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[发明专利]一种提高特殊材质原材料块晶片切割良率的工艺方法-CN202310878092.2在审
发明人：韩威风;韩巍巍;王丙森;陈帅统;徐磊磊 -专利权人： 浙江美迪凯光学半导体有限公司
申请日： 2023-07-18 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明公开了一种提高特殊材质原材料块晶片切割良率的工艺方法。其工艺方法步骤流程包括保护环取圆、产品与保护环粘合、产品整体粘贴至粘料基板、线切割和脱胶。本发明将产品放入保护环材料块中并与保护环材料块粘合后整体一起线切割，完成后脱胶，将线切割的受力点转移至两侧，将产品切割时的受力点降到最小，再配合合适的切割参数，不仅能够保证此产品的良率，还降低了人力物力等成本。
一种提高特殊材质原材料晶片切割工艺方法

[发明专利]一种树脂片上AR镀膜工艺-CN202111098085.8有效
发明人：王刚;叶炜昊;张亚星;万维岩 -专利权人： 浙江美迪凯光学半导体有限公司
申请日： 2021-09-18 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： C23C14/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种树脂片上AR镀膜工艺。本发明工艺通过将大尺寸树脂片切割成小尺寸树脂片小片，然后贴上UV膜进行AR镀膜，镀膜时对功率和每次镀膜的间隔时间进行严格控制，防止出现温度超过85℃，导致树脂片的特性发生改变，减小产品发生的形变，防止造成产品表面膜裂，提升产品的加工质量，提升良品率。
一种树脂 ar 镀膜工艺

[实用新型]一种SOT焊线压板-CN202321110865.4有效
发明人：唐家云;朱双信 -专利权人： 浙江美迪凯光学半导体有限公司
申请日： 2023-05-10 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： B23K37/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种SOT焊线压板，包括上夹具和下夹具，下夹具底部中心设置真空吸附口连通真空吸附设备，下夹具表面中心对应SOT封装框架的焊线位置均匀设置多个真空吸附孔，真空吸附孔通过真空吸附通道连通真空吸附口，上夹具表面中心对应封装框架的焊线位置均匀设置多个定位孔，多个定位孔呈多组设置于上夹具表面中心的定位凹槽内，上夹具底部对应SOT封装框架的间隙位置设置压紧凸条，上夹具表面两边设置有多个散热孔。本实用新型专用于SOT封装焊线工序中，将铜线稳定的焊在SOT封装框架上，通过此夹具作业，可以稳定焊接，不会出现产品翘曲现象和铜线的线弧高度差异，提高产品良率。
一种 sot 压板

[实用新型]一种RGB-IRP膜组及用于制备RGB-IRP膜组的装置-CN202320434142.3有效
发明人：翁钦盛;王刚;叶炜昊 -专利权人： 浙江美迪凯光学半导体有限公司
申请日： 2023-03-09 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： G02B5/20 文献下载
摘要：本实用新型提供一种RGB‑IRP膜组及用于制备RGB‑IRP膜组的装置，其包括玻璃基板，所述玻璃基板上有R膜、G膜、B膜或IRP膜中的一种或几种镀膜，不包括IRC膜和/或IRC滤光片，所述R膜、G膜、B膜或IRP膜均直接与玻璃基板接触，所述镀膜的材料包括TIO2、TA2O5、HFO2、SIO2、AL2O3中一种或几种。本实用新型镀膜的成品透过率相较采用(RGB‑IRP)胶接近翻倍的提升，由于镀膜曲线可以针对不需要的波段进行截止，就无需IRC膜或者IRC滤光片，且斜率较大，可以让带宽变大，有效增加了通光量。
一种 rgb irp 用于制备装置

[发明专利]一种RGB-IRP膜组及其制备工艺-CN202310221995.3在审
发明人：翁钦盛;王刚;叶炜昊 -专利权人： 浙江美迪凯光学半导体有限公司
申请日： 2023-03-09 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明提供一种RGB‑IRP膜组及其制备工艺，其包括如下可循环环节，依次为涂胶、光刻显影、镀膜和去胶，其中镀膜其为进行R膜、G膜、B膜或IRP膜中的一种或几种镀膜作业，所述涂胶采用的为光刻胶。本发明镀膜的成品透过率相较采用(RGB‑IRP)胶接近翻倍的提升，由于镀膜曲线可以针对不需要的波段进行截止，就无需IRC膜或者IRC滤光片，且斜率较大，可以让带宽变大，有效增加了通光量。
一种 rgb irp 及其制备工艺

[发明专利]一种F PAD腐蚀新型处理工艺-CN202211316791.X在审
发明人：邵铭;朱毅 -专利权人： 浙江美迪凯光学半导体有限公司
申请日： 2022-10-26 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种F PAD腐蚀新型处理工艺。本发明只处理PAD表面凸起腐蚀异物，不会造成PAD表面损伤，不会削减PAD厚度，且有效区得到有效保护。相比而言国际上流行使用EKC清洗方式去除F PAD，是通过不断削减PAD厚度原理去除F PAD。本发明工艺可进行重复多次直至完全清除，而EKC清洗只能清洗1‑2次后就因PAD厚度问题无法再次进行。本发明工艺将原有工艺确认腐蚀后不可使用的产品修复后重新利用，减少了产品的报废，大大节省了成本。
一种 pad 腐蚀新型处理工艺

[实用新型]一种圆形切割平台-CN202223347780.6有效
发明人：苏炜;李飞;陈攀登 -专利权人： 浙江美迪凯光学半导体有限公司
申请日： 2022-12-14 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： B26D7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种圆形切割平台，包括圆形平台，圆形平台表面上设置有一方形的吸附区，吸附区内中心设置有吸附口，吸附区内由吸附区中心向外均匀设置有多道内凹的环形吸附槽，吸附区内对角线方向分别设置有内凹的直线形吸附槽，将多道环形吸附槽与中心吸附口连通，圆形平台表面背面中心设置有连通真空吸附设备的吸附通道，吸附通道连通吸附口。本实用新型采用圆形不锈钢平台，通过吸附区内直线形吸附槽、环形吸附槽和中心吸附口的设置，实现吸附区内的真空吸附功能，同时不锈钢平台承重好，不易损伤，适用于较为厚重的产品切割；方形吸附区设置便于方形产品切割利用；且设置测高块，来降低切割刀轮刀片磨损对产品切割精度的影响。
一种圆形切割平台

[实用新型]一种大尺寸抛光机修正用的组合式金刚石修正轮组-CN202221895120.9有效
发明人：韩巍巍;苏洲洋;纪枭;韩威风;王丙森 -专利权人： 浙江美迪凯光学半导体有限公司
申请日： 2022-07-21 - 公布日： 2022-11-08 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种大尺寸抛光机修正用的组合式金刚石修正轮组，安装于双面抛光机上，双面抛光机的上盘和下盘上分别安装有外齿圈和内齿圈，上盘上放置有金刚石修正轮，修正轮的外环面上设有轮齿，金刚石修正轮环绕内齿圈均设有多个，其两侧分别与内齿圈和外齿圈啮合；内齿圈和外齿圈角速度相同，金刚石修正轮上开设有多个通孔，通孔内可拆卸安装有修正丸片；基于现有的双面抛光机的外齿圈和内齿圈的结构基础上，实现金刚石修正轮在绕内齿圈公转的同时相对内齿圈相对静止，保证金刚石修正轮上指定区域的修正丸片始终与抛光片上的固定区域进行接触，以保证对抛光片不同区域的适应性的修正切削，提高修正效果，保证产品的生产质量。
一种尺寸抛光机修正用组合式金刚石修正

[发明专利]一种红外三波峰膜系结构及其制备工艺-CN202210664611.0在审
发明人：王刚;葛志文;翁钦盛 -专利权人： 浙江美迪凯光学半导体有限公司
申请日： 2022-06-14 - 公布日： 2022-09-30 - 主分类号： G02B5/20 文献下载
摘要：本发明涉及滤光片技术领域，且公开了一种红外三波峰膜系结构，其特征在于：包括基板、第一匹配膜系、主膜膜系、第二匹配膜系；所述主膜膜系依次由第一多层膜通带、耦合层、多层膜长波通带、耦合层、第二多层膜通带、第三多层膜通带组成。本发明公开了一种红外三波峰膜系，使其满足入射角在0°‑30°时折射偏移＜12nm的要求。
一种红外波峰结构及其制备工艺

[实用新型]一种镀膜机穴状坩埚盘清扫装置-CN202221005091.4有效
发明人：李琳琳;王河利;汪正午;孙张振;王丙森;韩巍巍;韩威风 -专利权人： 浙江美迪凯光学半导体有限公司
申请日： 2022-04-28 - 公布日： 2022-08-12 - 主分类号： B24B27/033 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种镀膜机穴状坩埚盘清扫装置，包括打磨机机体和枪头，枪头上设置有上端连接机体的机体连接部和中间拧紧部，枪头底端设置有底端连接部，底端连接部内设置有内螺纹孔，内螺纹孔上螺纹连接有紧固螺栓，紧固螺栓上套有软质打磨片，紧固螺栓将软质打磨片紧固在枪头上，紧固螺栓拧紧嵌入包裹在软质打磨片内，软质打磨片的形状与穴状坩埚盘的坩埚穴相配合。本实用新型更换了枪头，更换打磨头，将百洁布打磨应用至打磨机机体上，打磨清理效果好，产品质量提高，提升打磨效率，减少时间和人工劳动力，设备损伤小，大幅减少噪音；同时将隔音海绵进行裁剪，通过胶带将其固定至打磨机机体上部，进一步减少噪音。
一种镀膜机穴状坩埚清扫装置

[实用新型]一种用于转运及清洗镀膜机分子泵防护百叶窗的提篮-CN202221005899.2有效
发明人：韩巍巍;韩威风;汪正午;高峰;管文杰;王丙森 -专利权人： 浙江美迪凯光学半导体有限公司
申请日： 2022-04-28 - 公布日： 2022-08-09 - 主分类号： B08B3/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于转运及清洗镀膜机分子泵防护百叶窗的提篮，包括提篮本体，提篮本体由不锈钢条固定形成框架结构，提篮本体包括由下到上依次设置的下层、限位层和上层，下层包括方形框架和方形框架内纵向分布的至少一根托杆，上层包括方形框架和方形框架内横向设置的一排N根横杆，限位层内对应上层横向设置有一排N根限位横杆，N≥3，上层内第1到N‑2个横向栅格两边设置有限位拦杆，限位层内第2到N‑1个限位栅格两边对应设置有限位拦杆。本实用新型设计了用于转运及清洗镀膜机分子泵防护百叶窗的专用提篮，将分子泵防护百叶窗分别拆卸放入多个斜向的百叶窗插槽放置，可以稳定的斜向分隔安置，便于转运和清洗，防止划破。
一种用于转运清洗镀膜分子防护百叶窗提篮

[实用新型]一种清洗镀膜机工件盘防护罩的提篮-CN202221005900.1有效
发明人：韩巍巍;韩威风;汪正午;高峰;管文杰;王丙森 -专利权人： 浙江美迪凯光学半导体有限公司
申请日： 2022-04-28 - 公布日： 2022-08-05 - 主分类号： B08B13/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种清洗镀膜机工件盘防护罩的提篮，包括提篮本体，提篮本体包括防护罩放置区和防护板放置区，防护罩放置区由上下两层组成，上层中间中空，上层两端分别向内斜向上设置有一排隔条，一排隔条间形成上层的防护罩格栅，下层中间设置有多排托杆，下层两端分别向内斜向上设置有一排隔条，一排隔条间形成下层的防护罩格栅，防护板放置区包括底层两端设置的底部托杆、中间层两边设置的中间托杆和顶层中间设置的顶部托杆，中间托杆上分别设置有一排隔条，一排隔条间形成防护板格栅。本实用新型通过设计了清洗镀膜机工件盘防护罩的专用提篮，使弧形的防护罩和弧形的防护板可以稳定的分隔安置。
一种清洗镀膜机工防护罩提篮

[发明专利]一种方形片的抛光工艺-CN202210457552.X在审
发明人：韩巍巍;韩威风;纪枭;王丙森 -专利权人： 浙江美迪凯光学半导体有限公司
申请日： 2022-04-28 - 公布日： 2022-07-29 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种方形片的抛光工艺。本发明抛光工艺减少了一次抛光的时间，减少一次抛光的加工厚度，用一次抛光对方形片毛坯快速抛光，得到半成品；增加二次抛光的时间及加工量，配合组合式游星轮对方形片进行TTV的改善；添加三次抛光，在不影响TTV的同时对方形片的表面进行微加工，提高表面的额清洁度。本发明二次抛光和三次抛光使用抛光用组合游星轮对其进行抛光，使产品与抛光皮的摩擦均匀，减小同一片产品的厚度散差，提高产品的合格率。
一种方形抛光工艺

[发明专利]一种微型晶圆摄像模组侧壁镀膜膜系及其加工工艺-CN202010295655.1有效
发明人：吴岳;葛文志;王刚;余开封;徐宝利 -专利权人： 浙江美迪凯光学半导体有限公司
申请日： 2020-04-15 - 公布日： 2022-03-22 - 主分类号： C23C14/10 文献下载
摘要：本发明涉及微型晶圆摄像模组镀膜技术领域。本发明公开了一种微型晶圆摄像模组侧壁镀膜膜系，包含四层涂层，由内至外依次为SiO2基础层、Nb涂层、Si涂层、SiO2涂层，所述黑色镀膜外侧光谱为400‑900nm，光密度不小于5，最大透过率不大于0.05％，最大反射率不大于50％，所述黑色镀膜内侧光谱为400‑900nm，最大反射率不大于25％。本发明还公开了镀膜膜系的加工工艺，结合点胶、喷溅镀膜等技术。该本发明有效解决极小模组侧壁无法使用传统塑胶成形Holder进行遮光问题，并达到在侧壁完全不透光的光学条件下具有厚度薄，膜层牢固度强。
一种微型摄像模组侧壁镀膜及其加工工艺

[发明专利]一种陶瓷基板粘蜡切割工艺-CN202111418067.3在审
发明人：韩巍巍;韩威风;管文杰;蔡东方;郭泽远;孔相朝;钮云飞 -专利权人： 浙江美迪凯光学半导体有限公司
申请日： 2021-11-26 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： B23K26/60 文献下载
摘要：本发明公开了一种陶瓷基板粘蜡切割工艺。该陶瓷基板粘蜡切割工艺通过粘蜡在陶瓷基板和UV膜中间放一个保护玻璃介质，且保护玻璃与陶瓷基板的分离除蜡，不留有残物，同时保护玻璃与陶瓷基板的清洗只需无腐蚀性的清洗剂，并且能将产品清洗干净，生产质量高，可以有效地提升产品良率。
一种陶瓷基板粘蜡切割工艺

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