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[发明专利]一种基于GIS和HIPIMS技术的用于凹版印刷板表面CrN涂层制备方法-CN202010847279.2在审
发明人：杜建;董骐;田俊瑞;胡中军 -专利权人：北京丹鹏表面技术研究中心
申请日： 2020-08-21 - 公布日： 2021-05-11 - 主分类号： C23C14/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于GIS和HIPIMS技术的用于凹版印刷板表面CrN涂层制备方法，本发明采用气体离子源刻蚀清洗技术(Gas Ion Source Etching,GISETCH)和高功率脉冲磁控溅射技术(High Power Impulse MagnetronSputtering，HIPIMS)，在凹版印刷板表面镀制高质量的Cr+CrN涂层，用于取代原有的水电镀工艺。通过球坑测试、粗糙度测试、划痕试验、硬度测试、表面形貌观察等分析涂层各方面的性能后发现，GISETCH和HIPIMS技术制备的Cr+CrN涂层膜基结合力更强，其表面晶粒更细小，缺陷少，断面组织致密，经过实际印刷测试，耐印率超过水电镀水平。
一种基于 gis hipims 技术用于凹版印刷表面 crn 涂层制备方法

[发明专利]离子镀膜机、气体离子刻蚀清洗方法及辅助沉积方法-CN201510591937.5在审
发明人：董骐;白天心;罗蓉平;田俊瑞;杜建;赵海波 -专利权人：北京丹鹏表面技术研究中心
申请日： 2015-09-16 - 公布日： 2015-12-30 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明涉及物理气相沉积离子镀膜技术领域，尤其是涉及一种配置气体离子源的离子镀膜机及气体离子刻蚀清洗、辅助沉积方法。本发明在离子镀膜机的真空腔内壁或者法兰上设置一台或多台气体离子源装置，利用气体离子源装置产生的气体等离子体对待镀工件表面进行轰击，实现待镀工件表面的气体离子刻蚀清洗。气体离子源装置可以在大范围内稳定放电，能够控制气体离子刻蚀清洗过程对工件表面的损伤程度，同时实现工件表面的彻底清洁和活化；另外，在离子镀膜过程中，将通入气体离子源的反应气体同时离化，增加气体粒子的化学反应活性，达到气体离子辅助沉积的作用，实现更好的化学反应膜层质量。
离子镀膜气体刻蚀清洗方法辅助沉积

[发明专利]一种真空罗茨泵机组及其控制方法-CN02149382.0有效
发明人：董骐;文学春;刘相武;田俊瑞;罗蓉平;杜建;钟钢 -专利权人：北京丹鹏表面技术研究中心
申请日： 2002-11-15 - 公布日： 2003-03-26 - 主分类号： F04C29/10 文献下载
摘要：本发明涉及一种真空罗茨泵机组及其控制方法，属真空设备技术领域。该机组包括罗茨泵、旋片式机械泵、交流接触器、电流过流保护器和变频器，变频器与罗茨泵的电机相连接，罗茨泵电机由变频器控制。本发明的真空罗茨泵机组的控制方法，是用变频器控制罗茨泵电机，变频器从启动到输出正常工作频率所需时间＝与罗茨泵机组相连的真空系统的真空度从大气到10Pa真空度所需的最短时间X(1±50％)。本发明的方法和装置，使罗茨泵缓慢起动，避免了罗茨泵内部转动部件、支撑件和转轴密封件的机械冲击，达到完全平稳地运行，降低罗茨泵工作噪音，有效延长罗茨泵的使用寿命；同时避免罗茨泵启动时由于电动机瞬间过载而对电力网络造成的冲击和干扰。
一种真空罗茨泵机组及其控制方法