专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种单晶金刚石的生产方法-CN202310895817.9在审
  • 鲁振海;王彩利;朱肖华;常新磊;张东阳 - 河南天璇半导体科技有限责任公司
  • 2023-07-20 - 2023-10-20 - C30B29/04
  • 本发明属于化学气相沉淀技术的单晶生长领域,特别是涉及一种单晶金刚石的生产方法。为了解决现有技术中由于将单晶金刚石单片切割而导致切割时浪费时间、且在籽晶生长过程中不同籽晶间的温差较大的技术问题,本发明提出了一种单晶金刚石的生产方法,包括使m×n片籽晶排列成m排×n列的矩阵并进行沉积生长的生长步骤和切割不同籽晶的切割步骤,其中,m≥2,n≥2;在生长步骤后执行切割步骤,在切割步骤后再次执行生长步骤,在切割步骤中,使每片籽晶至少与一片籽晶连为一体。使每片籽晶至少与一片籽晶连为一体,能够减短切割的路径,从而缩短切割时长,还能够使不同籽晶之间通过边缘多晶进行热交换,从而使不同籽晶间的温差较小。
  • 一种金刚石生产方法
  • [发明专利]一种沉积台及MPCVD设备-CN202310482234.3在审
  • 鲁振海;王彩利;朱肖华;张东阳;常新磊 - 河南天璇半导体科技有限责任公司
  • 2023-04-29 - 2023-09-19 - C30B25/00
  • 本发明涉及金刚石制造领域,尤其涉及一种沉积台及MPCVD设备。沉积台,包括位于顶部的用于放置多个籽晶或者单个籽晶的放置台面,沉积台上设置有用于通入抑制籽晶生长气体的气道,气道具有高于放置台面且用于朝向多个籽晶中的边缘籽晶设置或者是朝向单个籽晶的边缘设置的出气口。通过在沉积台上设置气道,气道内通入对籽晶的生长抑制的气体,进而可以对特定部位的籽晶生长进行抑制;气道的出气口对准籽晶上生长较快的部分;也就是说在籽晶生长过程中,抑制边缘生长较快的籽晶的生长,使得籽晶整体生长均匀,进而解决了现有技术中籽晶边缘生长较快使得籽晶整体生长不均匀、单次生长时间短导致整体生长时间较长的问题。
  • 一种沉积mpcvd设备
  • [实用新型]一种便于MPCVD设备谐振腔真空检漏的装置-CN202223588650.1有效
  • 崔名扬;任丽;孙胜浩;李宏利 - 河南天璇半导体科技有限责任公司
  • 2022-12-30 - 2023-08-15 - G01M3/20
  • 本实用新型涉及检测装置领域,尤其涉及一种便于MPCVD设备谐振腔真空检漏的装置。一种便于MPCVD设备谐振腔真空检漏的装置,包括密封盖,密封盖包括连杆和盖体,连杆具有伸出段,伸出段上通过外螺纹连接有锁紧螺母,还包括弹性件,弹性件用于设置在锁紧螺母和底板之间,以通过压缩变形对连杆施加向外的拉力。在进行检测时不必将转换模块等部件安装即可进行检测,即不必将整个谐振腔组装完成即可进行检测,若此时发现谐振腔存在密封故障之后可以立即进行返修,节约时间。进而解决了现有技术中MPCVD设备谐振腔在所有部件完成组装后才进行真空检测,导致若谐振腔发生泄漏,需要拆卸后返工,进而影响加工检验效率的问题。
  • 一种便于mpcvd设备谐振腔真空检漏装置
  • [发明专利]一种沉积台及CVD设备-CN202310054729.6在审
  • 鲁振海;王彩利;朱肖华;张东阳;常新磊 - 河南天璇半导体科技有限责任公司
  • 2023-02-03 - 2023-07-04 - C30B25/12
  • 本发明涉及化学气相沉积技术领域,具体涉及一种沉积台及CVD设备。CVD设备包括沉积室,沉积室内设置有沉积台,工作时,沉积台的正上方生成有等离子体球,沉积台包括圆台式基座,基座的上端面的中部区域为用于摆放籽晶的基础作业面,基座的至少部分边缘位置处的上侧面由内向外逐渐上升延伸形成扩展边缘,该扩展边缘整体用于被等离子体球覆盖并且其上侧面用于朝向上方的等离子体球布置,所述扩展边缘的上侧面为用于摆放籽晶的扩展作业面,扩展作业面上的籽晶距等离子体球的距离与基础作业面上的籽晶距等离子体球的距离相近,以利用扩展作业面提高沉积台摆放籽晶的数量,解决现有技术中的CVD设备的沉积台摆放籽晶数量较少、生产效率较低的技术问题。
  • 一种沉积cvd设备
  • [实用新型]一种高气密性防漏波谐振腔及MPCVD设备-CN202223543515.5有效
  • 崔名扬;任丽;孙胜浩;李宏利 - 河南天璇半导体科技有限责任公司
  • 2022-12-29 - 2023-06-09 - C23C16/511
  • 本实用新型提供了一种高气密性防漏波谐振腔及MPCVD设备,属于微波等离子体化学气相沉积技术领域。高气密性防漏波谐振腔包括腔本体和底板,腔本体和底板的对接面之间设有第一密封圈,腔本体和底板的对接面之间还设有用于阻止微波泄漏的第一电磁屏蔽件,第一电磁屏蔽件呈环形且位于第一密封圈的内侧。本实用新型在腔本体和底板的对接面之间、腔本体与顶盖的对接面之间分别设有密封圈和电磁屏蔽件,电磁屏蔽件呈环形且位于密封圈的内侧,使得到达缝隙处的微波被电磁屏蔽件有效阻止,避免向外泄漏,进而可以避免对外侧的密封圈产生影响,保证了密封圈的密封性能。另外,在顶盖的观察窗口处设置金属夹丝网格石英片,可以有效抑制观察窗口造成的微波泄漏。
  • 一种气密性防漏谐振腔mpcvd设备
  • [实用新型]一种测温支架及使用该测温支架的谐振腔和MPCVD设备-CN202223589409.0有效
  • 崔名扬;任丽;孙胜浩;李宏利 - 河南天璇半导体科技有限责任公司
  • 2022-12-30 - 2023-06-09 - G01K1/14
  • 本实用新型提供了一种测温支架及使用该测温支架的谐振腔和MPCVD设备,属于微波等离子体化学气相沉积技术领域。测温支架包括底座,底座上设有用于固定在窗口法兰或/和密封法兰上的固定结构;测温支架还包括可转动的安装在底座上的调节转台,底座上设有改变调节转台角度的旋转调节结构;测温支架还包括用于安装测温仪的安装板以及连接在安装板和调节转台之间的连接臂,连接臂与安装板之间或/和连接臂与调节转台之间为铰接且铰接角度可调。本实用新型通过固定在窗口法兰或/和密封法兰上的测温支架实现测温仪的安装以及不同测温角度的调节,取代人工手持测温仪的方式,减轻了操作人员的劳动强度,省时省力,且可以减小测温误差,测量可靠性更高。
  • 一种测温支架使用谐振腔mpcvd设备
  • [实用新型]一种籽晶摆放模具-CN202320070837.8有效
  • 鲁振海;王彩利;朱肖华;张东阳;常新磊 - 河南天璇半导体科技有限责任公司
  • 2023-01-10 - 2023-05-02 - C30B25/12
  • 本实用新型涉及晶体制造领域,尤其涉及一种籽晶摆放模具。一种籽晶摆放模具,包括用于放置在沉积台上且呈板状的模具主体,模具主体上设置有多个用于放置籽晶且与籽晶形状匹配的放置孔,放置孔为通孔,以使籽晶放入放置孔后支撑在沉积台上,多个放置孔之间通过桥筋隔开,模具主体上设置有取放结构。通过放置孔对籽晶的位置进行限定,且放置孔为通孔,便于籽晶直接与沉积台接触;桥筋保证了放置之后的籽晶保持间隙;通过模具主体上放置孔的设置使得沉积台可以具有平整的表面,并且还能实现籽晶的有规则的摆放,进而解决了现有技术中籽晶摆放需要依靠沉积台上的凹槽,凹槽内部不易清理导致籽晶温度分布有差异,影响生长质量的问题。
  • 一种籽晶摆放模具
  • [实用新型]一种具有实时监控功能的MPCVD设备-CN202221443701.9有效
  • 崔名扬;李宏利;方海江;任丽;郑逢达 - 河南天璇半导体科技有限责任公司
  • 2022-06-09 - 2023-01-31 - H04N7/18
  • 本实用新型涉及一种具有实时监控功能的MPCVD设备,具有实时监控功能的MPCVD设备包括反应腔室和采集模块,反应腔室包括顶盖和底座,反应腔室上设有观察窗,采集模块包括采集装置和安装支架,顶盖上表面的外边缘处设有沿圆周方向分布的至少两个法兰孔,底座上设有连接孔,安装支架上设有固定孔,固定孔的数量少于法兰孔的数量,各法兰孔中具有用于与固定孔对应的共用法兰孔,共用紧固件穿设在固定孔、共用法兰孔、连接孔中以将安装支架、顶盖、底座固定在一起,观察窗有至少两个,观察窗沿圆周方向分布且分布位置与共用法兰孔的位置相互对应,观察窗的窗口与采集装置相对,可根据不同需要,将采集装置安装在顶盖圆周方向上的合适位置,使用灵活。
  • 一种具有实时监控功能mpcvd设备
  • [实用新型]一种金刚石单晶片用激光处理装置-CN202220974297.1有效
  • 郑逢达;李宏利;方海江;崔名扬 - 河南天璇半导体科技有限责任公司
  • 2022-04-21 - 2022-10-11 - B23K26/08
  • 本实用新型具体提供一种金刚石单晶片用激光处理装置,该金刚石单晶片用激光处理装置包括底座,所述底座上设有安装架和用于放置待处理金刚石单晶片的旋转工作台,所述旋转工作台上设有单晶片固定结构,所述单晶片固定结构用于将待处理的金刚石单晶片固定在所述旋转工作台上,所述安装架上安装有激光发生器,所述激光发生器和所述旋转工作台中的至少一个与底座之间设有水平位置调节机构,以使所述激光发生器可对放置在所述旋转工作台上的金刚石单晶片的上表面进行全部处理。本实用新型提供的金刚石单晶片用激光处理装置可以有效解决现有技术中对大尺寸金刚石单晶片表面打磨存在效率低和效果差的技术问题。
  • 一种金刚石晶片激光处理装置
  • [发明专利]MPCVD设备及其天线张紧装置-CN202210443437.7在审
  • 崔名扬;李宏利;方海江;孙胜浩;郑逢达 - 河南天璇半导体科技有限责任公司
  • 2022-04-25 - 2022-09-02 - H01Q1/16
  • 本发明涉及MPCVD设备及其天线张紧装置,MPCVD设备包括天线张紧装置,天线张紧装置包括固定套、转动套、张紧弹簧,张紧弹簧的一端顶压在转动套上,另一端用于顶压在MPCVD设备的转换模块上,固定套包括主体套和抱箍,转动套螺纹连接在主体套上,转动套和主体套自下而上滑动套装在天线上,抱箍处于松开状态时,与天线形成间隙配合,以供抱箍滑动套装在天线上,抱箍处于抱紧状态时,与天线锁紧固定,在抱箍处于抱紧状态时抱箍与主体套固定连接;天线张紧装置在天线上快速移动到合适位置后,与天线固定,提高了安装效率,实现快速拆卸,不需要在天线上设置螺纹,有利于避免天线受到过大的扭力而损坏。
  • mpcvd设备及其天线装置
  • [实用新型]一种MPCVD设备用观察窗及MPCVD设备-CN202220975197.0有效
  • 崔名扬;李宏利;方海江;孙胜浩;郑逢达 - 河南天璇半导体科技有限责任公司
  • 2022-04-25 - 2022-08-19 - C23C16/44
  • 本实用新型提供一种MPCVD设备用观察窗及MPCVD设备,该MPCVD设备包括设备腔体,设备腔体上安装有观察窗,该观察窗包括观察镜片和外螺纹管,外螺纹管的露出端处设有环形台,环形台的上端面处设有环形台阶,环形台阶包括上台阶平面和用于支撑放置观察镜片的下台阶平面,下台阶平面与观察镜片之间布置有第一环形密封件,环形台阶的高度大于观察镜片的厚度,环形台上设有镜片压盖,上台阶平面在外螺纹管的轴向上挡止配合,以限定对观察镜片的压紧力;外螺纹管的旋入端的端面处设有第二环形密封件。本实用新型的提供的MPCVD设备用观察窗可以有效解决现有技术中在MPCVD设备上安装观察窗时存在密封效果不好以及观察镜片安装困难的技术问题。
  • 一种mpcvd备用观察窗设备
  • [实用新型]基片台-CN202220729558.3有效
  • 鲁振海;弋志超;常新磊;张东阳 - 河南天璇半导体科技有限责任公司
  • 2022-03-30 - 2022-08-09 - C30B25/12
  • 本实用新型涉及基片台,基片台包括分体设置的上盖和底座,上盖上设有通孔,底座包括柱体以及在柱体上端面设置的凸台,在上盖盖设在底座上时,凸台插入通孔内,凸台的顶面与通孔的孔壁面围成金刚石籽晶生长槽,上盖为筒状上盖,通孔设置在筒底,筒壁的内周面用于与柱体的外周面配合以供上盖导向套装在底座上,筒底的内侧面与柱体的上端面贴合,筒底内侧面与筒壁内周面相交处设有第一上圆角,柱体上端面的边沿处设有第一下圆角,第一上圆角与第一下圆角吻合配合;筒状上盖的结构强度好,长期使用时不易发生变形,上盖导向安装到底座上,便于定位,第一上圆角与第一下圆角进行吻合接触,避免上盖与底座接触处存在缝隙而影响散热。
  • 基片台
  • [实用新型]一种可定量加注抛光液的金刚石抛光设备-CN202220752483.0有效
  • 郑逢达;崔名扬;李宏利;方海江 - 河南天璇半导体科技有限责任公司
  • 2022-03-31 - 2022-08-09 - B24B29/02
  • 本实用新型涉及用于磨削或抛光的装置的技术领域,特别是涉及一种可定量加注抛光液的金刚石抛光设备。可定量加注抛光液的金刚石抛光设备包括抛光平台、砂轮、压力机构和抛光液添加装置,砂轮转动安装在抛光平台上,压力机构将金刚石单晶片压紧在砂轮上,抛光液添加装置包括输液管道和输送泵,可定量加注抛光液的金刚石抛光设备还包括往复移动座和移动座驱动机构,往复移动座沿直线导向移动安装在抛光平台上,压力机构设于往复移动座上,移动座驱动机构驱动往复移动座往复直线移动并带动压力机构在砂轮的外边缘和中心之间往复移动,以将抛光液均匀涂抹在砂轮表面,使得在抛光过程中金刚石单晶片的抛光质量更好。
  • 一种定量加注抛光金刚石设备
  • [实用新型]一种金刚石研磨抛光机-CN202220754589.4有效
  • 郑逢达;崔名扬;李宏利;方海江 - 河南天璇半导体科技有限责任公司
  • 2022-03-31 - 2022-08-09 - B24B29/02
  • 本实用新型涉及研磨抛光技术领域,本实用新型的目的在于提供一种金刚石研磨抛光机,以解决现有技术中的研磨抛光机容易出现抛光液在砂轮上分布不均而造成材料的抛光加工质量较差、效率较低的技术问题。金刚石研磨抛光机包括加工平台和转动装配在加工平台上的砂轮,金刚石研磨抛光机还包括分液结构,分液结构包括支撑架和刮板,支撑架固定在加工平台上,支撑架和刮板固定连接;刮板的底部与砂轮表面接触,刮板由砂轮的外周向砂轮中心且沿砂轮的周向倾斜延伸,以使得刮板能够将加注在砂轮表面的抛光液在砂轮表面刮涂均匀。
  • 一种金刚石研磨抛光机

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