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专利名称

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申请人
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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]视频图像处理方法以及显示设备-CN202010429474.3有效
发明人：查林;白晓楠;刘国卿;贾晓玲;王端秀 -专利权人：青岛信芯微电子科技股份有限公司
申请日： 2020-05-20 - 公布日： 2022-03-25 - 主分类号： G06T5/00 文献下载
摘要：本申请公开了一种视频图像处理方法以及显示设备。本申请中，获取解码后的待显示的图像；根据所述图像中各像素点与其邻域内其他像素点之间的灰度特征差异，确定所述图像中的块噪声像素点；对各块噪声像素点及其邻域内其他像素点进行滤波。
视频图像处理方法以及显示设备

[发明专利]低功耗芯片唤醒方法、装置及低功耗芯片-CN201810188148.0有效
发明人： 王端秀;黄修珉;陈凌玲 -专利权人：上海顺久电子科技有限公司
申请日： 2018-03-07 - 公布日： 2021-05-28 - 主分类号： G06F1/324 文献下载
摘要：本申请提供了一种低功耗芯片唤醒方法、装置及低功耗芯片，包括：主状态机分别给芯片收发器、中央处理器和存储器上电；所述主状态机与所述芯片收发器握手；所述主状态机通知从状态机与所述中央处理器和存储器握手；所述从状态机与所述中央处理器和存储器分别握手；其中，所述主状态机工作在低频时钟域，所述从状态机工作在高频时钟域。本申请提供的低功耗芯片唤醒方法、装置及低功耗芯片，由于从状态机与芯片收发器、中央处理器和存储器工作在相同的高频时钟域，相较于处于不同的时钟域，在进行芯片唤醒的时候，避免每一次跨时钟域同步延迟两个时钟周期，有助于降低低功耗芯片的唤醒时间，如此提高低功耗芯片的性能。
功耗芯片唤醒方法装置

[发明专利]一种图像数据取窗方法及装置-CN201610045583.9有效
发明人：吴彪;黄修珉;王端秀;郑方 -专利权人：青岛海信电器股份有限公司
申请日： 2016-01-22 - 公布日： 2018-08-14 - 主分类号： G09G5/37 文献下载
摘要：本发明实施例提供一种图像数据取窗方法及装置，涉及图像处理领域，能够降低图像数据处理时的时钟频率，保证时序，提高图像数据的处理速度。该图像数据取窗方法包括：在一个时钟节拍内，处理器同时获取至少两个待处理像素点；处理器根据每个待处理像素点的位置，获取每个待处理像素点对应的图像数据窗口，每个待处理像素点位于每个待处理像素点对应的图像数据窗口内。
一种图像数据方法装置

[发明专利]投影物镜最佳焦面检测装置及方法-CN201010530560.X有效
发明人：陈跃飞;徐兵;蔡巍;贾翔;王端秀 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2010-11-03 - 公布日： 2012-05-16 - 主分类号： G01M11/02 文献下载
摘要：本发明提出投影物镜最佳焦面检测装置，包括安装在光刻机工件台上的基准版和光电探测装置，光照射在所述光刻机中掩模版上的测量标记阵列上时，所述测量标记阵列通过所述投影物镜在所述基准版上成像，所述光电探测装置探测到所述基准版上的像；使用所述投影物镜最佳焦面检测装置的检测方法，利用最小二乘法得到中轴位置和清晰度的关系曲线，从而根据所述关系曲线的拐点所对应的中轴位置与测量标记阵列的视场的中轴位置的差值，来判断所述投影物镜最佳焦面的位置。投影物镜最佳焦面检测装置及方法，通过移动工件台，而所述投影物镜处于静止状态，就可以完成测量所述投影物镜最佳焦面的目的。
投影物镜最佳检测装置方法

[发明专利]一种硅片预对准装置及方法-CN201010286105.X有效
发明人：蔡巍;徐兵;陈跃飞;王端秀 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2010-09-17 - 公布日： 2012-04-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种硅片预对准装置，包括用于吸附硅片并带动硅片进行旋转的旋转台，用于获取硅片边缘在水平向位置的边缘水平向传感器，用于获取硅片边缘在垂向位置的边缘垂向传感器，用于对旋转台、边缘水平向传感器和边缘垂向传感器进行同步控制的控制器，其中，当旋转台旋转时，控制器向边缘水平向传感器和边缘垂向传感器发送同步触发信号，从而两个传感器同时获取各自当前的测量值，同步获得硅片的边缘水平向位置和边缘垂向位置，通过在该点的垂向位置测量值来补偿硅片边缘当前水平向测量值。硅片旋转一周，即可以获取硅片边缘所有的水平向测量值，进而可以获取硅片的偏心值和硅片缺口的方向。本发明还提供一种硅片预对准的方法。
一种硅片对准装置方法

[发明专利]双面对准装置及其对准方法-CN200910199445.6有效
发明人：蔡巍;徐兵;陈跃飞;张春莲;王端秀 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2009-11-26 - 公布日： 2011-06-01 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明提出了一种双面对准装置及其方法。双面对准装置包括掩模对准装置、硅片前表面对准装置和硅片后表面对准装置。掩模对准装置包括掩模照明光学系统、掩模成像光学系统和图像传感器，实现掩模标记对准；硅片前表面对准装置包括上述掩模照明光学系统、掩模成像光学系统和图像传感器，借助于投影物镜实现硅片前表面标记对准和工件台基准标记对准；硅片后表面对准装置包括底部照明光学系统、底部成像光学系统、上述掩模成像光学系统和图像传感器，借助于投影物镜实现硅片后表面标记对准。本发明的双面对准装置及其对准方法，降低了双面对准系统的设计成本及复杂度。
双面对准装置及其方法

[发明专利]一种消色差位置对准光学系统-CN200910201693.X无效
发明人：徐兵;蔡巍;张春莲;陈跃飞;王端秀 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2009-10-16 - 公布日： 2011-05-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种消色差位置对准光学系统，具有掩模对准光学系统、掩模版、光学投影系统和曝光对象，其中掩模对准光学系统包含掩模标记照明系统和掩模标记成像系统；所述掩模标记照明系统和光学投影系统组成曝光对象标记照明系统，所述掩模标记成像系统和光学投影系统组成曝光对象标记成像系统。该消色差位置对准光学系统包括从照明光纤出射端开始沿光轴依次设置的照明物镜组、分束直角棱镜、孔径光阑、前组成像物镜组、掩模版、光学投影系统和曝光对象，位于孔径光阑和前组成像物镜组的光轴上并在分束直角棱镜另一侧的后组成像物镜、场镜成像物镜组和CCD摄像机接收面。
一种色差位置对准光学系统

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