法-CN202310776900.4在审
  • 吴贤丰;史坦;邱山峰;延宇豪;孙磊 - 苏州山河光电科技有限公司
  • 2023-06-28 - 2023-09-19 - G02B13/00
  • 本发明揭示了一种光学系统、摄像头模组及成像方法,所述光学系统,包括:成像镜片,用于与图像传感器配合,参与聚焦成像;所述成像镜片,用于设定相对于成像光轴的有效角度范围和无效角度范围,在入射光角度落入所述有效角度范围时允许有效入射光完全透过,且在入射光角度落入所述无效角度范围时拦截无效入射光或有条件地允许无效入射光透过。本发明提供的光学系统能够解决透射或反射形成的杂散光干扰问题,调整光路按照预期传输,能够辅助增强画面纯净度和质量,动态适应复杂多变的外界光环境和内部光线传输路径。
  • 光学系统摄像头模组成像方法
  • [发明专利]透镜阵列结构和光模块-CN202310627723.3在审
  • 陈海峰;邱兵;孙磊 - 苏州山河光电科技有限公司
  • 2023-05-30 - 2023-08-22 - G02B3/00
  • 本发明提供了一种透镜阵列结构和光模块,透镜阵列结构包括多个呈阵列排布的超表面透镜,超表面透镜包括:入射面,入射面具有超表面通光区,超表面通光区具有多个间隔设置的微结构;出射面,出射面具有光斑出射区,光线经超表面通光区进入至超表面透镜内,不同波长的光经过超表面通光区后出射角度不同,超表面通光区用于将预设主波长的光偏折至光斑出射区并形成预设形状的光斑;其中,多个超表面透镜中至少两个超表面透镜的微结构和/或排布方式不同,以使至少两个超表面透镜的预设主波长不同。本发明解决了现有技术中光模块存在制作工艺复杂、制作成本高的问题。
  • 透镜阵列结构模块
  • [发明专利]波长选择开关-CN202310627773.1在审
  • 陈海峰;辛铎;孙磊 - 苏州山河光电科技有限公司
  • 2023-05-30 - 2023-08-11 - G02B6/293
  • 本发明提供了一种波长选择开关。波长选择开关包括沿光线传输方向顺次设置的:输入端;光束整形元件,光束整形元件用于对输入端的复合光进行整形;超表面光栅,超表面光栅位于光束整形元件的出光侧,超表面光栅用于对经过光束整形元件的复合光进行衍射分光,以形成多个单波长光;通道切换反射元件,通道切换反射元件用于接收多个单波长光并进行反射;输出端,输出端用于接收通道切换反射元件反射的多个单波长光,输出端为多个,多个输出端与多个单波长光一一对应。本发明解决了现有技术中的波长选择开关存在光路复杂和传输效率低的问题。
  • 波长选择开关
  • [发明专利]一种可重构超表面及光神经网络-CN202310534115.8在审
  • 邱兵;郭劲英;孙磊 - 苏州山河光电科技有限公司
  • 2023-05-12 - 2023-08-01 - G02F1/015
  • 本申请提供一种可重构超表面及光神经网络。所述可重构超表面包括结构层、调制层(区)、电介质层、功能层和供电模块。超表面的结构层、调制层(区)、电介质层和功能层依次紧密贴合。结构层、调制层(区)、电介质层和功能层均可设置电位连接点,供电模块的输出端与电位连接点连接。结构层用于调制传播光信号,功能层用于控制光信号的传播方向,电介质层用于辅助增强结构层与光的相互作用。电位连接点与供电模块的输出端接通后,可以改变调制层(区)的介电系数,进而使与之紧密贴合的结构层对光信号具备动态调制功能,输出不同的光场分布形式,提高光神经网络的使用灵活度。
  • 一种可重构超表面神经网络
  • [实用新型]多功能光模系统-CN202223182334.4有效
  • 邱山峰;孙磊 - 苏州山河光电科技有限公司
  • 2022-11-29 - 2023-04-28 - G02B27/30
  • 本申请提供了一种多功能光模系统,该系统包括准直装置、超透镜、成像透镜以及图像传感器,准直装置用于接收第一入射光,并对第一入射光进行准直,得到准直光;超透镜位于准直装置的一侧,超透镜用于接收准直光,并对准直光进行第一预定处理,得到第一目标光束,第一预定处理包括分束处理;成像透镜位于超透镜的远离准直装置的一侧,成像透镜用于接收第二入射光,并对第二入射光进行第二预定处理,得到第二目标光束,第二预定处理包括聚焦处理;图像传感器位于超透镜的远离准直装置的一侧,图像传感器用于接收第一目标光束或者第二目标光束,并对第一目标光束或者第二目标光束进行成像处理,得到目标图像。保证了该系统的功能较多且占用空间较小。
  • 多功能系统
  • [发明专利]一种液晶超表面透镜及其制备方法-CN202310081013.5在审
  • 邱山峰;邱兵;孙磊 - 苏州山河光电科技有限公司
  • 2023-02-03 - 2023-04-25 - G02F1/29
  • 本申请提供一种液晶超表面透镜及其制备方法,液晶超表面透镜包括:CMOS基板,超表面透镜和液晶层,CMOS基板设置有反射涂层,反射涂层下方设置有CMOS像素阵列;超表面透镜包括透明盖板、透明电极和超表面结构;超表面结构与透明电极连接,超表面结构包括多个间隔分布的超表面件;液晶层灌注于反射涂层和透明电极之间的间隙中,以及多个超表面件之间的间隙中。通过设置超表面透镜、液晶层与CMOS基板配合,以改变出射光线的焦点位置和/或出射角度的方式实现对待测物体距离的检测,能够有效替代传统的雷达系统,极大简化结构组成,一方面不需要多个零部件配合,有效提升检测速度,另一方面,节省机械旋转部件,有效节约生产成本。
  • 一种液晶表面透镜及其制备方法

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