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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]改良的立体光刻系统-CN201680037519.4有效
发明人：迭戈·卡斯塔侬 -专利权人： 福尔卡斯特科研和开发公司
申请日： 2016-05-02 - 公布日： 2020-11-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：立体光刻系统包含发射装置和设置在所述发射装置上方的贮槽。所述贮槽具有第一光学透明底壁和第二光学透明底壁，且两者之间设置有间隙。存在远离所述贮槽延伸的线性平移台，并且载体平台可沿着所述线性平移台移动远离所述贮槽。在所述贮槽内在所述贮槽的底壁处还存在可湿性材料。流体冷却系统与设置在所述贮槽的所述第一光学透明底壁与所述贮槽的所述第二光学透明底壁之间的所述间隙流体连通。
改良立体光刻系统

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