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[发明专利]一种IGZO薄膜蚀刻液-CN202010371438.6有效
发明人：胡涛;邢攸美;李盈盈;王小眉;方伟华;尹云舰;施珂 -专利权人：杭州格林达电子材料股份有限公司
申请日： 2020-05-06 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： C09K13/00 文献下载
摘要：本发明是一种IGZO薄膜蚀刻液，由如下重量百分比计的原料制成：2～5wt%的草酸、0.1～1wt%的蚀刻速率稳定剂、1～3wt%的水分挥发抑制剂、0.01‑1wt%的表面活性剂、余量为水，本发明中蚀刻液成分简单，工艺简单，性质稳定，容易储存，蚀刻速率适中，蚀刻均一性好，精度高。
一种 igzo 薄膜蚀刻

[实用新型]一种高效连续的电子级氨水制备系统-CN202220176752.3有效
发明人：蒋哲男;邢攸美;胡涛;高立江;王小栋;刘永南;王小眉;方伟华;尹云舰;施珂;沈健 -专利权人：杭州格林达电子材料股份有限公司
申请日： 2022-01-24 - 公布日： 2022-06-14 - 主分类号： B01F23/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种高效连续的电子级氨水制备系统，包括液氨罐，所述液氨罐通过管道连接缓冲罐，所述缓冲罐的另一端通过管道连接水洗单元，所述水洗单元的另一端通过管道连接吸收罐，所述水洗单元靠近所述缓冲罐的一端还连接有废液处理单元，所述废液处理单元的另一端连接污水处理系统，所述吸收罐的另一端通过管道并联连接所述水洗单元和成品单元，所述管道均设置有阀门。本实用新型实现电子级氨水制备系统的简单化、高效化、连续化。
一种高效连续电子氨水制备系统

[发明专利]一种TMAH系各向异性硅蚀刻液及其制备方法-CN201911250769.8有效
发明人：胡涛;邢攸美;高立江;王小眉;李玉兴;王小栋;尹云舰;方伟华;施珂 -专利权人：杭州格林达电子材料股份有限公司
申请日： 2019-12-09 - 公布日： 2022-03-25 - 主分类号： C09K13/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种TMAH系各向异性硅蚀刻液及其制备方法，所述蚀刻液包括18～25％重量份电子级四甲基氢氧化铵，3～10％重量份电子级四乙基氢氧化铵，1.3～2.8％重量份添加剂，0.01～0.2％重量份表面活性剂和剩余组分高纯水，上述各组分重量份总和为100％，其中所述添加剂包括1～2％重量份挥发剂和0.3～0.8％重量份催化剂，所述催化剂包括0.1～0.3％重量份调整蚀刻速度的催化剂、0.2～0.5％重量份改善硅表面平整度的催化剂。其制备方法包括在混配釜中加入电子级四甲基氢氧化铵、在不断搅拌条件下加入电子级四乙基氢氧化铵、添加剂、表面活性剂和余量水，并循环过滤3h以上。本发明制备的一种TMAH系各向异性硅蚀刻液具有较好的蚀刻精细度、蚀刻速率及蚀刻后硅片表面平整度。
一种 tmah 各向异性蚀刻及其制备方法

[实用新型]一种从剥离液废液中回收有机溶剂和光刻胶的装置-CN202020720676.9有效
发明人：胡涛;邢攸美;高立江;王小栋;王小眉;方伟华;尹云舰;施珂 -专利权人：杭州格林达电子材料股份有限公司
申请日： 2020-05-06 - 公布日： 2021-01-01 - 主分类号： C02F9/10 文献下载
摘要：本实用新型是一种从剥离液废液中回收有机溶剂和光刻胶的装置，包括原料罐，所述的原料罐通过管道依次连接有第一过滤器、吸附装置、多级精馏装置、多级过滤装置和污水处理系统，所述的多级过滤装置与第一过滤器连接，解决目前剥离液废液回收过程中设备投入高，难以应对复杂组成剥离液废液的问题，不仅减少面板厂废液废水处理的压力和费用，而且能够有效降低剥离液成本，从而达到了一个循环经济的目的。
一种剥离废液回收有机溶剂光刻装置

[实用新型]超重力精馏回收剥离液中有机组分的系统-CN201820818933.5有效
发明人：胡涛;邢攸美;高立江;王小眉;李玉兴;尹云舰;方伟华 -专利权人：杭州格林达电子材料股份有限公司
申请日： 2018-05-30 - 公布日： 2019-02-15 - 主分类号： B01D3/14 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种超重力精馏回收剥离液中有机组分的系统，所述系统包括原料罐，吸附槽、第一压力泵、第一级超重力精馏机、第一冷凝器、第一冷凝罐、第二压力泵、第二级超重力精馏机、沉降槽、过滤器、第三压力泵、第二冷凝器、第二冷凝罐、第四压力泵，第三级超重力精馏机、第五压力泵，第三冷凝器、成品罐和第六压力泵。本实用新型的系统通过三级超重力精馏机联动解决了光刻胶影响传质效率和易残留黏附于超重力精馏机中的问题，同时能够有效去除水分等低沸点物质，实现有多组分有机成分的分离，且设备体积小、工艺简单、能耗和成本低，循环工作效率高，有机组分回收率高。
超重力精馏压力泵本实用新型剥离液冷凝罐过滤器低沸点物质第二冷凝器第一冷凝器工作效率高组分回收率影响传质回收沉降槽成品罐第三级第一级光刻胶冷凝器体积小吸附槽原料罐联动去除黏附能耗残留

[发明专利]一种显影液组合物及其制备方法-CN201610861011.8在审
发明人：李盈盈;邢攸美;王海龙;洪明卫;尹云舰;王小眉;于晓芳 -专利权人：杭州格林达化学有限公司
申请日： 2016-09-29 - 公布日： 2016-12-14 - 主分类号： G03F7/32 文献下载
摘要：本发明涉及一种显影液，重量百分比组成如下：有机碱：0.01‑60％，非离子表面活性剂：0.01‑10％，两性表面活性剂：0.01‑15％，有机溶剂：1‑10％，余量为水。本发明应用有机强碱显影液，对光刻胶的渗透性好，显影速率快，金属含量为ppb级别，从而消除了金属离子杂质对TFT晶体管的不利影响；添加非离子表面活性剂及两性离子表面活性剂等，不仅兼顾了消泡性、分散稳定性，而且克服了现有技术显影液膜渣残留及操作温度范围窄的缺点；添加了水溶性有机溶剂，大大提高了显影使用时的持久性。该显影液在拥有优异的显影性能的同时，还具有低泡沫、对彩色光阻具有良好的分散稳定性，有效降低膜渣的形成，显影性能好，无残渣，操作温度范围宽等特点。
一种显影液组合及其制备方法

[实用新型]一种显影液中光刻胶树脂回收再利用装置-CN201320478076.6有效
发明人：梁小朝;黄源;尹云舰;陈栋其;王小眉 -专利权人：杭州格林达化学有限公司
申请日： 2013-08-06 - 公布日： 2014-02-12 - 主分类号： G03F7/26 文献下载
摘要：一种显影液中光刻胶树脂回收再利用装置，包括废液槽、第一过滤装置、溶解槽、第二过滤装置、纳滤装置和浓缩装置，废液槽包括沉淀剂进口和显影液废液进口，废液槽的出口通过连接管与第一过滤装置的进口连接，第一过滤装置的上部出口与溶解槽的第一进口连通，第一过滤装置的下部出口为TMAH废液出口，溶解槽的第二进口为溶剂进口，溶解槽的出口与第二过滤装置的进口连通，第二过滤装置的上部出口为残渣出口，第二过滤装置的下部出口与纳滤装置的入口连通，纳滤装置的第一出口为树脂出口，纳滤装置的第二出口为杂质出口，纳滤装置的第一出口与浓缩装置的入口连通，浓缩装置包括光刻胶树脂出口和溶剂出口。本实用新型降低成本、环保性良好。
一种显影液光刻树脂回收再利用装置

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