“班冬青”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网_中国专利网

首页在售求购查询申请展会资讯专利榜企服商城升级VIP

立即登录免费注册

在售专利
求购专利
查询专利
新闻资讯
技术展会
招商加盟
专利榜

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

专利名称

专利名称
专利号码
专利分类
申请人
公布日期

农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

专利下载VIP

公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

钻瓜专利网为您找到相关结果4个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[实用新型]一种用于半导体晶片加工的具有孔位编号的游星轮-CN202121621530.X有效
发明人： 班冬青;赵波 -专利权人：保定通美晶体制造有限责任公司
申请日： 2021-07-16 - 公布日： 2021-12-14 - 主分类号： B24B37/27 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于半导体晶片加工的具有孔位编号的游星轮，包括游星轮，所述游星轮上均布有多个用于放置半导体晶片的孔位,其中一个所述孔位的一侧设置有用于判断半导体晶片起始放入位置的标识，以所述标识为起点按一定的规则顺序依次将半导体晶片放入相应的所述孔位中。本实用新型准确的记录了晶片在游星轮中的实际位置，避免了晶片在游星轮中的无序摆放，当发生质量事故时能够根据详细的生产记录提出恰当的应对措施，提高了产品的可追溯性，有效地监控产品的质量，降低公司和客户的损失。
一种用于半导体晶片加工具有编号游星

[实用新型]一种用于半导体晶片加工的间距尺-CN202121718864.9有效
发明人： 班冬青;赵波 -专利权人：保定通美晶体制造有限责任公司
申请日： 2021-07-27 - 公布日： 2021-12-14 - 主分类号： B24B37/28 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于半导体晶片加工的间距尺，包括间距尺，所述间距尺包括手柄、内齿圆定位线、第一刻度线、第二刻度线和第三刻度线，所述间距尺的最上端设置有与内齿圆配合的内齿圆定位线，所述间距尺的左侧依次设置有与游星轮边缘配合的第一刻度线、第二刻度线和第三刻度线，所述间距尺的右侧与左侧镜像对称；所述间距尺的下端设置有手柄。本实用新型用于半导体晶片加工的间距尺能够准确的测量游星轮之间的距离，摆脱了对工人经验的依赖，使得游星轮在研磨盘表面能够均匀的分布，保证游星轮中的晶片承受了相等的压力，加工后的晶片厚度均匀一致，平整度好，产品质量得到显著提升。
一种用于半导体晶片加工间距

[发明专利]砷化镓表面化学腐蚀方法和化学腐蚀液-CN201210076407.3有效
发明人：王晓文;班冬青;赵波;刘丽杰;刘文森 -专利权人：北京通美晶体技术有限公司
申请日： 2012-03-21 - 公布日： 2012-08-01 - 主分类号： C30B33/10 文献下载
摘要：本发明提供了一种对砷化镓晶片进行化学腐蚀的方法，包括：将砷化镓晶片使用金属清洗剂浸洗；在氨水中浸洗；将砷化镓晶片放入化学腐蚀液中，在10～40℃的温度下腐蚀晶片表面；以去离子水冲洗晶片表面；干燥晶片。本发明还提供了一种砷化镓晶片进行化学腐蚀的化学腐蚀液，由质量比3.2～20％的氨水、8.3～33.0％的双氧水和水组成。本发明通过有效的化学药液腐蚀工艺，去除机械加工工序所造成的晶片损伤层，消除晶片内部应力，制作满足外延生长背面粗糙度要求的晶片，得到背面均匀一致，无背侵，无背花的晶片。
砷化镓表面化学腐蚀方法

[发明专利]一种金属抛光液及其制备方法-CN200610014412.6无效
发明人：仲跻和;李家荣;周云昌;班冬青 -专利权人：天津晶岭电子材料科技有限公司
申请日： 2006-06-23 - 公布日： 2007-12-26 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：一种金属抛光液，由磨料、表面活性剂、pH值调节剂、螯合剂和去离子水组成，各种成分所占的重量百分比为：磨料10～50％；表面活性剂0.1～1％；pH值调节剂1～5％；螯合剂0.1～1％；去离子水为余量；其pH值范围为8～12；磨料的粒径范围为15～100nm。该抛光液的制备方法是：首先将制备抛光液的各种组分分别进行过滤净化处理，然后在千级净化室的环境内，将各种组分在真空负压的动力下，通过质量流量计输入容器罐中并充分搅拌，混合均匀即可。本发明的优点是：抛光速率快，平坦度好；粒径小，晶片表面损伤小；容易清洗；无毒、无臭、无腐蚀；且抛光液制备简单，容易操作。
一种金属抛光及其制备方法

1
共 4 条

友情链接：交换友情链接需要网站权重大于4，网站收录10W以上，如符合条件，请联系QQ：76009968。

关于我们寻求报道投稿须知广告合作版权声明网站地图友情链接企业标识联系我们

在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

版权所有钻瓜科技（天津）有限公司津ICP备15000985号津公网安备 12019202000206号http://www.vipzhuanli.com/公布日期

咨询在线客服

咨询在线客服

tel code back_top