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- [实用新型]线性溅射源分段供气系统-CN201420253841.9有效
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郭爱云
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红安华州光电科技有限公司
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2014-05-19
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2015-02-11
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C23C14/35
- 本实用新型公开了一种线性溅射源分段供气系统，包括一路磁控溅射工艺工作气体管路、多路磁控溅射工艺反应气体管路、分段供气装置，一路所述磁控溅射工艺工作气体管路、多路所述磁控溅射工艺反应气体管路和所述分段供气装置上均设置有质量流量计和截止阀。本实用新型提供了一种线性溅射源分段供气系统，解决工作气体和多种反应气体混气和供气的问题；解决混气后供气的流量的实时控制问题；解决与工艺抽气系统设计相适应的工艺供气系统气场分布设计；解决与多种磁控溅射工艺(中频反应磁控溅射、直流磁控溅射和射频磁控溅射等)相适合的问题；实现大批量稳定连续生产。
- 线性溅射分段供气系统
- [实用新型]真空蒸发镀膜均匀性调整装置-CN201420253844.2有效
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郭爱云
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红安华州光电科技有限公司
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2014-05-19
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2014-11-26
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C23C14/54
- 本实用新型公开了一种真空蒸发镀膜均匀性调整装置，真空蒸发镀膜机包括真空抽气系统、点蒸发源蒸发系统、弧形工件架和膜层厚度测试系统，膜层厚度测试系统的测试点安装在弧形工件架的旋转轴上，所述均匀性调整装置安装在真空蒸发镀膜机的点蒸发源和弧形工件架之间，所述均匀性调整装置靠近弧形工件架安装，所述均匀性调整装置包括安装座、支撑板和修正滑块，所述安装座与所述支撑板之间呈一定夹角设置，多个所述修正滑块并行排列安装在所述支撑板的两边，多个所述修正滑块宽度一致和长度不同。本实用新型提供了一种真空蒸发镀膜均匀性调整装置，为多次重复使用的均匀性调整装置，可以对膜层均匀性进行多次的调整，并将每次调整的形状进行保留。
- 真空蒸发镀膜均匀调整装置
- [实用新型]线性磁控溅射阴极均匀供气系统管路-CN201420253843.8有效
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郭爱云
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红安华州光电科技有限公司
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2014-05-19
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2014-11-26
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C23C14/35
- 本实用新型公开了一种线性磁控溅射阴极均匀供气系统管路，包括供气底管路座、供气管路盖板、一级分气管路、二级分气管路、三级分气管路、四级分气管路和缓冲布气装置，所述一级分气管路分为两路，所述二级分气管路为一路分为两路的分路构成，所述三级分气管路为一路分为两路的分路构成，所述四级分气管路为一路分为两路的分路构成，多路所述四级分气管路分别连接多个缓冲布气装置。本实用新型提供了一种线性磁控溅射阴极均匀供气系统管路，采用了多级一分二均气装置，达到了多次均匀分气的效果，同时采用缓冲布气装置将进入真空室内的溅射工作气体和工艺气体进行均匀分布可以实现气体的有效均匀分布和均匀控制。
- 线性磁控溅射阴极均匀供气系统管路
- [实用新型]双面消影氧化铟锡磁控溅射镀膜生产设备-CN201420224365.8有效
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郭爱云
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红安华州光电科技有限公司
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2014-05-05
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2014-11-26
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C23C14/35
- 本实用新型提供了一种工作效率高、设计合理的双面消影氧化铟锡磁控溅射镀膜生产设备，包括机架，所述机架上依次设置有进口真空腔体、进口缓冲真空腔体、进口过渡腔体、工艺真空腔体、出口真空腔体、出口缓冲真空腔体和出口过渡腔体；所述机架上、贯穿上述腔体设置有触摸屏基片输送带；所述工艺真空腔体为9个，所述每个工艺真空腔体都布置有2对阴极，所述9个工艺真空腔体可布置18对阳极，所述18对阳极中，含有18对Nb2Ox阳极；或1到8对SiOx阳极；或1到6对Ito阳极；所述进口真空腔体内配备有1到2组低真空抽气系统；所述进口缓冲真空腔体和出口缓冲真空腔体内配备1到2组高真空抽气系统；所述工艺真空腔体内配备2到3组维持高真空抽气系统。本生产设备结构合理，功能先进，工作效率高，有利于推广使用。
- 双面氧化磁控溅射镀膜生产设备
- [发明专利]双面消影氧化铟锡磁控溅射镀膜生产线-CN201410184791.8在审
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郭爱云
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红安华州光电科技有限公司
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2014-05-05
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2014-09-03
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C23C14/35
- 本发明提供了一种工作效率高、设计合理的双面消影氧化铟锡磁控溅射镀膜生产线，包括机架，所述机架上依次设置有进口真空腔体、进口缓冲真空腔体、进口过渡腔体、工艺真空腔体、出口真空腔体、出口缓冲真空腔体和出口过渡腔体；所述机架上、贯穿上述腔体设置有触摸屏基片输送带；所述工艺真空腔体为9个，所述每个工艺真空腔体都布置有2对阴极，所述9个工艺真空腔体可布置18对阳极，所述18对阳极中，含有18对Nb2Ox阳极；或1到8对SiOx阳极；或1到6对Ito阳极；所述进口真空腔体内配备有1到2组低真空抽气系统；所述进口缓冲真空腔体和出口缓冲真空腔体内配备1到2组高真空抽气系统；所述工艺真空腔体内配备2到3组维持高真空抽气系统。本生产线结构合理，功能先进，工作效率高，有利于推广使用。
- 双面氧化磁控溅射镀膜生产线
- [实用新型]一种消影透明导电膜-CN201320180691.9有效
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朱选敏;彭育华;段柯州
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红安华州光电科技有限公司
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2013-04-11
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2013-10-30
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G02B1/11
- 本实用新型公开了一种消影透明导电膜，消影透明导电膜附在透明基材上，消影透明导电膜是至少包含有高折射率层、低折射率层和透明导电膜。高折射率层波长在550nm，折射率指数在2.1-2.4的膜层材料；低折射率层波长在550nm，折射率指数在1.4-1.5膜层材料；透明导电膜波长在550nm，折射率指数在1.79-1.95透明导电的膜层材料。在透明基材的其中一面与透明基材向外依次连接高折射率层、低折射率层，低折射率层分别与最外层的透明导电膜、高折射率层相连。此实用新型膜层结构简单，使用方便，消影透明导电膜的各膜层的厚度小，生产工艺简便，特别是适合于在大面积连续磁控溅射镀膜生产线上实现。具有光学消影的效果，同时适合实现连续大面积批量生产。
- 一种透明导电
- [发明专利]一种消影透明导电膜-CN201310125495.6有效
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朱选敏;彭育华;段柯州
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红安华州光电科技有限公司
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2013-04-11
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2013-07-31
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G02B1/11
- 本发明公开了一种消影透明导电膜，消影透明导电膜附在透明基材上，消影透明导电膜是至少包含有高折射率层、低折射率层和透明导电膜。高折射率层波长在550nm，折射率指数在2.1-2.4的膜层材料；低折射率层波长在550nm，折射率指数在1.4-1.5膜层材料；透明导电膜波长在550nm，折射率指数在1.79-1.95透明导电的膜层材料。在透明基材的其中一面与透明基材向外依次连接高折射率层、低折射率层，低折射率层分别与最外层的透明导电膜、高折射率层相连。此发明膜层结构简单，使用方便，消影透明导电膜的各膜层的厚度小，生产工艺简便，特别是适合于在大面积连续磁控溅射镀膜生产线上实现。具有光学消影的效果，同时适合实现连续大面积批量生产。
- 一种透明导电
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