“罗伯特·埃勒加尼安”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果3个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]图案化导电材料的测微直写方法及其在修复平板显示器的应用-CN200580013060.6无效
发明人：纳比勒·阿姆鲁;利内特·德默斯;圣迪普·迪萨维尔;张华;罗伯特·埃勒加尼安;西尔万·克吕雄－迪佩拉;约翰·布森 -专利权人：纳米墨水公司
申请日： 2005-02-25 - 公布日： 2007-07-18 - 主分类号： H05K3/00 文献下载
摘要：一种使用微米和亚微米器件直写导电金属轨迹的新的低温方法。在此方法中，使用了平梁，例如有或没有针尖的AFM悬臂，在衬底上画出金属前驱物墨水的轨迹。金属轨迹的大小可直接通过悬臂的几何形状控制，因此可用微制造悬臂可控制地沉积宽1微米至100微米以上的轨迹。可使用有尖锐针尖的悬臂将器件的最小尺寸进一步收缩至亚微米级。可通过增加相似或不同的层而增加器件的高度。为了用此沉积方法得到高导电性和牢固的图案，设计了两种一般化的墨水成分策略。两种墨水系统的关键成分是直径小于100nm的纳米颗粒。由于一般纳米颗粒与块体材料相比，熔点显著降低，可将离散的颗粒群组在很低的温度下(小于约300℃，以及低至约120℃)熔融、烧结或聚并形成连续的(多)晶膜。在第一种策略中，可将烃包裹的纳米颗粒分散在合适的溶剂中，将它们沉积在表面上形成图案，然后将膜加热退火形成连续的金属图案。在第二种策略中，可在存在还原基质的情况下将金属化合物传送到表面上，然后通过加热，在原位置上形成纳米颗粒，然后聚并形成连续金属图案。在铂和金墨水的研究中，两种基于纳米颗粒的方法在玻璃和氧化硅上产生了电阻系数低(4微欧·厘米)、粘附性质出色的微米级轨迹。
图案导电材料测微直写方法及其修复平板显示器应用

[发明专利]将纳米蚀刻作为构图手段来制造导电图案的方法-CN200480031670.4无效
发明人：小珀西·范登·克罗克;利内特·德默斯;纳比尔·A.·阿姆鲁;罗伯特·埃勒加尼安 -专利权人：纳米墨水公司
申请日： 2004-08-26 - 公布日： 2006-12-06 - 主分类号： H01L21/44 文献下载
摘要：本发明涉及一种使用针尖形成金属纳结构的纳米蚀刻沉积方法，其用于微电子学、催化和诊断学。AFM针尖可涂布有金属前体，该前体在衬底上构图。构图的前体可通过加热转化为金属态。可得到高分辨率和极好的对准性。
纳米蚀刻作为构图手段制造导电图案方法

[发明专利]纳米级设计结构、其制造方法及设备以及在掩模修复、增强和制造上的应用-CN200380105744.X无效
发明人：珀西·范克罗克;西尔万·克吕雄－迪佩拉;利内特·德默斯;罗伯特·埃勒加尼安;圣迪普·迪萨维尔;纳比勒·阿姆鲁;张华 -专利权人：纳米墨水公司
申请日： 2003-10-21 - 公布日： 2006-01-25 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：使用直接写入纳米构图修复和制造光掩模，包括：使用扫描探针显微镜尖端以淀积包含溶胶－凝胶和金属墨汁的墨汁材料。添加方法能够与减去方法相结合。可以使用纳米结构填充孔。可以控制填充孔的纳米结构的高度，而不会损失对纳米结构的横向尺寸的控制。可以使用和制造玻璃上的铬掩模，以及更先进的掩模，包括用于纳米压印纳米构图的掩模。
纳米设计结构制造方法设备以及修复增强应用

1
共 3 条