专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种电池极片的制备方法及应用-CN202310645947.7在审
  • 请求不公布姓名 - 深圳市原速光电科技有限公司
  • 2023-06-01 - 2023-09-12 - H01M4/139
  • 本发明属于电池技术领域,公开了一种电池极片的制备方法及应用。该电池极片的制备方法包括以下步骤:将未辊压、具有活性物质的极片进行镀膜,然后进行辊压,得到辊压后的极片;将辊压后的极片再次进行镀膜,得到电池极片。本发明通过在未辊压的极片上进行镀膜,在未辊压状态下,极片具有较大的孔隙率,气态的前驱体可以在孔隙内部充分扩散,增加对极片上深层次的活性物质的包覆,在后续辊压过程中,活性物质表面所包覆的薄膜可能受外力损坏,本发明设计了在辊压后再次进行镀膜的工序,以增强对活性物质的保护,从而提高对活性物质的包覆均匀性,提高电极稳定性。
  • 一种电池制备方法应用
  • [发明专利]屏蔽结构、喷淋头以及等离子体设备-CN202310776601.0在审
  • 请求不公布姓名 - 深圳市原速光电科技有限公司
  • 2023-06-27 - 2023-09-12 - C23C16/52
  • 本发明公开了一种屏蔽结构、喷淋头以及等离子体设备。该屏蔽结构,对喷淋电极进行屏蔽,包括:壳部,壳部形成有用于容纳喷淋电极的容纳腔,容纳腔的底部开设有避让槽,在喷淋电极被容纳在容纳腔的状态下,喷淋电极的喷淋孔从避让槽露出;盖部,盖住容纳腔,和壳部一起包裹喷淋电极并对喷淋电极进行屏蔽;壳部和盖部当中,其中一个具有朝向另一个突出的突出区域,另外一个具有沿突出区域突出的方向凹入的凹入区域,在盖部和壳部相互盖合的状态下,盖部盖住容纳腔,且突出区域和凹入区域以环绕喷淋电极的外周的方式相互对接。本发明的屏蔽结构能够抑制在其间隙中产生打火现象。
  • 屏蔽结构喷淋以及等离子体设备
  • [发明专利]一种改性电池隔膜及其制备方法和应用-CN202310578074.2在审
  • 请求不公布姓名 - 深圳市原速光电科技有限公司
  • 2023-05-19 - 2023-09-08 - H01M50/449
  • 本发明公开了一种改性电池隔膜及其制备方法和应用,所述电池隔膜包括:隔膜;隔膜中有孔;导电离子层;导电离子层设于所述隔膜层的外表面;修饰层;修饰层设于所述导电离子层的外表面;导电离子层的制备原料为氧化物和固态电解质中的至少一种;修饰层的制备原料包括氧化物,氮化物和氟化物中的至少一种;导电离子层和所述修饰层通过原子层沉积法依次设置于所述隔膜。本发明的改性电池隔膜及其制备方法和应用,针对现有技术的缺陷,通过原子层沉积法在隔膜表面构建了0.1‑20nm导电离子层和修饰层的改性电池隔膜,大大减小了镀层的厚度同时使改性电池隔膜兼具耐高压,导离子,亲电解液和防腐蚀的性能。
  • 一种改性电池隔膜及其制备方法应用
  • [发明专利]一种复合腐蚀铝箔及其制备方法和应用-CN202310650812.X在审
  • 请求不公布姓名 - 深圳市原速光电科技有限公司
  • 2023-06-02 - 2023-09-08 - H01G9/045
  • 本发明公开了一种复合腐蚀铝箔及其制备方法和应用,属于电容器材料技术领域。本发明提供的复合腐蚀铝箔包括自铝箔基体,以及自铝箔基体而始依次叠加的:原生氧化层和电介质层;其中电介质层包括化成氧化铝层,以及以ALD法在化成氧化铝层至少一侧表面的设置的高K介电层;高K介电层的材质包括TiO2、HfO2、ZrO2、Ta2O5、Nb2O5、La2O3、BaTiO3和SrTiO3中的至少一种。本发明提供的复合腐蚀铝箔,能够有效提高其单位面积的CV值,并且所得复合腐蚀铝箔可适用于各种电压,制备方法简单。本发明还提供了上述复合腐蚀铝箔的制备方法和应用。
  • 一种复合腐蚀铝箔及其制备方法应用
  • [发明专利]一种锂离子电池及其正极极片-CN202211417707.3有效
  • 请求不公布姓名 - 深圳市原速光电科技有限公司
  • 2022-11-14 - 2023-08-25 - H01M4/13
  • 本发明属于电池技术领域,具体涉及一种锂离子电池,包括正极集流体、正极活性物质层和设置于所述正极活性物质层表面的具有离子传输性能的CEI保护层,所述活性物质层至少包括正极活性物质;所述CEI保护层为嵌入锂或锂合金化之后具有锂离子传输能力的氧化物,或者为锂离子导体。相对于现有技术,本发明采用沉积技术在正极极片表面构建一层纳米级的人工CEI膜层,从而可以解决包覆层不均匀的问题,同时将传统的包覆厚度从100nm降到0.1‑10nm左右;并可以提高正极材料表面的离子电导性能,帮助构建连通极片活性物质、导电剂、集流体的3D导电网络;此外,还可以有效得抑制极片与电解液的副反应,同时阻止阳离子的溶解,保持正极材料的结构稳定。
  • 一种锂离子电池及其正极
  • [实用新型]用于镀膜设备的自锁装置及镀膜设备-CN202320171245.5有效
  • 请求不公布姓名 - 深圳市原速光电科技有限公司
  • 2023-01-16 - 2023-08-11 - C23C16/458
  • 本实用新型涉及薄膜制备设备技术领域,涉及一种用于镀膜设备的自锁装置及镀膜设备。用于镀膜设备的自锁装置包括安装座、承载架和自锁组件;安装座连接于外部构件;承载架用于承托产品,承载架相对于安装座活动设置,且承载架至少部分位于安装座的上侧;自锁组件活动连接于安装座,自锁组件至少部分位于承载架的底部,在承载架放置于自锁组件上时,自锁组件用于抵接于承载架的外侧壁。使用本实施例的自锁装置时,将放置有样品架的承载架放置于自锁组件上,此时承载架便可以在自身的重力作用下驱使自锁组件活动,以使自锁组件抵接于承载架的侧壁,由此即可通过承载架的自身重力将其固定于安装座上,结构简单,固定效果好。
  • 用于镀膜设备装置
  • [发明专利]进气结构与沉积装置-CN202310162573.3在审
  • 请求不公布姓名 - 深圳市原速光电科技有限公司
  • 2023-02-17 - 2023-07-18 - C23C16/455
  • 本发明公开了一种进气结构与沉积装置,进气结构包括第一仓体、第二仓体与第一分散部件,第一仓体具有第一腔室与连通第一腔室的第一进气口,第二仓体连接于第二仓体,具有与第一腔室连通的第二腔室;第一分散部件设置于第一腔室内,朝向第一进气口凸出设置,沿气体相对第一分散部件流动的第一流动方向,第一分散部件具有多组第一通道,各组第一通道的通气面积逐渐缩小,和/或,各组第一通道之间的距离逐渐增加。第一分散部件朝第一进气口突出设置,能够引导气体朝远离第一进气口的流动,避免气体聚集在靠近第一进气口的位置,同时结合第一分散部件上第一通道的差异化设计,降低第一分散部件远离第一进气口一端的通气能力,从而实现提高气体整体分布的均匀性。
  • 结构沉积装置
  • [实用新型]进气装置以及等离子体设备-CN202320290493.1有效
  • 请求不公布姓名 - 深圳市原速光电科技有限公司
  • 2023-02-09 - 2023-07-04 - C23C16/455
  • 本实用新型公开了进气装置以及等离子体设备。该进气装置被使用在等离子体设备中,其中,所述等离子体设备具有工艺腔以及等离子体发生器,所述工艺腔和所述等离子体发生器之间,通过输送通道连通,所述输送通道通过隔离装置被隔离,所述进气装置设置在所述工艺腔和所述等离子体发生器之间,并位于所述隔离装置的下方,所述进气装置形成有环状的进气通道,所述进气通道至少环绕所述输送通道的外侧的一部分并与所述工艺腔相对。根据本实用新型的进气装置,能够提高工艺气体进气的均匀性,并抑制等离子体的衰减。
  • 装置以及等离子体设备
  • [实用新型]等离子体发生器以及镀膜设备-CN202320169743.6有效
  • 请求不公布姓名 - 深圳市原速光电科技有限公司
  • 2023-01-18 - 2023-07-04 - H05H1/24
  • 本实用新型提出了一种等离子体发生器以及镀膜设备,其中,该等离子体发生器包括:第一电极部,具有至少一个第一电极板,在俯视视角下,第一电极板的中部与射频电极连接,第一电极板上具有多个出气孔;第二电极板,第二电极板被接地,第二电极板与第一电极板隔开而对置;进气部,朝向第一电极部进气,进气部具有多个绝缘板,多个绝缘板沿第一电极板和第二电极板的对置方向层叠,各绝缘板上分别形成有多个进气孔,在多个绝缘板相互层叠的状态下,各绝缘板的进气孔相互连通,并且,在俯视视角下,相邻的两个绝缘板上的进气孔相互错位。本实用新型的等离子体发生器能够至少一定程度上提高进气的均匀性,并由此提高产生的等离子体的均匀性。
  • 等离子体发生器以及镀膜设备
  • [实用新型]基片架及镀膜设备-CN202320224210.3有效
  • 请求不公布姓名 - 深圳市原速光电科技有限公司
  • 2023-01-18 - 2023-06-27 - C23C16/458
  • 本实用新型公开了一种基片架及镀膜设备,其中基片架包括支撑架及载样组件,载样组件包括支撑板、柔性层及限位件,柔性层覆盖于支撑板的一侧表面,柔性层远离支撑板的一侧形成载样面;限位件连接于支撑板和/或柔性层,限位件用于抵接于基片的边缘以使基片压紧于载样面。由于柔性层具有一定的弹性,即使基片存在边角翘曲、外形收缩、热变形等情况,导致基片的实际尺寸和形状可能与理论尺寸和形状存在差异,和/或载样组件的部件存在尺寸、形状和安装误差,柔性层也能够紧密地覆盖基片无需镀膜的背侧,从而有效降低工艺气体渗入基片背侧导致极片背侧沉积薄膜的可能性,提高成品率,降低生产成本。
  • 基片架镀膜设备
  • [实用新型]密封机构及镀膜设备-CN202320171416.4有效
  • 请求不公布姓名 - 深圳市原速光电科技有限公司
  • 2023-01-16 - 2023-06-16 - E06B5/00
  • 本实用新型涉及薄膜制备设备技术领域,涉及一种密封机构及镀膜设备。密封机构包括腔体结构和腔门结构,腔体结构一侧设有内壁,且内壁贯穿设有腔口;腔门结构活动连接于腔体结构,且腔门结构用于密封腔口,腔门结构朝向内壁的一侧设有内弧面;在腔门结构密封腔口时,内弧面的边缘与腔口的边缘齐平,且内弧面至少部分与内壁齐平。在本实施例的密封结构中,当腔门结构密封于腔体结构的腔口时,腔门结构的内弧面的边缘可以与腔口的边缘呈齐平状态,当气流通过内壁流动至腔门结构时,可以避免气流出现扰动现象,以提高气流的流动性。当密封机构应用于镀膜设备中时,可以使镀膜设备具有更为紧凑的结构,减小空间占用,使用效果好。
  • 密封机构镀膜设备
  • [实用新型]一种镀膜设备-CN202320178735.8有效
  • 请求不公布姓名 - 深圳市原速光电科技有限公司
  • 2023-01-18 - 2023-06-16 - C23C16/455
  • 本实用新型公开了一种镀膜设备。镀膜设备包括主体、第一汇流管和多个第二汇流管。主体具有环绕呈环形的侧壁,主体设置有多个第一导气孔,各第一导气孔沿主体的周向均匀分布于侧壁。第一汇流管设置有第一合流口和多个第一分流口,第一合流口用于连接出气装置或者吸气装置,第一合流口和各第一分流口分别连通第一汇流管,第一合流口至各第一分流口之间的管线长度相等,第二汇流管用于第一分流口与第一导气孔连通并使得第一合流口至分别对应连通的第一导气孔的管线长度相同。通过应用第一汇流管对输送或者抽吸的气体进行配气,能够使得气体的输送均匀或者各第一导气孔的抽吸力度均匀,进而使得各第一导气孔的导气均匀,确保镀膜效果。
  • 一种镀膜设备
  • [发明专利]基片架及镀膜设备-CN202310095047.X在审
  • 请求不公布姓名 - 深圳市原速光电科技有限公司
  • 2023-01-18 - 2023-06-13 - C23C16/458
  • 本发明公开了一种基片架及镀膜设备,其中基片架包括支撑架及载样组件,载样组件包括支撑板、柔性层及限位件,柔性层覆盖于支撑板的一侧表面,柔性层远离支撑板的一侧形成载样面;限位件连接于支撑板和/或柔性层,限位件用于抵接于基片的边缘以使基片压紧于载样面。由于柔性层具有一定的弹性,即使基片存在边角翘曲、外形收缩、热变形等情况,导致基片的实际尺寸和形状可能与理论尺寸和形状存在差异,和/或载样组件的部件存在尺寸、形状和安装误差,柔性层也能够紧密地覆盖基片无需镀膜的背侧,从而有效降低工艺气体渗入基片背侧导致极片背侧沉积薄膜的可能性,提高成品率,降低生产成本。
  • 基片架镀膜设备

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