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[发明专利]一种晶圆盒内污染物萃取的方法-CN202310710439.2在审
发明人：黄梦可;王轶滢 -专利权人：上海集成电路材料研究院有限公司
申请日： 2023-06-15 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： B01D11/02 文献下载
摘要：本发明提供一种晶圆盒内污染物萃取的方法，包括：步骤S1：向晶圆盒内加入溶剂，溶剂量的体积是晶圆盒体积的5％～20％；步骤S2：调节至第一状态，晶圆盒以第一面水平并向上，晶圆盒围绕轴线转动，清洗包括所述第一面的四个面；步骤S3：调节至第二状态，使所述第一面竖直，晶圆盒围绕所述轴线转动，清洗剩余两个面：步骤S4：调节至第三状态，使所述第一面倾斜，晶圆盒围绕所述轴线转动，以清洗预定区域；步骤S5：取出溶剂，分析并计算污染物含量水平。具有有益技术效果：溶剂/萃取液使用量低，节约成本，可实现实时精准调整清洗过程，实现晶圆盒统一标准的萃取/清洗。
一种晶圆盒内污染物萃取方法

[发明专利]一种光刻胶中氰离子的测定方法-CN202310770967.7在审
发明人：邹阅超;王轶滢 -专利权人：上海集成电路材料研究院有限公司
申请日： 2023-06-28 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： G01N30/02 文献下载
摘要：本发明提供一种光刻胶中氰离子的测定方法，将光刻胶样品经过前处理获得提取液，再采用离子色谱‑安培检测法测定所述提取液中氰离子的含量，然后计算获得所述光刻胶样品中氰离子的含量。本发明中样品前处理步骤简单，且检出限低、精密度和准确度良好，可操作性强，对研究和评价光刻胶中的氰离子的含量有重要参考价值。
一种光刻胶中氰离子测定方法

[发明专利]一种晶圆盒部分表征模拟设计的方法-CN202310790761.0在审
发明人：黄梦可;王轶滢 -专利权人：上海集材汇智集成电路技术有限公司
申请日： 2023-06-30 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： G06F30/398 文献下载
摘要：本发明提供一种晶圆盒部分表征模拟设计的方法，包括：S1、建立晶圆盒各部分表征单元，若干第一表征并被赋初始值；S2、从所述第一表征和所述第一表征等比例放大、等比例缩小、翻转、部分放大、部分缩小或者部分翻转后的第二表征中抽取至少两个模拟第一设计、第二设计…和第s设计；S3、评价所述第一设计、所述第二设计…和所述第s设计，调整各表征的赋值；S4、表征的赋值不再增加，模拟结束。本发明具有将现有晶圆盒设计零件化后采取“模拟设计、评价、再模拟设计、再评价”的评价机制以持续优化零件，进而设计出新种类晶圆盒，采取预评价机制，节省时间。
一种晶圆盒部分表征模拟设计方法

[发明专利]一种模拟晶圆盒内污染物清洗的方法-CN202310710869.4在审
发明人：黄梦可;王轶滢 -专利权人：上海集材汇智集成电路技术有限公司
申请日： 2023-06-15 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： B08B9/20 文献下载
摘要：本发明提供一种模拟晶圆盒内污染物清洗的方法，包括：步骤100：确定晶圆盒清洗要素；步骤200：输入所述清洗要素模拟清洗进程，以使晶圆盒内表面n个点的清洗程度相同；步骤300：满足条件，停止模拟，所述清洗进程包括溶剂量、溶剂经过晶圆盒内表面n个点的路程、溶剂对晶圆盒内表面n个点的压力、进程中溶剂清洗成分的有效量、清洗次数，以及它们任意二者以上之间形成的关系；所述清洗次数至少包括溶剂清洗的循环次数；所述条件至少包括清洗量增量的减少。具有有益技术效果：得到最佳溶剂使用量和清洗路径的晶圆盒内污染物萃取/清洗方法，溶剂/萃取液使用量低，节约成本，可实现实时精准调整清洗过程，实现全部晶圆盒统一标准的萃取/清洗。
一种模拟晶圆盒内污染物清洗方法

[发明专利]一种用于晶圆盒内污染物萃取的装置-CN202310710454.7在审
发明人：黄梦可;王轶滢 -专利权人：上海集成电路材料研究院有限公司
申请日： 2023-06-15 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： B08B9/22 文献下载
摘要：本发明提供一种用于晶圆盒内污染物萃取的装置，包括控制器、由控制器控制的动力装置、旋转轴和连接轴；供连接轴在内滑动以控制连接轴在半球形方向上自由切换方向的万向器；连接轴连接晶圆盒并由动力装置带动以使晶圆盒围绕旋转轴的轴线旋转；所述万向器包括：垂直槽，以控制连接轴在垂直方向上滑动以实现第一状态旋转晶圆盒；第一状态是，晶圆盒以第一面水平，晶圆盒围绕所述轴线转动；水平槽，以控制连接轴在水平方向上滑动以实现第二状态旋转晶圆盒；第二状态是，使第一面竖直，晶圆盒围绕轴线转动。具有有益技术效果：使用程序替代人工实时精准调整清洗过程，实现全部晶圆盒统一标准的萃取/清洗，且溶剂/萃取液使用量低，节约成本。
一种用于晶圆盒内污染物萃取装置

[发明专利]一种自紧晶圆盒法兰的抓部件和晶圆盒内污染物萃取装置-CN202310710453.2在审
发明人：黄梦可;王轶滢 -专利权人：上海集成电路材料研究院有限公司
申请日： 2023-06-15 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本发明提供一种自紧晶圆盒法兰的抓部件，包括抓本体、容纳法兰的法兰腔，还包括位于所述抓本体内的自紧体及供其运动的自紧体腔；所述自紧体包括自紧头和自紧卡件，法兰在放置进所述法兰腔的过程中直接或间接挤压所述自紧头带动所述自紧体进入所述自紧体腔内的卡结构并且带动所述自紧卡件的至少一部分进入所述法兰腔将法兰锁闭在所述法兰腔内；还提供过一种使用该抓部件的晶圆盒内污染物萃取装置。本发明具有有益效果：快速固定晶圆盒方便运输清洗，并可使用机械装置以替代人工清洗晶圆盒、溶剂/萃取液量低、节约成本、实现全部晶圆盒统一的清洗。
一种紧晶圆盒法兰部件晶圆盒内污染物萃取装置

[发明专利]高通量气相沉积设备及气相沉积方法-CN201910759403.7有效
发明人：李卫民;俞文杰;朱雷;王轶滢 -专利权人：中国科学院上海微系统与信息技术研究所
申请日： 2019-08-16 - 公布日： 2020-08-28 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本发明提供一种高通量气相沉积设备及气相沉积方法，高通量气相沉积设备包括：反应腔室；旋转工作台，位于反应腔室内；气体导入装置，位于所述反应腔室内，且位于旋转工作台的上方；气体导入装置将反应腔室分割为上部腔室及下部腔室；气体导入装置上设有若干个通孔；气体隔离结构，位于上部腔室内，且将上部腔室分割为相互隔离的隔离气体腔室及反应气体腔室；隔离气体导入通道，位于反应腔室的腔壁上，且与隔离气体腔室相连通；反应气体导入通道，位于反应腔室的腔壁上，且与反应气体腔室相连通。本发明的高通量气相沉积设备只需要使用一套隔离气体供给系统及一套反应气体隔离系统共两套气体供给系统，结构简单，容易实现，且隔离度好。
通量沉积设备方法

[发明专利]高通量薄膜沉积设备及薄膜沉积方法-CN201910734707.8在审
发明人：李卫民;俞文杰;朱雷;王轶滢 -专利权人：中国科学院上海微系统与信息技术研究所
申请日： 2019-08-09 - 公布日： 2019-10-08 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明提供一种高通量薄膜沉积设备及薄膜沉积方法，高通量薄膜沉积设备包括：反应腔室；工作台，位于反应腔室内；挡板，位于反应腔室内，且位于工作台的上方，与工作台具有间距；挡板上设有沿挡板的厚度方向贯穿的通孔；驱动装置，与工作台及挡板二者中的至少一者相连接；材料源，位于反应腔室内，且位于挡板的上方，与挡板具有间距。本发明的高通量薄膜沉积设备结构简单、水平移动部件少、成本较低；位于工作平台上的衬底可以不水平移动，可以实现对衬底进行加热；易于集成在线测试装置及其他外部装备。
挡板薄膜沉积设备高通量工作台反应腔薄膜沉积室内衬底水平移动部件测试装置反应腔室工作平台集成在线驱动装置外部装备材料源通孔加热贯穿

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