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[发明专利]吸收辐射的聚合物、用于吸收辐射涂层的组合物、吸收辐射的涂层及其作为抗反射涂层的应用-CN98800711.8有效
发明人：康文兵;田中初幸;木村健;工藤隆范;格奥尔格·帕夫洛夫斯基;穆尼拉斯纳·帕德马纳班 -专利权人：克拉瑞特金融(BVI)有限公司
申请日： 1998-05-27 - 公布日： 2003-12-10 - 主分类号： C08F246/00 文献下载
摘要：一种与吸收辐射的染料以化学键相连的吸收辐射聚合物对于预定波长的辐射具有高度的吸收，它对基底显示良好的粘结性能，和良好的形成薄膜的性能，它对光刻胶没有依存性，它溶解于光刻胶溶剂，但在烘烤以后变为不溶；并公开了含有这种聚合物的吸收辐射涂层用的组合物，和吸收辐射涂层，比如由这种组合物形成的抗反射涂层。该吸收辐射聚合物所包括的聚合物，同时含有在其侧链上含有酮基和二价基团(优选亚甲基)的单体构成的交联单元，和含有直接或通过链接基团键合在主链上的生色团的单体构成的交联单元。这种吸收辐射聚合物溶解于如醇类、芳烃、酮类和醚类等溶剂中，得到的溶液被涂布的蜂窝夹心层上、烘烤，形成吸收辐射涂层，如抗反射涂层。在此涂层上涂布一种比如化学增强的光刻胶。然后将此被涂布的基底在远紫外线(DUV)下曝光和显影，形成排除了驻波影响的精细光刻胶花样。
吸收辐射聚合物用于涂层组合及其作为反射应用

[发明专利]用于抗反射或吸收辐射涂层的组合物及用于该组合物的化合物-CN98800696.0无效
发明人： 穆尼拉斯纳·帕德马纳班;康文兵;田中初幸;木村健;格奥尔格·帕夫洛夫斯基 -专利权人：克拉瑞特国际有限公司
申请日： 1998-05-21 - 公布日： 1999-08-25 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：一种用于抗反射或吸收辐射涂层的组合物,该涂层在100～450nm范围内对曝光辐射具有高吸收率,光产生的酸在抗反射涂层上不会扩散,并且抗蚀层和抗反射涂层不会混合,且具有良好的贮存稳定性和良好的步进式覆盖,同时提出并公开了用于这种组合物的新的化合物和聚合物。该组合物含有一个丙烯酸的或异丁烯酸的、具有一个异氰酸酯或异硫氰酸酯基团通过亚烷基键合到它们的侧链上、或者具有能在100到450nm波长范围内吸收辐射的有机生色团的氨基或羟基的化合物或聚合物,例如通过一个亚烷基键合到异氰酸酯或异硫氰酸酯基团上。在衬底上如下形成一个具有高分辨率的抗蚀层图样。即一种用于抗反射或吸收辐射涂层的组合物应用于衬底上,且烘烤后形成一个抗反射或吸收辐射的涂层。然后,一种化学放大的抗蚀剂涂在其上,曝光后图样显影。在烘烤期间这种抗反射或吸收辐射涂层由于异氰酸酯或异硫氰酸酯基团的存在而发生硬化或固化。另一方面,这种曝光射线在100～450nm的波长范围内为有机生色团所吸收。
用于反射吸收辐射涂层组合化合物

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