专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]基座-CN201780056663.7有效
  • 李晓航;李广辉;哈马德·S·阿洛泰比 - 阿卜杜拉国王科技大学;法赫德国王石油矿产大学
  • 2017-09-18 - 2021-11-16 - C23C16/458
  • 一种基座装置,其用于化学气相沉积(CVD)反应器,包括在半导体工业中使用的金属有机CVD(MOCVD)。特别地,所述基座装置与感应加热一起使用,并且包括适于承载一个或多个晶片的水平板和垂直杆,感应加热线圈围绕垂直杆设置。还可以使用螺钉系统和绝热体。该设计有助于防止不希望的悬浮并且允许反应器的气体注入器位于更靠近晶片的位置以在高温沉积过程中在约1500℃或更高的基座表面温度下进行沉积。
  • 基座

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