专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]光转换部件-CN201780073087.7有效
  • 恩地卓也;森诚树 - 东丽工程株式会社
  • 2017-10-31 - 2021-10-22 - G02B5/20
  • 本发明提供即使形成阻挡层也能够得到高输出亮度的光转换部件。具体而言,该光转换部件具有:光转换膜,将光的颜色从规定颜色进行转换;第1阻气部,位于光转换膜的待转换的光入射的面侧,由防止水分、气体向光转换膜渗入的一层以上的阻气层构成;和第1基材,位于第1阻气部的与光转换膜所处的面相反的面侧,透光并保持光转换膜和第1阻气部,该光转换部件具备具有下述特征的第1阻气部:对于规定颜色的光,第1基材与第1阻气部两者的组合体的透光率高于第1基材的透光率。
  • 转换部件
  • [发明专利]密封膜的形成方法和密封膜-CN201580048757.0有效
  • 山下雅充;藤元高佳;森诚树 - 东丽工程株式会社
  • 2015-10-29 - 2019-05-28 - C23C16/505
  • 本发明提供能够稳定地形成具有高阻隔性的密封膜的密封膜形成方法。具体地说,本发明涉及在基材(2)上进行缓冲层(M1)和密度高于缓冲层(M1)的阻隔层(M2)的交替成膜而形成密封膜的密封膜的形成方法,该方法具有下述工序:在基材(2)的表面形成第1缓冲层(M1a)的第1缓冲层成膜工序;在第1缓冲层(M1)的表面形成阻隔层(M2)的第1阻隔层成膜工序;以及在第1阻隔层形成工序中形成的阻隔层(M2)的表面形成第2缓冲层(M1b)的第2缓冲层成膜工序,与第2缓冲层(M1b)中的在与基材(2)的厚度方向倾斜的方向成膜的部分的膜厚相对于在该厚度方向成膜的部分的膜厚的比例相比,第1缓冲层(M1a)中的在与上述厚度方向倾斜的方向成膜的部分的膜厚相对于在上述厚度方向成膜的部分的膜厚的比例更接近于1。
  • 密封形成方法
  • [发明专利]膜厚不匀检测装置和方法、带有该检测装置的涂布装置-CN201310023443.8无效
  • 西村幸治;平田肇;森诚树 - 东丽工程株式会社
  • 2013-01-22 - 2013-07-31 - G01N21/88
  • 本发明提供膜厚不匀检测装置和方法、带有该检测装置的涂布装置,即使对伴随微小膜厚不匀的纵筋或横段,能够在刚涂布完后可靠地发现膜厚不匀,该膜厚不匀检测装置包括:照射部,向基板上的涂布膜照射特定照射图案的光;光接收部,接收从涂布膜表面反射的反射光;判断部,对由光接收部接收的光图案和特定的照射图案进行比较,由此判断涂布膜的形成状态是否良好;其中,判断部包括:图像比较部,比较接收光图案和照射图案;偏差提取图像生成部,用图像比较部比较接收光图案和照射图案以提取偏差;累加计算部,从偏差提取的图像累加计算散布的偏差提取图像的面积;累加计算偏差面积判断部,判断累加计算的偏差提取面积累加计算值是否比判断基准值大。
  • 膜厚不匀检测装置方法带有
  • [发明专利]板状部件的输送装置及板状部件的输送方法-CN200810144454.0有效
  • 谷川央树;尾崎充佳;森诚树 - 东丽工程株式会社
  • 2008-07-31 - 2009-10-21 - H01L21/00
  • 本发明提供一种板状部件的输送装置及板状部件的输送方法,其在输送路径的中途,可以高精度地对板状部件进行要求表面平坦度的处理。输送装置(10)具有:飘浮单元(20),其沿玻璃基板(11)的输送方向排列多个使玻璃基板(11)飘浮的飘浮部件(21);输送单元(30),其在玻璃基板(11)利用飘浮单元(20)从飘浮部件(21)飘浮的状态下,保持玻璃基板(11),同时沿输送方向向下游侧输送玻璃基板(11);以及处理部(40),其在输送单元(30)中的输送路径的中途,对玻璃基板(11)进行曝光处理。在与处理部(40)相对应的区域内,设置作为表面平坦度提高单元的横置飘浮部件(43)。
  • 部件输送装置方法

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