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[发明专利]书写输入系统、板及识别符-CN201810797673.2有效
发明人：白井克典;田中幸雄 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2018-07-19 - 公布日： 2021-12-10 - 主分类号： G06F3/044 文献下载
摘要：本发明提供书写输入系统，其能够进行与现有的白板相同的使用方式、呈现方式的书写且能够实时地检测笔迹。该系统具备书写用的板、和作为书写工具的笔，所述笔具有当接触于所述板时在板上留下可视觉辨认的笔迹的笔尖部、和提供识别信号的识别电路，所述板具有检测所述笔尖部接触的所述板上的位置坐标的坐标检测部、和以非接触的方式检测所述识别信号的笔识别部。
书写输入系统识别

[发明专利]信息处理装置以及通信会议系统-CN201110023555.4有效
发明人： 田中幸雄 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2011-01-17 - 公布日： 2011-08-31 - 主分类号： G06F17/24 文献下载
摘要：本发明涉及信息处理装置以及通信会议系统，即使在用户对文件数据等写入注释等情况下，也能够防止文件的可读性下降。其中，会议服务器装置向参加通信会议的终端装置(3)发送会议资料等文件数据，终端装置(3)将文件数据作为最下层的图层显示在显示部(46)上，同时通过图形输入板或者鼠标等输入部(45)接受针对该显示画面的写入操作，并将与接受的写入操作有关的写入图像作为上层的图层重叠显示。此时，终端装置(3)将与文件数据中包含的文章的文字或者单词外接的矩形区域设定为禁止写入区域，并在禁止写入区域内写入了引线等的情况下将与该写入内容有关的图像显示在禁止写入区域的周围。
信息处理装置以及通信会议系统

[发明专利]扬声器装置-CN200910000347.5无效
发明人：铃木伸和;瓜生胜;大桥芳雄;田中幸雄;锦织伸之 -专利权人：索尼株式会社
申请日： 2009-01-06 - 公布日： 2009-08-05 - 主分类号： H04R15/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种扬声器装置，包括：声膜；支撑构件，其具有容纳部，所述容纳部是在支撑构件的面向声膜的表面中的孔；磁致伸缩致动器，其具有磁致伸缩体和连接到磁致伸缩体的端部的驱动杆，磁致伸缩致动器被插入到容纳部中，使得驱动杆接触声膜，磁致伸缩致动器将振动施加至声膜；以及弹簧，其从与磁致伸缩致动器的驱动杆的位置相反的位置插入容纳部中，弹簧将磁致伸缩致动器朝向声膜施压并将负载施加至磁致伸缩体。
扬声器装置

[发明专利]基板处理装置-CN200810098982.7无效
发明人：中田胜利;村田贵;田中幸雄;柏井俊彦 -专利权人：住友精密工业株式会社
申请日： 2008-05-26 - 公布日： 2008-11-26 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置，其能够防止由于处理液的再生而含于处理液的表面活性剂的浓度降低的情况。基板处理装置(1)具备：贮存含于表面活性剂的处理液的贮存槽(11)；利用处理液处理基板的基板处理机构(12)；使贮存槽(11)内的处理液在贮存槽(11)和基板处理机构(12)之间循环的第一循环机构(20)；内部填充有吸附由于处理机构(12)中的基板处理而含于处理液的金属离子的吸附材料的吸附容器(32、33)；将贮存槽(11)内的处理液向吸附容器(32、33)内供给使其流通，并且，流通的处理液从吸附容器(32、33)向贮存槽(11)内回收，使处理液在贮存槽(11)和吸附容器(32、33)之间循环的第二循环机构(34)；向贮存于贮存槽(11)的处理液或从吸附容器(32、33)回收于贮存槽(11)的处理液中供给表面活性剂的供给机构(70)。
处理装置

[发明专利]处理液再生方法及含于处理液的金属的回收方法-CN200810096747.6无效
发明人：中田胜利;田中幸雄;柏井俊彦 -专利权人：住友精密工业株式会社
申请日： 2008-05-09 - 公布日： 2008-11-12 - 主分类号： C22B3/00 文献下载
摘要：本发明提供能够以低成本有效地除去基板处理用处理液中含有的金属成分，再生该处理液的处理液再生方法等。包括：在进行基板处理的处理区域中，使处理液通过内部填充有吸附金属离子的吸附材料的可移式容器(1)内，将该处理液中的金属成分吸附于吸附材料而分离、除去的处理液再生工序；将使处理液通过的可移式容器(1)输送至从处理区域隔离的区域即再生吸附材料的吸附材料再生区域的第一输送工序；在吸附材料再生区域中，使洗提液通过从处理区域输送的可移式容器(1)内，洗提吸附于吸附材料的金属，再生该吸附材料的吸附材料再生工序；将再生了吸附材料的可移式容器(1)从吸附材料再生区域回送至处理区域的第二输送工序，在处理液再生工序中，使用吸附材料再生后的可移式容器(1)。
处理再生方法金属回收

[发明专利]处理液处理装置和具备该装置的基板处理装置-CN200710104629.0无效
发明人：西川畅浩;田中幸雄;柏井俊彦 -专利权人：住友精密工业株式会社
申请日： 2007-05-18 - 公布日： 2008-02-13 - 主分类号： C23F1/08 文献下载
摘要：本发明提供一种能够延长处理液的更换周期、防止基板处理效率下降、抑制基板处理成本的基板处理装置等。基板处理装置(1)包括：第一处理液循环机构(20)，使处理液在贮存槽(11)与基板处理机构(12)之间循环；两个吸附塔(32、33)，吸附通过基板处理机构(12)的基板处理而包含在处理液中的金属离子；第二处理液循环机构(34)，有选择地向吸附塔(32、33)中的任意一个供给贮存槽(11)内的处理液并使其循环；和控制装置(28)，控制第二处理液循环机构(34)的动作，使得被供给处理液的吸附塔(32、33)按照规定时间间隔交替切换。
处理装置具备