专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]层合聚芳硫醚耐热过滤器-CN201780019452.6有效
  • 森达哉;杉本武司;光永怜央 - 东丽株式会社
  • 2017-03-13 - 2021-06-08 - B01D39/16
  • 本发明以廉价(低成本)提供具有优异的粉尘剥离性能和粉尘集尘性能、并且高温下的刚性、耐磨耗性优异的层合聚芳硫醚耐热过滤器。本发明的层合聚芳硫醚耐热过滤器是包含多个层的层合聚芳硫醚耐热过滤器,所述多个层至少包括成为过滤面的第一网层、成为非过滤面的第二网层,所述层合聚芳硫醚耐热过滤器的特征在于,以第一网层整体作为100重量%时,上述第一网层含有30~70重量%的纤度为0.5~1.2dtex的聚芳硫醚纤维、30~70重量%的纤度为1.3~3.0dtex的聚芳硫醚纤维,所述层合聚芳硫醚耐热过滤器的特征还在于,上述第二网层包含纤度为1.0~4.0dtex的聚芳硫醚纤维。
  • 层合聚芳硫醚耐热过滤器
  • [发明专利]静电吸盘及处理装置-CN202010142829.0在审
  • 白石纯;西愿修一郎;森达哉;佐佐木雄基;渡边仁弘 - TOTO株式会社
  • 2020-03-04 - 2020-09-15 - H01L21/683
  • 本发明的静电吸盘具备:陶瓷电介体基板,具有放置吸附对象物的第1主面、第2主面;基座板,具有气体导入路;及第1多孔质部,与所述气体导入路相对,所述第1多孔质部包含第1多孔区域、比所述第1多孔区域更致密的第1致密区域,所述第1多孔区域具有:多个第1疏松部分;及第1紧密部分,具有比所述第1疏松部分的密度更高的密度,所述多个第1疏松部分在从所述基座板朝向所述陶瓷电介体基板的方向上延伸,所述第1紧密部分位于所述多个第1疏松部分的彼此之间,所述第1疏松部分具有第1壁部,在与所述第1方向大致正交的第2方向上,所述第1壁部的尺寸的最小值小于所述第1紧密部分的尺寸的最小值,所述气体导入路的至少一部分由曲线形成。
  • 静电吸盘处理装置
  • [发明专利]静电吸盘及处理装置-CN202010143417.9在审
  • 白石纯;西愿修一郎;森达哉;渡边仁弘;佐佐木雄基 - TOTO株式会社
  • 2020-03-04 - 2020-09-15 - H01L21/683
  • 本发明的静电吸盘具备:陶瓷电介体基板,具有放置吸附对象物的第1主面、第2主面;基座板,具有气体导入路;第1多孔质部,与所述气体导入路相对;及第2多孔质部,所述陶瓷电介体基板具有所述第1主面及第1孔部,所述第1多孔质部具有:第1多孔区域;及第1致密区域,所述第1多孔区域还具有第1致密部,所述第2多孔质部具有:第2多孔区域;及第2致密区域,所述第2多孔区域还具有第2致密部,当向垂直于从所述基座板朝向所述陶瓷电介体基板的第1方向的平面进行投影时,构成为所述第1致密部与所述第1孔部发生重叠,所述第2致密部的一部分与所述第1致密部的一部分发生重叠,或者所述第2致密部的一部分与所述第1致密部的一部分接触。
  • 静电吸盘处理装置
  • [发明专利]静电吸盘及处理装置-CN202010143616.X在审
  • 白石纯;西愿修一郎;森达哉;渡边仁弘;佐佐木雄基 - TOTO株式会社
  • 2020-03-04 - 2020-09-15 - H01L21/683
  • 本发明的静电吸盘具备:陶瓷电介体基板,具有放置吸附对象物的第1主面、所述第1主面相反侧的第2主面、向所述第1主面开口的槽;基座板,支撑所述陶瓷电介体基板且具有气体导入路;及第1多孔质部,设置于所述气体导入路之间,所述陶瓷电介体基板具有多个孔,其连通所述槽与所述气体导入路,在从所述基座板朝向所述陶瓷电介体基板的第1方向上穿通所述陶瓷电介体基板,所述第1多孔质部具有:多孔区域,具有多个孔;及致密区域,比所述多孔区域更致密,所述多孔区域还具有致密部,当向垂直于所述第1方向的平面进行投影时,设置于所述陶瓷电介体基板的所述多个孔的至少1个构成为与所述致密部的至少1个发生重叠。
  • 静电吸盘处理装置
  • [发明专利]静电吸盘-CN201910976863.5在审
  • 白石纯;西愿修一郎;森达哉;渡边仁弘 - TOTO株式会社
  • 2019-10-15 - 2020-05-08 - H01L21/683
  • 本发明的目的在于提供一种静电吸盘,在设置有多孔质部的静电吸盘中,能够进一步抑制电弧放电的发生。具备:陶瓷电介体基板,具有放置吸附对象物的第1主面、第2主面;基座板,具有气体导入路;及第1多孔质部,设置在与所述气体导入路相对的位置,其特征为,所述陶瓷电介体基板具有位于所述第1主面与所述第1多孔质部之间的第1孔部,所述第1多孔质部具有:多孔部,具有多个孔;及第1致密部,比所述多孔部更致密,在向垂直于从所述基座板朝向所述陶瓷电介体基板的第1方向的平面进行投影时,构成为所述第1致密部与所述第1孔部发生重叠,所述多孔部与第1孔部并不重叠。
  • 静电吸盘
  • [发明专利]静电吸盘-CN201910976997.7在审
  • 白石纯;西愿修一郎;森达哉;渡边仁弘 - TOTO株式会社
  • 2019-10-15 - 2020-05-08 - H01L21/683
  • 本发明的目的在于提供一种静电吸盘,在设置有多孔质部的静电吸盘中,能够进一步抑制电弧放电的发生。具备:陶瓷电介体基板,具有放置吸附对象物的第1主面、所述第1主面相反侧的第2主面;基座板,支撑所述陶瓷电介体基板且具有气体导入路;及第1多孔质部,设置在所述基座板与所述陶瓷电介体基板的所述第1主面之间且与所述气体导入路相对的位置,其特征为,所述第1多孔质部具有分别具有多个孔且相互离开设置的多个疏松部分,所述多个疏松部分分别在相对于从所述基座板朝向所述陶瓷电介体基板的第1方向以规定角度倾斜的方向上延伸。
  • 静电吸盘
  • [发明专利](Z)-氰基烯基环丙烷羧酸化合物的制造方法-CN201080054225.5有效
  • 惣明稔雄;上川彻;森达哉 - 住友化学株式会社
  • 2010-12-01 - 2012-08-15 - C07C253/30
  • 一种(Z)-氰基烯基环丙烷羧酸化合物的制造方法,其包括以下工序:在选自由溴、溴化氢、羧酸溴化物、溴化磷化合物、N-溴化酰亚胺化合物、N-溴化酰胺化合物、溴化烷基硅烷化合物、亚硫酰溴、溴化硼化合物、溴化铝化合物、硫醇化合物、二硫化物、硫代羧酸化合物、硝酸及硝酸盐组成的组中的至少一种异构化催化剂的存在下,使(E)-氰基烯基环丙烷羧酸化合物(1)异构化成(Z)-氰基烯基环丙烷羧酸化合物(2)。(式(1)、(2)中,关于R1及R2,R1表示可具有取代基的烷基或卤素原子,R2表示氢原子、可具有取代基的烷基或可具有取代基的苄基)。
  • 氰基烯基环丙烷羧酸化合物制造方法

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