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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]含氟弹性体掺合物-CN201180052611.5有效
发明人：林秀树;前田满;池田昭彦 -专利权人：优迈特株式会社
申请日： 2011-10-19 - 公布日： 2018-07-27 - 主分类号： C08L27/12 文献下载
摘要：含氟弹性体掺合物，其包含数均分子量Mn(液相色谱法、展开溶剂四氢呋喃、聚合物浓度0.5重量％、测定温度35℃)分别为3,000,000以上的高分子量含氟弹性体5～60重量％、100,000～1,000,000的中分子量含氟弹性体20～80重量％和7,000～13,000的低分子量含氟弹性体10～50重量％。该含氟弹性体掺合物在改善辊加工性的同时，实现低硬度化和低模量化。
弹性体掺合

[发明专利]含氟弹性体掺合物-CN201710265421.0有效
发明人：林秀树;前田满;池田昭彦 -专利权人：优迈特株式会社
申请日： 2011-10-19 - 公布日： 2017-10-17 - 主分类号： C08L27/12 文献下载
摘要：含氟弹性体掺合物，其包含数均分子量Mn(液相色谱法、展开溶剂四氢呋喃、聚合物浓度0.5重量％、测定温度35℃)分别为3,000,000以上的高分子量含氟弹性体5～60重量％、100,000～1,000,000的中分子量含氟弹性体20～80重量％和7,000～13,000的低分子量含氟弹性体10～50重量％。该含氟弹性体掺合物在改善辊加工性的同时，实现低硬度化和低模量化。
弹性体掺合

[发明专利]含氟弹性体及其可硫化的组合物-CN201380025296.6有效
发明人： 池田昭彦;前田满;工藤正嗣;行木英人;森邦彦 -专利权人：优迈特株式会社;伊格尔工业股份有限公司
申请日： 2013-04-22 - 公布日： 2016-11-09 - 主分类号： C08F214/26 文献下载
摘要：具有由(A)2.0～8.0摩尔%的偏二氟乙烯、(B)60.0～70.0摩尔%的四氟乙烯、(C)35.0～25.0摩尔%的全氟(低级烷基乙烯基醚)或全氟(低级烷氧基低级烷基乙烯基醚)和(D)0.2～3.0摩尔%的全氟不饱和腈化合物构成的共聚组成、且门尼粘度ML₁₊₁₀(121℃)为65～110的四元共聚物含氟弹性体和在每100质量份的该含氟弹性体中混合有0.2～5重量份的双脒肟化合物的可硫化的含氟弹性体组合物。将该含氟弹性体组合物硫化模制得到的密封材料不仅耐压缩永久变形特性、耐等离子体性等优异，而且在更高温度、具体而言150℃的温度条件下对金属显示出低粘附性。
弹性体及其硫化组合

[发明专利]多氟代链二烯混合物和其制造方法-CN200980121805.9有效
发明人：佐藤胜之;村田清一郎;池田昭彦;村井大介;前田满 -专利权人：优迈特株式会社
申请日： 2009-06-12 - 公布日： 2011-05-18 - 主分类号： C07C21/19 文献下载
摘要：以通式CF3(CF2)nCF=CH(CF2)m+1CH=CH2 [Ia]和通式CF3(CF2)n+1CH=CF(CF2)mCH=CH2 [Ib](其中，n为0～5的整数，m为0～6的整数)表示的多氟代链二烯混合物通过使有机碱性化合物与以通式CF3(CF2)n+1CH2(CF2)m+1(CH2CH2)I[II]表示的多氟代烷基碘化物反应，并作为产物[Ia]和[Ib]的混合物馏分来获得而进行制造。该多氟代链二烯混合物是全氟烷基连续的CF2基团的数目为5以下的化合物，且在制造作为防水防油剂、脱模剂等的表面处理剂的有效成分的树脂状或弹性体状含氟共聚物时，作为共聚性单体而有效使用。
多氟代链二烯混合物制造方法

[发明专利]聚氟-1-链烯及其制备方法-CN200980122426.1有效
发明人：佐藤胜之;村田清一郎;池田昭彦;金海吉山 -专利权人：优迈特株式会社
申请日： 2009-06-12 - 公布日： 2011-05-11 - 主分类号： C07C21/18 文献下载
摘要：本发明的通式CF3(CF2)nCH2(CF2)mCH＝CH2 [I]；(式中n为0-5的整数，m为1-7的整数)所示的聚氟-1-链烯通过在相转移催化剂存在下使无机碱性化合物与通式CF3(CF2)nCH2(CF2)m(CH2CH2) [II]；(式中n为0-5的整数，m为1-7的整数)所示的聚氟烷基碘化物反应来制备，或者通过使含氮有机碱性化合物与聚氟烷基碘化物[II]反应，作为一个馏分获得产物[I]来制备。该聚氟-1-链烯通过与其它氟化烯烃单体共聚，可以形成可见光区域的透光性优异的含氟共聚物。
聚氟及其制备方法

[发明专利]沉积膜形成方法、沉积膜形成装置、沉积膜及使用其的感光体-CN200680021460.6在审
发明人： 池田昭彦;大久保大五郎;川上哲哉;中村隆;笹原正光;长浜大辅 -专利权人：京瓷株式会社
申请日： 2006-06-01 - 公布日： 2008-06-11 - 主分类号： C23C16/515 文献下载
摘要：本发明供一种沉积膜形成方法及能够实现该方法的装置，该沉积膜形成方法包括将沉积膜形成对象物(10)收容在反应室(4)的第一步骤、向反应室(4)供给反应性气体的第二步骤、对在反应室(4)中间隔开配置的第一导体(3)和第二导体(40)之间施加脉冲状直流电压的第三步骤。优选是在第三步骤中，将第一导体(3)和第二导体(40)之间的电位差设定在50V以上3000V的范围，对第一及第二导体(3、40)施加的脉冲状直流电压的脉冲频率设定为300kHz以下。脉冲状直流电压的脉冲的占空比例如设定为20％以上90％以下。
沉积形成方法装置使用感光

[发明专利]电子照相感光体以及备有此的图像形成装置-CN200680018642.8有效
发明人： 池田昭彦;大久保大五郎;川上哲哉;中村隆;笹原正光;长浜大辅;深谷知巳 -专利权人：京瓷株式会社
申请日： 2006-05-26 - 公布日： 2008-05-21 - 主分类号： G03G5/08 文献下载
摘要：本发明公开一种电子照相感光体(2)，其中具备：导电性基体(20)；光导电层(22)，其形成在所述导电性基体(20)上并包含非晶硅；表面层(23)，其形成在所述光导电层上并包含非晶硅，关于所述光导电层(22)，其表面粗糙度按照10μm×10μm范围中的平均粗糙度Ra为10nm以下。表面层(23)的例如非研磨时的表面粗糙度按照10μm×10μm范围中的平均粗糙度Ra为10nm以下。
电子照相感光以及备有图像形成装置

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