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[发明专利]光刻技术方法-CN200680032459.3无效
发明人：彼得·桑德贝尔根;耶罗恩·H·拉默斯;戴维·范斯滕温克尔 -专利权人： NXP股份有限公司
申请日： 2006-09-05 - 公布日： 2008-09-03 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明提供了一种光刻图案成形的方法。该方法包括：向要形成图案的表面涂覆包含聚合物树脂、光催化剂产生剂(其在曝光于光化辐射中时产生催化剂)、以及淬灭剂的光致抗蚀剂(18)；通过掩模图案(12)将光致抗蚀剂(18)曝光于光化辐射；执行曝光后烘焙；然后用显影剂对光致抗蚀剂(18)进行显影，以去除在显影剂中变得可溶解的光致抗蚀剂部分；聚合物树脂在曝光于光化辐射之前基本上不溶解于显影剂，通过催化剂的作用以及烘焙中的淬灭剂的作用，变得溶解于显影剂中，或者聚合物树脂在曝光于光化辐射之前溶解于显影剂，通过催化剂的作用以及烘焙中的淬灭剂的作用，变得基本上不溶解于显影剂中。
光刻技术方法

[发明专利]光刻技术方法-CN200680032449.X无效
发明人：彼得·桑德贝尔根;耶罗恩·H·拉默斯;戴维·范斯滕温克尔 -专利权人： NXP股份有限公司
申请日： 2006-09-05 - 公布日： 2008-09-03 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：为了成形的光致抗蚀剂的强度，本发明提供了一种光刻图案成形方法。该方法包括：对要成形的表面涂覆光致抗蚀剂(18)，该光致抗蚀剂包括聚合物树脂、光催化剂产生剂和淬灭剂，该光催化剂产生剂在曝光于光化辐射时产生催化剂；并通过掩模图案(12)将光致抗蚀剂(18)曝光于光化辐射。此后，以任一顺序，通过执行曝光后烘焙和用显影剂对光致抗蚀剂(18)进行显影，以去除光致抗蚀剂中已经曝光于光化辐射的部分。聚合物树脂在曝光于光化辐射之前基本上不溶解于显影剂，而在催化剂的作用下，变得可溶解于显影剂，其中，在烘焙期间，通过淬灭剂的作用，交联聚合物树脂。
光刻技术方法