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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]抗蚀剂材料及图案形成方法-CN202310054083.1在审
发明人： 畠山润;福岛将大 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2023-02-03 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供为高感度且LWR、CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料，含有：包含具有由键结于聚合物主链的磺酸阴离子与下式(1)表示的锍阳离子构成的盐结构的重复单元a的基础聚合物。#imgabs0#
抗蚀剂材料图案形成方法

[发明专利]正型抗蚀剂材料及图案形成方法-CN202310311665.3在审
发明人： 畠山润;福岛将大 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2023-03-28 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明涉及正型抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题为提供具有超过已知的正型抗蚀剂材料的感度及分辨率，边缘粗糙度、尺寸偏差小，且曝光后的图案形状良好的正型抗蚀剂材料，以及提供图案形成方法。该课题的解决手段为一种正型抗蚀剂材料，含有：含下式(a)表示的重复单元的基础聚合物。#imgabs0#式中，R为下式(a1)表示的基团。#imgabs1#式中，R1为也可含有氧原子的直链状或分支状的碳数1～6的脂肪族烃基，R2为也可含有氧原子的直链状或分支状的碳数2～6的不饱和脂肪族烃基。又，R1与R2也可互相键结并和它们所键结的碳原子一起形成碳数5～12的环。
正型抗蚀剂材料图案形成方法

[发明专利]抗蚀剂材料及图案形成方法-CN202310290323.8在审
发明人： 畠山润 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2023-03-23 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明课题提供高感度，且LWR、CDU有所改善的抗蚀剂材料、及使用其的图案形成方法。解决手段是一种抗蚀剂材料，包含含有下式(1)表示的锍盐的淬灭剂。#imgabs0#
抗蚀剂材料图案形成方法

[发明专利]抗蚀剂材料及图案形成方法-CN202310290332.7在审
发明人： 畠山润 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2023-03-23 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题为提供为高感度且LWR、CDU经改善的抗蚀剂材料及使用其的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料，含有含下式(1)表示的锍盐的淬灭剂。#imgabs0#
抗蚀剂材料图案形成方法

[发明专利]抗蚀剂材料及图案形成方法-CN202310299501.3在审
发明人： 畠山润 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2023-03-23 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题为提供为高感度且LWR、CDU经改善的抗蚀剂材料及使用其的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料，含有含下式(1)表示的锍盐的淬灭剂。#imgabs0#
抗蚀剂材料图案形成方法

[发明专利]抗蚀剂组合物和图案化方法-CN201910728707.7有效
发明人： 畠山润;大桥正树;藤原敬之 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2019-08-08 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及抗蚀剂组合物和图案化方法，其中，包含基础聚合物和具有经由二价烃基键合至氮原子的碘取代的芳环的胺化合物形式的猝灭剂的抗蚀剂组合物提供高感光度和最小的LWR或改进的CDU，而不管其具有正色调还是负色调。
抗蚀剂组合图案方法

[发明专利]抗蚀剂组合物和图案化方法-CN201910880802.9有效
发明人： 畠山润;大桥正树;藤原敬之 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2019-09-18 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明为抗蚀剂组合物和图案化方法。包含基础聚合物和含有具有碘化的苯环的锍盐的产酸剂的抗蚀剂组合物不管其为正型还是负型，都提供高感光度、最小的LWR和改进的CDU。
抗蚀剂组合图案方法

[发明专利]抗蚀剂材料及图案形成方法-CN202310225750.8在审
发明人： 畠山润;福岛将大 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2023-03-10 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。发明课题提供正型、负型皆是高感度且LWR、CDU有所改善的抗蚀剂材料、及使用其的图案形成方法。解决手段是一种抗蚀剂材料，包含淬灭剂，该淬灭剂含有具有经含氮原子的环族基及硝基取代的苯环的芳香族羧酸的锍盐。
抗蚀剂材料图案形成方法

[发明专利]生物体电极组成物、生物体电极、生物体电极的制造方法、高分子化合物及复合体-CN202111186934.5有效
发明人： 畠山润;岩渊元亮 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2021-10-12 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： C08L83/04 文献下载
摘要：本发明涉及生物体电极组成物、生物体电极、生物体电极的制造方法、高分子化合物及复合体。本发明的课题提供可形成导电性及生物相容性优异，轻量且能以低成本制造，被水润湿抑或干燥时导电性均不会大幅降低的生物体电极用的生物体接触层的生物体电极组成物、以该生物体电极组成物形成生物体接触层的生物体电极、及其制造方法。一种生物体电极组成物，含有(A)离子性高分子材料与粒子的复合体，前述(A)成分含有与聚合物键结的粒子，该聚合物含有具有选自氟磺酸、氟磺酰亚胺、及N‑羰基氟磺酰胺中的任一者的铵盐、锂盐、钠盐、钾盐、银盐的结构的重复单元。
生物体电极组成制造方法高分子化合物复合体

[发明专利]抗蚀剂材料及图案形成方法-CN202310052290.3在审
发明人： 畠山润;福岛将大 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2023-02-02 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供为高感度且LWR、CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料，含有：包含具有由键结于聚合物主链的磺酸阴离子与下式(1)表示的锍阳离子构成的盐结构的重复单元a的基础聚合物。
抗蚀剂材料图案形成方法

[发明专利]抗蚀剂材料及图案形成方法-CN202310052429.4在审
发明人： 畠山润;福岛将大 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2023-02-02 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供为高感度且LWR、CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料，含有：包含具有由键结于聚合物主链的磺酸阴离子与下式(1)表示的锍阳离子构成的盐结构的重复单元a的基础聚合物。
抗蚀剂材料图案形成方法

[发明专利]抗蚀剂材料及图案形成方法-CN202310057731.9在审
发明人： 畠山润;福岛将大 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2023-01-18 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题提供为高感度且LWR、CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料，含有：包含下式(1)表示的锍盐的酸产生剂。
抗蚀剂材料图案形成方法

[发明专利]抗蚀剂材料及图案形成方法-CN202310061625.8在审
发明人： 畠山润;福岛将大 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2023-01-19 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题提供为高感度且LWR、CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料，含有：包含下式(1)表示的锍盐的酸产生剂。
抗蚀剂材料图案形成方法

[发明专利]抗蚀剂材料及图案形成方法-CN202310055729.8在审
发明人： 畠山润;福岛将大 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2023-01-18 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题提供为高感度且LWR、CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料，含有：包含下式(1)表示的锍盐的酸产生剂。式中，RAL为具预定芳香族基的环状仲或叔酯型酸不稳定基团。
抗蚀剂材料图案形成方法

[发明专利]生物体电极组成物、生物体电极、及生物体电极的制造方法-CN202210006689.3有效
发明人：池田让;岩渊元亮;畠山润 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2022-01-05 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： C09D133/14 文献下载
摘要：本发明涉及生物体电极组成物、生物体电极、及生物体电极的制造方法。本发明的课题是提供能形成贴附于皮肤后可快速地取得信号，不会造成残留于皮肤的生物体电极用的生物体接触层的生物体电极组成物、以该生物体电极组成物形成生物体接触层的生物体电极、及其制造方法。一种生物体电极组成物，其特征为分别含有：高分子化合物(A)，含有具有选自氟磺酸、氟磺酰亚胺、及N‑羰基氟磺酰胺中的任一者的铵盐、钠盐、钾盐、及银盐的结构的重复单元a；及填料粒子(B)，选自二氧化硅粒子、氧化铝粒子、氧化钛粒子、氧化锆粒子中的1种以上。
生物体电极组成制造方法

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