专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]修正光路长测量误差的系统及方法-CN202210463006.7在审
  • 永井健治;长崎秀昭 - 东京毅力科创株式会社
  • 2022-04-28 - 2022-11-08 - G01K11/00
  • 系统具备:第1光学部,构成为,向测量对象物射出光,并且使来自测量对象物的第1干涉光入射;第2光学部,构成为,向构成为相对于温度变动而光路长为一定的基准物体射出光,并且使来自基准物体的第2干涉光入射;分光器,与第1光学部及第2光学部连接,使第1干涉光及第2干涉光入射;以及控制部,与分光器连接;控制部根据基于入射到规定温度环境下的分光器的第2干涉光计算的基准物体的测量光路长和预先取得的基准物体的基准光路长,计算规定温度环境下的测量光路长相对于基准光路长的变动率;将基于在规定温度环境下入射到分光器的第1干涉光计算的测量对象物的光路长基于变动率修正。
  • 修正光路长测量误差系统方法
  • [发明专利]光干涉系统和基板处理装置-CN202110244840.2在审
  • 永井健治;长崎秀昭;铃木聪史 - 东京毅力科创株式会社
  • 2021-03-05 - 2021-09-14 - G01B11/06
  • 本发明提供一种光干涉系统和基板处理装置。提供通过简易的结构来测量测定对象物的物理性质的技术。在一个例示性的实施方式中,提供一种光干涉系统。光干涉系统具备:光源,其构成为产生测定光;光纤,其构成为传输测定光;以及测量部。光纤具有单模光纤、多模光纤、以及将单模光纤和多模光纤连接的连接部。光纤的顶端由多模光纤构成。光纤的顶端的端面构成为向测定对象物射出测定光并且被射入来自测定对象物的反射光。测量部构成为基于反射光来测量测定对象物的物理性质。
  • 干涉系统处理装置
  • [发明专利]输送系统和输送方法-CN202011388507.0在审
  • 杉田吉平;永井健治 - 东京毅力科创株式会社
  • 2020-12-02 - 2021-06-18 - H01J37/32
  • 本发明提供一种输送系统和输送方法。输送聚焦环的输送系统包括处理系统和位置检测系统,处理系统包括:处理装置,其具有腔室主体和包含基片载置区域及聚焦环载置区域的载置台;以及能够输送聚焦环的输送装置,位置检测系统包括:光源;构成为使光出射并且供反射光入射的多个光学元件;驱动部,其构成为使光学元件分别移动以扫描从聚焦环至基片载置区域为止的扫描范围;和控制部,其构成为按每个光学元件,基于扫描范围内的反射光计算聚焦环与载置台的位置关系,输送装置构成为基于计算出的位置关系来调节将聚焦环输送到聚焦环载置区域上的位置。根据本发明,能够提供高精度地输送聚焦环的技术。
  • 输送系统方法
  • [发明专利]温度测量系统和温度测量方法-CN202011060754.8在审
  • 吴同;永井健治 - 东京毅力科创株式会社
  • 2020-09-30 - 2021-04-23 - G01K11/00
  • 本公开涉及温度测量系统和温度测量方法。对具有第一及与第一主表面相向的第二主表面的测定对象物的温度进行测量,具备:光源部,其产生输出光,所述输出光包括第一及第二波长范围,所述输出光透过测定对象物;测定部,其测定来自第一及第二主表面的反射光的光谱;光程比计算部,其通过对光谱进行傅立叶变换来计算光程比,所述光程比为关于第一波长范围的输出光的光程与关于第二波长范围的输出光的光程之比;以及温度计算部,其基于光程比及预先获取到的折射率比与测定对象物的温度之间的关系来计算测定对象物的温度,所述折射率比为关于第一波长范围的输出光的在测定对象物的折射率与关于第二波长范围的输出光的在测定对象物的折射率。
  • 温度测量系统测量方法
  • [发明专利]进行处理装置的检查的系统和检查方法-CN202010875893.X在审
  • 杉田吉平;永井健治 - 东京毅力科创株式会社
  • 2020-08-27 - 2021-03-09 - G01B11/00
  • 本发明提供一种进行处理装置的检查的系统和检查方法,能够判定处理装置的异常。进行处理装置的检查的系统具备:温度调整机构,其调整处理装置的处理室内的部件温度;光源,其产生测定光;多个光学元件,在温度调整机构对部件进行温度调整的期间,所述多个光学元件将通过光源产生的测定光作为出射光射出至处理装置的处理室内的部件,并且反射光射入所述多个光学元件;以及控制部,其基于反射光,针对与光学元件对应的每个测定部位测定部件温度,基于测定部位的部件温度的各温度的比较来判定处理装置的异常。
  • 进行处理装置检查系统方法
  • [发明专利]等离子处理装置-CN201810384258.4有效
  • 上田雄大;永井健治 - 东京毅力科创株式会社
  • 2018-04-26 - 2020-06-12 - H01J37/32
  • 本发明提供一种等离子处理装置。该等离子处理装置抑制相对于被处理体的等离子处理的均匀性的下降。等离子处理装置(10)具有第1载置台(2)、第2载置台(7)以及升降机构(120)。第1载置台(2)载置成为等离子处理的对象的晶圆(W)。第2载置台(7)设于第1载置台(2)的外周,并载置聚焦环(5),且在内部设有制冷剂流路(7d)和加热器(9a)。升降机构(120)使第2载置台(7)升降。
  • 等离子处理装置
  • [发明专利]荧光观察方法和荧光观察设备-CN201380016595.3有效
  • 藤田克昌;永井健治;齐藤健太;山中真仁;泷本真一 - 奥林巴斯株式会社
  • 2013-03-25 - 2017-05-10 - G01N21/64
  • 本发明提供了一种荧光观察方法,其中可在不需要多种激发波长的情况下并且利用简单光学结构同时观察从多种荧光分子发射的多种荧光,荧光分子用作其荧光标签的被观察对象几乎不受损伤,并且可使用通常用作用于荧光观察的光学材料的玻璃,并且提供了一种荧光观察设备。根据本发明的用于检测从两种或更多种荧光分子发射的多种荧光的荧光观察方法包括以下步骤利用可见区中的具有等于或小于700nm的激发激发波长的光使两种或更多种荧光分子的每种经受多光子激发,以在利用两种或更多种荧光分子的每种的深紫外区中的吸收波长带时产生荧光;以及同时检测在激发光的激发波长的较短波长侧或较短波长侧和较长波长侧二者上产生的多种荧光。
  • 荧光观察方法设备
  • [发明专利]深蓝色荧光蛋白质-CN200880101774.6无效
  • 永井健治;友杉亘;松田知己 - 国立大学法人北海道大学
  • 2008-08-01 - 2010-08-18 - C12N15/09
  • 本发明提供一种具有新的发光波长峰的GFP的人工突变体。由在序列号1所示的氨基酸序列中,66位的氨基酸残基和175位的氨基酸残基分别被取代,而且72位的氨基酸残基或206位的氨基酸残基的至少一个氨基酸残基被取代的氨基酸序列构成的,发光波长峰为424nm的荧光蛋白质;或65位、145位、148位、46位、和/或203位的各氨基酸残基还被取代的,发光波长峰为424nm的,具有pH非依赖性荧光强度的荧光蛋白质。本发明的荧光蛋白质发出424nm这样的发光波长峰的荧光,其作为深蓝色可通过肉眼将其与其它荧光蛋白质识别开。而且,具有pH的变化不会影响荧光强度的pH非依赖性的荧光强度。
  • 深蓝色荧光蛋白质

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