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[发明专利]表面保护薄膜-CN201780081267.X有效
发明人： 渡部奈津子;三井数马;野中崇弘 -专利权人：日东电工株式会社
申请日： 2017-12-18 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： C09J7/20 文献下载
摘要：本发明提供带一种隔离体的光学用表面保护薄膜，其通过对构成层叠在光学用表面保护薄膜上的隔离体的聚酯类基材的厚度进行限定并进一步设置空洞，从而抑制隔离体的相对于粘合剂层的剥离力，使得剥离性、作业性优异，进而，通过因具有空洞而缓冲性优异的隔离体，能够抑制由隔离体引起的压痕的产生。本发明的带隔离体的光学用表面保护薄膜的特征在于，具有：在基材薄膜的至少单面具有粘合剂层的光学用表面保护薄膜、以及在前述基材薄膜的与粘合剂层接触的面的相反面具有的隔离体，前述隔离体具有脱模层和聚酯类基材，前述聚酯类基材具有空洞，前述聚酯类基材的厚度为25～100μm，前述隔离体的相对于前述粘合剂层的180°起始剥离力为0.7N/50mm以下。
表面保护薄膜

[发明专利]表面保护薄膜-CN201780081294.7有效
发明人： 渡部奈津子;三井数马;野中崇弘 -专利权人：日东电工株式会社
申请日： 2017-12-18 - 公布日： 2022-02-25 - 主分类号： C09J7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种带隔离体的光学用表面保护薄膜，其通过在构成层叠于光学用表面保护薄膜的隔离体的聚酯类基材中设置空洞，将聚酯类基材的比重控制得较低，从而将隔离体自身的重量控制得较低，使得作业性优异，进而，通过因具有空洞而缓冲性优异的隔离体，能够抑制由隔离体引起的压痕的产生。本发明的带隔离体的光学用表面保护薄膜的特征在于，具有：在基材薄膜的至少单面具有粘合剂层的光学用表面保护薄膜、以及在前述基材薄膜的与粘合剂层接触的面的相反面具有的隔离体，前述隔离体具有脱模层和聚酯类基材，在前述聚酯类基材中具有空洞，前述聚酯类基材的比重为1.2g/cm3以下。
表面保护薄膜

[发明专利]表面保护薄膜-CN201780081268.4有效
发明人： 渡部奈津子;三井数马;野中崇弘 -专利权人：日东电工株式会社
申请日： 2017-12-18 - 公布日： 2021-10-26 - 主分类号： B32B27/00 文献下载
摘要：本发明提供一种带隔离体的光学用表面保护薄膜，其中，在使用自动贴合机对带隔离体的光学用表面保护薄膜进行位置调整并在光学构件表面贴合剥离隔离体后的光学构件用表面保护薄膜时，基于隔离体的位置调整性优异，可以在光学构件表面以准确的位置粘贴光学用表面保护薄膜。本发明的带隔离体的光学用表面保护薄膜的特征在于，具有：在基材薄膜的至少单面具有粘合剂层的光学用表面保护薄膜、以及在前述基材薄膜的与粘合剂层接触的面的相反面具有的隔离体，前述隔离体具有脱模层和基材，前述隔离体的雾度为90％以上、总透光率为50％以下。
表面保护薄膜

[发明专利]表面保护薄膜、光学构件、及显示装置-CN201980022754.8在审
发明人：三井数马;渡部奈津子;野中崇弘 -专利权人：日东电工株式会社
申请日： 2019-03-28 - 公布日： 2020-11-10 - 主分类号： C09J7/38 文献下载
摘要：提供在维持作为表面保护薄膜的抗静电性的状态下抑制带脱模薄膜的表面保护薄膜自身的卷曲、进而能够防止对被粘物的污染的表面保护薄膜。本发明的表面保护薄膜的特征在于，设置有：由树脂材料形成的基材薄膜；在前述基材薄膜的单面设置的由粘合剂组合物形成的粘合剂层，所述粘合剂组合物含有作为基础聚合物的(甲基)丙烯酸类聚合物和作为抗静电成分的离子性化合物；在前述基材薄膜的具有前述粘合剂层的面的相反面设置的包含抗静电成分的抗静电层；和在前述粘合剂层的具有前述基材薄膜的面的相反面设置的脱模薄膜，前述脱模薄膜的脱模处理面不含有机硅成分。
表面保护薄膜光学构件显示装置

[发明专利]表面保护薄膜、表面保护薄膜的制造方法及光学构件-CN201510836668.4有效
发明人： 渡部奈津子;片冈贤一;天野立巳 -专利权人：日东电工株式会社
申请日： 2015-11-26 - 公布日： 2020-10-16 - 主分类号： C09J7/30 文献下载
摘要：本发明涉及表面保护薄膜、表面保护薄膜的制造方法及光学构件。本发明提供触控面板用表面保护薄膜、所述表面保护薄膜的制造方法以及光学构件，所述触控面板用表面保护薄膜的防静电性、剥离静电电压的经时稳定性优良，能够进行触控面板的操作确认，剥离表面保护薄膜后的被粘物表面对层间填充剂的润湿性也优良。本发明的触控面板用表面保护薄膜具备具有第一面和第二面的基材、设置在所述基材的所述第一面上的防静电层和在所述基材的所述第二面上由粘合剂组合物形成的粘合剂层，其特征在于，所述防静电层由含有作为导电性聚合物成分的聚苯胺磺酸、作为粘结剂的聚酯树脂以及作为交联剂的异氰酸酯类交联剂的防静电剂组合物形成，所述粘合剂组合物含有(甲基)丙烯酸类聚合物和聚醚化合物，相对于所述(甲基)丙烯酸类聚合物100质量份，含有0.03～14质量份所述聚醚化合物。
表面保护薄膜制造方法光学构件

[发明专利]表面保护膜及光学构件-CN201680004757.5有效
发明人：片冈贤一;渡部奈津子;三井数马;天野立巳 -专利权人：日东电工株式会社
申请日： 2016-01-12 - 公布日： 2020-07-21 - 主分类号： C09J7/25 文献下载
摘要：本发明提供一种可实现防静电性和剥离静电压的经时稳定性的表面保护膜及光学构件。本发明的表面保护膜具备：具有第一面和第二面的基材、设于上述基材的上述第一面的防静电层、以及于上述基材的上述第二面由粘着剂组合物形成的粘着剂层，该表面保护膜的特征在于：上述防静电层由防静电剂组合物形成，所述防静电剂组合物含有作为导电性聚合物成分的聚苯胺磺酸和聚阴离子类掺杂聚噻吩类、以及粘合剂，上述聚苯胺磺酸与上述聚阴离子类掺杂聚噻吩类的配比(质量比)为90：10～10：90。
表面保护膜光学构件

[发明专利]粘合片和光学构件-CN201610037444.1有效
发明人： 渡部奈津子;天野立巳;三井数马 -专利权人：日东电工株式会社
申请日： 2016-01-20 - 公布日： 2020-05-22 - 主分类号： C09J7/29 文献下载
摘要：本发明涉及粘合片和光学构件。本发明提供能够提高拾取性的粘合片以及由所述粘合片保护的光学构件。本发明的粘合片依次具有第1树脂层、第2树脂层和第3树脂层以及由粘合剂组合物形成的粘合剂层，其特征在于，所述第1树脂层和所述第3树脂层的拉伸强度为180MPa以上，所述第2树脂层的拉伸强度小于150MPa，所述第2树脂层的厚度相对于所述第1树脂层的厚度与所述第3树脂层的厚度之和的比值为10以下，所述粘合片的相对于三乙酰纤维素薄膜的、在23℃、50％RH条件下的180°剥离起始剥离力为6N/25mm以下，将所述粘合片切割为宽度20mm、长度150mm，以粘合面朝向外侧的方式用胶带将端部固定到玻璃板上时的中心高度H1与在中心位置载置4.8g的载荷时的中心位置高度H2之差(挠曲量)小于35mm。
粘合光学构件

[发明专利]带面涂层的薄膜、表面保护薄膜及光学部件-CN201811130449.4在审
发明人：山形真人;片冈贤一;渡部奈津子 -专利权人：日东电工株式会社
申请日： 2018-09-27 - 公布日： 2019-04-16 - 主分类号： C09J7/25 文献下载
摘要：本发明涉及带面涂层的薄膜、表面保护薄膜及光学部件。提供以高水平保持外观品质、并且还具有印字耐水性的带面涂层的薄膜。带面涂层的薄膜(10)具备：薄膜基材(12)、和设置于薄膜基材(12)的一个表面(12A)的面涂层(14)。面涂层(14)的厚度超过10nm且不足50nm。面涂层表面(14A)满足以下特性：(A)水接触角为75°以上；(B)在23℃、粘贴后30分钟及拉伸速度0.3m/分钟的条件下测定的标准丙烯酸系粘合带相对于前述面涂层表面的180度剥离强度为1.0N/19mm以上；及(C)动摩擦系数为0.4以下。
面涂层带面薄膜表面保护薄膜薄膜基材光学部件标准丙烯酸动摩擦系数水接触角外观品质耐水性粘合带拉伸印字粘贴剥离

[发明专利]表面保护膜-CN201810239654.8在审
发明人：三井数马;渡部奈津子;野中崇弘;林圭治 -专利权人：日东电工株式会社
申请日： 2018-03-22 - 公布日： 2018-10-09 - 主分类号： C09J7/30 文献下载
摘要：本发明涉及表面保护膜。本发明提供一种紫外线的透射率低、抑制了色调变化、粘合力稳定性优异的光学用表面保护膜。本发明的光学用表面保护膜具有由聚酯类树脂形成的基材以及设置于所述基材的单面的由粘合剂组合物形成的粘合剂层，其特征在于，所述表面保护膜的b*值为2以下，所述表面保护膜的波长365nm时的透射率为2％以下，将所述粘合剂层粘贴在玻璃上之后，在100℃下加热30分钟后的粘合力相对于加热前的粘合力的变化率为±30％以下。
表面保护膜粘合力粘合剂层透射率基材加热粘合剂组合物聚酯类树脂色调变化变化率波长紫外线粘贴玻璃

[发明专利]压敏胶粘剂层和压敏胶粘片-CN201410123970.0有效
发明人： 渡部奈津子;三井数马;天野立巳;新美健二郎 -专利权人：日东电工株式会社
申请日： 2014-03-28 - 公布日： 2017-10-10 - 主分类号： C09J133/00 文献下载
摘要：本发明涉及压敏胶粘剂层和压敏胶粘片。本发明公开一种压敏胶粘剂层，所述压敏胶粘剂层包含基础聚合物并具有如下性能(1)和(2)在将压敏胶粘片A层压至被粘物X的表面，将其在23℃温度和30%湿度下静置12小时，然后将所述压敏胶粘片A剥离的情况中，(1)在所述被粘物X的已剥离了所述压敏胶粘片A的表面上水接触角A为70°以下；和(2)压敏胶粘带B相对于所述被粘物X的已剥离了所述压敏胶粘片A的表面的压敏胶粘强度比所述压敏胶粘带B对未进行任何处理的所述被粘物X的表面的压敏胶粘强度更高。
胶粘剂胶粘

[发明专利]粘合片和光学构件-CN201510962004.2在审
发明人： 渡部奈津子;天野立巳 -专利权人：日东电工株式会社
申请日： 2015-12-21 - 公布日： 2016-07-06 - 主分类号： C09J7/02 文献下载
摘要：本发明涉及粘合片和光学构件。本发明提供能够实现粘合特性和拾取性的提高的粘合片以及由所述粘合片保护的光学构件。本发明的粘合片的特征在于，依次具有第一树脂层、胶粘层、第二树脂层和由粘合剂组合物形成的粘合剂层，所述胶粘层的厚度相对于所述第一树脂层的厚度与所述第二树脂层的厚度之和的比值为0.50以下，所述胶粘层的23℃下的储能弹性模量为1.0×10⁴Pa以上且小于5.0×10⁷Pa，所述粘合剂组合物含有含亚烷氧基化合物。
粘合光学构件

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