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[实用新型]一种晶圆盒输送装置-CN202321021160.5有效
发明人：倪逸枫;吴凌峰;陈丁堃 -专利权人： 江苏启微半导体设备有限公司;上海至纯洁净系统科技股份有限公司
申请日： 2023-04-26 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： B65G47/26 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种晶圆盒输送装置，包括：支撑架；传送组件，设于支撑架上，传送组件上设有用于放置晶圆盒的第一支撑件，第一支撑件可沿支撑架的长度方向移动；承接组件，设于传送组件的一侧，承接组件上设有第二支撑件，第二支撑件上设有至少两个承接槽，承接组件可移动至第一支撑件的下端，以将第一支撑件上的晶圆盒移动至任一承接槽上。上述晶圆盒输送装置，通过传送组件和承接组件的配合，可满足对晶圆盒输送过程中位置的调节，通过机械化的方式提高了作业效率和调节精准度，降低人工成本，增加使用效益。
一种晶圆盒输送装置

[实用新型]一种组合式晶圆检测传感器-CN202223295211.1有效
发明人：吴凌峰;刘大威;徐铭 -专利权人： 江苏启微半导体设备有限公司
申请日： 2022-12-09 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种组合式晶圆检测传感器，包括气动执行元件、固定在气动执行元件上并可在气动执行元件的带动下上下移动的连接件、固定在连接件上的可拆卸的固定块、以及多个垂直卡设在固定块上的用以检测晶圆片篮内晶圆的数量和位置的光电传感器；多个光电传感器错位排布，且后一光电传感器的发射器与前一光电传感器的接收器相对齐，气动执行元件和光电传感器均与控制器电连接。本实用新型实现了具有常规卡槽间距的晶圆片篮和具有特殊卡槽间距的晶圆片篮内的晶圆的兼容检测，能够精准检测出晶圆片篮内晶圆的数量和位置。
一种组合式检测传感器

[实用新型]一种兆声波清洗装置的水槽结构-CN202320430470.6有效
发明人：陈龙;吴凌峰;刘大威 -专利权人： 江苏启微半导体设备有限公司
申请日： 2023-03-09 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： B08B3/12 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种兆声波清洗装置的水槽结构，包括设置于兆声波盛水盘内的内槽、以及设置于内槽外侧并使其上边沿低于内槽上边沿的外槽，内槽的上部设置有管口贯穿外槽的水阻值计套管、下部设置有内槽进液管和内槽排液管，所述外槽的底部设计成前高后低的倾斜结构，且所述外槽后部的最低点处连接有外槽排液管，所述外槽排液管的排液流量大于所述内槽进液管的进液流量。本实用新型通过在内槽的外侧设置导流用的外槽，可使内槽内的液体溢流进外槽，避免溢流液体对兆声波装置造成影响，确保兆声波能够更好的去除晶圆片上的附着颗粒物，有效保证了晶圆清洗效率。
一种声波清洗装置水槽结构

[实用新型]一种带照明的FFU系统-CN202223138388.0有效
发明人：陈聪;徐铭;刘大威 -专利权人： 江苏启微半导体设备有限公司
申请日： 2022-11-25 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： F24F13/28 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种带照明的FFU系统，包括下壳体、设置在下壳体内的过滤器组件和照明系统、上壳体、以及设置在上壳体内的风机组件和控制装置，所述上壳体扣合固定在过滤器组件上以使风机组件位于过滤器组件的上方、照明系统位于上壳体的外侧，所述控制装置上设有灯源电源接口，照明系统的电源线连接至灯源电源接口。本实用新型可以安装在空间紧凑的小规格单片清洗设备的工艺腔体内，既可以实现工艺腔体内的气体净化，也可以实现照明功能，最大效率的利用了单片清洗设备的内部空间，避免因空间问题而舍弃照明系统。
一种照明 ffu 系统

[实用新型]一种可提升晶圆干燥过程溶剂均匀分布的支架结构-CN202320381449.1有效
发明人：江峰;廖世保;邓信甫;李盼盼;卢证凯 -专利权人：至微半导体（上海）有限公司;江苏启微半导体设备有限公司
申请日： 2023-03-03 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： F26B25/18 文献下载
摘要：本实用新型涉及到一种可提升晶圆干燥过程溶剂均匀分布的支架结构，所述支架结构包括有固定托架和分离托架，所述分离托架不接触地设置于固定托架的中部，所述固定托架上对称地设置有至少两个第一固定齿和至少两个第二固定齿，所述第一固定齿上设有平行的高齿条和低齿条，所述第二固定齿平行地布置于所述第一固定齿的内侧且位置低于所述低齿条，在所述分离托架上设置有分离齿，且所述分离齿可升降地设置于两个所述第二固定齿的中部，所述固定托架上的第一固定齿和第二固定齿构成支撑晶圆一次上升的六个固定支点，所述分离齿构成支撑晶圆二次上升单个固定支点。本实用新型的支架结构通过分段式支撑优化晶圆干燥过程，以解决干燥盲区和水痕问题。
一种提升干燥过程溶剂均匀分布支架结构

[外观设计]全自动湿法清洗机台（Cassette type 单12寸）-CN202330062580.7有效
发明人：倪传涛;吴凌峰;刘大威 -专利权人： 江苏启微半导体设备有限公司;至微半导体(上海)有限公司
申请日： 2023-02-21 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： 15-99 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：全自动湿法清洗机台（Cassette type 单12寸）。2.本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于12寸晶元的清洗制造工艺。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
全自动湿法清洗机台 cassette type 12

[外观设计]全自动湿法清洗机台（Cassette type 双8寸）-CN202330062549.3有效
发明人：陈军宇;徐铭;刘大威 -专利权人： 江苏启微半导体设备有限公司;至微半导体(上海)有限公司
申请日： 2023-02-21 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： 15-99 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：全自动湿法清洗机台（Cassette type 双8寸）。2.本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于8寸晶元的清洗制造工艺。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
全自动湿法清洗机台 cassette type

[外观设计]湿法清洗机台（Single 12寸16腔）-CN202330062545.5有效
发明人：陆赛浩;徐铭;刘大威 -专利权人： 江苏启微半导体设备有限公司;至微半导体(上海)有限公司
申请日： 2023-02-21 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： 15-99 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：湿法清洗机台（Single 12寸16腔）。2.本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于12寸晶元的清洗制造工艺。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
湿法清洗机台 single 12 16

[外观设计]湿法清洗机台（Single 12寸12腔）-CN202330062544.0有效
发明人：陆赛浩;徐铭;刘大威 -专利权人： 江苏启微半导体设备有限公司;至微半导体(上海)有限公司
申请日： 2023-02-21 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： 15-99 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：湿法清洗机台（Single 12寸12腔）。2.本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于12寸晶元的清洗制造工艺。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
湿法清洗机台 single 12

[外观设计]湿法清洗机台（Single 4寸4腔）-CN202330062542.1有效
发明人：陈聪;徐铭;陈丁堃 -专利权人： 江苏启微半导体设备有限公司;至微半导体(上海)有限公司
申请日： 2023-02-21 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： 06-03 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：湿法清洗机台（Single 4寸4腔）。2.本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于4寸晶元的清洗制造工艺。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
湿法清洗机台 single

[实用新型]一种晶圆转移装置-CN202320517487.5有效
发明人：陆赛浩;徐铭;刘大威 -专利权人： 江苏启微半导体设备有限公司;上海至纯洁净系统科技股份有限公司
申请日： 2023-03-16 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本实用新型涉及半导体加工领域，具体公开了一种晶圆转移装置，包括转移平台；和转移平台固定连接的支撑臂；设置在支撑臂上，用于托起支撑被转移晶圆的多个支撑升降机构；其中，各个支撑升降机构在支撑臂上可相互独立的升降调节，以便各个支撑升降机构托起被转移晶圆时各个支撑升降机构的支撑顶点同步和被转移晶圆上对应的不同支撑位置点相接触。本申请的晶圆转移装置中每个支撑升降机构在支撑臂上可进行相互独立的升降调节，使得各个支撑升降机构可以调节至支撑顶点同步接触晶圆上的各个支撑位置点，避免晶圆和支撑升降机构之间出现磕碰，保证了各个支撑升降机对晶圆施加作用力的均匀性，避免晶圆因受力不均出现破损的问题。
一种转移装置

[实用新型]一种应用于半导体湿法清洗的摆动装置-CN202320599834.3有效
发明人：黄浩琰;徐铭;刘大威;黄彧霈 -专利权人： 江苏启微半导体设备有限公司;合肥至微半导体有限公司
申请日： 2023-03-24 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种应用于半导体湿法清洗的摆动装置，应用于半导体清洗领域，包括：运动电机组件、线性滑台、至少两个顶杆和摆动托盘；摆动托盘的一端至少连接一个顶杆，摆动托盘与顶杆连接的对端，至少连接一个顶杆；顶杆和运动电机组件分别与线性滑台连接。本实用新型通过至少在摆动托盘沿对位设置的两端，各连接至少一个顶杆，能够增大对摆动托盘的支持力，在顶杆运动到顶端时，能够避免因顶杆运动至顶端时重心偏离支撑点，导致顶杆发生形变，进而损坏顶杆的问题，提高了通过摆动承载晶圆的托架进行清洗的效率，降低了应用于半导体湿法清洗的摆动装置的维护成本。
一种应用于半导体湿法清洗摆动装置

[实用新型]一种防外溢承漏杯结构及晶圆清洗设备-CN202320981681.9有效
发明人：陈聪;徐铭;刘大威 -专利权人： 江苏启微半导体设备有限公司;上海至纯洁净系统科技股份有限公司
申请日： 2023-04-26 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种防外溢承漏杯结构及晶圆清洗设备，包括杯体，为中空结构，杯体与用于排液的排液管路连通承漏装置，可拆卸的设于杯体的内部并用于存放可伸出承漏装置的喷淋装置，承漏装置的下端部与排液管路连通，以使喷淋装置预喷的化学药液由承漏装置流入排液管路。本申请提供的一种防外溢承漏杯结构及晶圆清洗设备，通过将喷淋装置设置于承漏装置中，使得喷淋装置预喷的化学药液通过排液管路排出，能够避免化学药液溢流到清洗腔的内壁，保证了清洗腔内的洁净。
一种外溢承漏杯结构清洗设备

[实用新型]一种晶圆清洁的气体流场装置-CN202320769997.1有效
发明人：季恺;吴凌峰;陈丁堃 -专利权人： 江苏启微半导体设备有限公司;至微半导体(上海）有限公司
申请日： 2023-04-07 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种晶圆清洁的气体流场装置，应用于半导体制备领域，包括：晶圆清洁供风部件和形成气体通道的气体流场部件；气体流场部件中开有出风口，以及供晶圆承载部件移动和进出气体流场部件的缺口；缺口靠近晶圆清洁供风部件的一侧设置有增设挡壁，阻挡气体通道内的气体从缺口流出。本实用新型通过在气体流场部件中，缺口靠近晶圆清洁供风部件的一侧设置增设挡壁，进而减小该缺口的截面面积，达到阻挡气体通道内的气体从缺口流出的效果，有效防止了气体流场部件中气体的大量散失，降低了供风部件的能源消耗，进而提高了对晶圆进行清洁的效率。
一种清洁气体装置

[实用新型]一种具备清洗功能的承漏杯及晶圆清洗设备-CN202321021381.2有效
发明人：陈聪;徐铭;刘大威 -专利权人： 江苏启微半导体设备有限公司;上海至纯洁净系统科技股份有限公司
申请日： 2023-04-26 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种具备清洗功能的承漏杯及晶圆清洗设备，包括杯体，为中空结构，杯体的底端与排液管路连通；清洗组件，设于杯体内部，清洗组件为管状结构，用于对伸入杯体的喷淋装置的外周清洗，清洗组件的底端与排液管路连通。本申请提供的一种具备清洗功能的承漏杯及晶圆清洗设备，通过在杯体内部设置清洗组件，通过清洗组件完成对喷淋装置的清洗维护，无需人工手动清洗维护，保证了安全性。
一种具备清洗功能承漏杯设备

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