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[发明专利]晶片用洗净水和晶片的洗净方法-CN201080045034.2有效
发明人： 水庭哲夫;星重行 -专利权人：栗田工业株式会社
申请日： 2010-09-28 - 公布日： 2012-07-04 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明提供一种不需要烦琐的操作，以相对简单的操作，即使在晶片洗净时所使用的超纯水中存在有ng/L(ppt)等级的金属离子，也不会使晶片表面被金属元素污染的晶片的洗净技术；将与金属离子具有亲和性的物质添加于超纯水中形成的晶片用洗净水；使用该晶片用洗净水的晶片的洗净方法。通过在晶片洗净用超纯水中预先添加与金属离子具有亲和性的物质，该物质在超纯水中捕捉金属离子并使其稳定存在于水中，由此，可有效防止在洗净时向晶片表面移动而附着在晶片表面上。
晶片洗净方法

[发明专利]阴离子交换树脂的制造方法、阴离子交换树脂、阳离子交换树脂的制造方法、阳离子交换树脂、混床树脂和电子部件和 /或材料清洗用超纯水的制造方法-CN200880012332.4有效
发明人：福井长雄;水庭哲夫;德永和彦;安冨雅子 -专利权人：栗田工业株式会社;三菱化学株式会社
申请日： 2008-04-15 - 公布日： 2010-03-03 - 主分类号： B01J41/14 文献下载
摘要：本发明涉及阴离子交换树脂的制造方法、阴离子交换树脂、阳离子交换树脂的制造方法、阳离子交换树脂、混床树脂和电子部件和/或材料清洗用超纯水的制造方法。该阴离子交换树脂的制造方法包括下述(1-a)～(1-e)工序，该方法抑制了杂质的残存和分解物的产生，并且溶出物少。(1-a)工序：使单乙烯基芳香族单体和交联性芳香族单体共聚，得到交联共聚物；(1-b)工序：相对于1g交联共聚物，使特定的溶出性化合物的含量为400μg以下；(1-c)工序：对交联共聚物进行卤烷基化，将相对于单乙烯基芳香族单体为80摩尔％以下的卤烷基导入；(1-d)工序：从卤烷基化交联共聚物中除去特定的溶出性化合物；(1-e)工序：使卤烷基化交联共聚物与胺化合物反应。
阴离子交换树脂制造方法阳离子交换树脂电子部件材料清洗超纯水

[发明专利]用于制造含有溶解的臭氧的水的设备-CN00807704.5有效
发明人：森田博志;太田治;水庭哲夫;塚本和巳 -专利权人：栗田工业株式会社
申请日： 2000-03-24 - 公布日： 2002-05-29 - 主分类号： B01F1/00 文献下载
摘要：一种用于制造含有溶解的臭氧的水的设备,包括(A)用于供应超纯水的管道,通过该管道供应超纯水,(B)催化反应部分,该部分与用于供应超纯水的管道相连,并且在该部分中使得超纯水与氧化－还原催化剂接触,(C)过滤装置,通过该装置将在催化反应部分中被处理的超纯水过滤,以及(D)用于溶解臭氧的装置,在该装置中臭氧溶解进入从过滤装置排出的超纯水以及一种用于制造含有溶解的臭氧的水的设备,包括用于制造超纯水的装置、用于溶解臭氧的装置和催化反应部分,该用于制造超纯水的装置装备有利用紫外光进行辐射的装置,在该用于溶解臭氧的装置中臭氧溶解进入由用于制造超纯水的装置所制造的超纯水中,该催化反应部分装填有氧化－还原催化剂且被设置在利用紫外光辐照的装置和用于溶解臭氧的装置之间。在超纯水中含有的非常少量的会促进臭氧分解的物质被除去,所获得的含有溶解的臭氧的水在长距离运输之后,其臭氧浓度很少降低,并且在水中溶解的臭氧的残余比例高。
用于制造含有溶解臭氧设备