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专利名称

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申请人
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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[实用新型]一种陶瓷材料喷涂系统-CN202222554505.5有效
发明人：韩刚库;王改良 -专利权人： 梭莱镀膜工业（江阴）有限公司
申请日： 2022-09-27 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： B05B13/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种陶瓷材料喷涂系统，包括驱动台，所述驱动台的上侧设置有两处支架，两处所述支架的中间安装有固定辊，所述固定辊的两端安装有防护罩，所述固定辊外侧的中部安装有工件，所述工件的侧部分别安装有等离子枪和位置传感器，所述等离子枪的侧部安装有导料阀。本实用新型一种陶瓷材料喷涂系统，通过在喷涂工序的一侧安装位置传感器，可以对工件的移动位置进行把控，通过在等离子枪和输料管的中间设置导料阀、回料管和回料桶，当工件的端部移动等离子枪的位置时，利用相关控制系统对导料阀的控制，可以使物料由喷涂状态切换为进入到回料桶内部的状态，能够有效节约喷涂原料，从而降低加工成本。
一种陶瓷材料喷涂系统

[实用新型]一种靶材喷涂设备-CN202222629785.1有效
发明人：韩刚库;王改良 -专利权人： 梭莱镀膜工业（江阴）有限公司
申请日： 2022-10-08 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： C23C4/129 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种靶材喷涂设备，包括支架一，所述同步带移动模组安装在支架一上，所述驱动电机一与同步带移动模组连接，所述驱动电机二安装在同步带移动模组上，所述腔体的底部安装有支架二，所述侧门安装在腔体的一侧，所述腔体的内部安装有轨道，所述轨道上安装有滚动支架，所述靶材通过固定支架安装在滚动支架上，所述腔体的顶端安装有顶盖，所述等离子枪系统、挡板安装在顶盖上，所述腔体的底部安装有吸尘管，所述控制柜安装在支架二的外壁上，本实用新型一种靶材喷涂设备，通过在等离子枪系统的两侧安装挡板，对等离子枪系统起到遮挡作用，减少材料的浪费，提高材料利用率和生产效率，减少浪费。
一种喷涂设备

[实用新型]一种靶材模管内壁清洁装置-CN202222542162.0有效
发明人：韩刚库;王改良 -专利权人： 梭莱镀膜工业（江阴）有限公司
申请日： 2022-09-26 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： B08B9/047 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种靶材模管内壁清洁装置，包括机架，所述机架的内部滑动连接有移动台，所述机架和所述移动台之间安装有驱动装置，所述移动台的上侧安装有支架，所述支架的上侧安装有模管，所述机架上侧的左端安装有减速电机，所述减速电机的前端安装有清洁杆，所述清洁杆的前端安装有与所述模管内壁滚动配合的清洁头。本实用新型一种靶材模管内壁清洁装置，通过在装置内部设置由移动台、驱动装置组成的模管往复移动装置，在装置的左方设置由减速电机、清洁杆和清洁头组成的清洁头转动装置，利用二者的配合，可以对模管的内部进行快速清洁，不仅降低了操作人员的劳动强度，还提升了装置的安全性。
一种靶材模管内壁清洁装置

[实用新型]一种异型长靶管测量装置-CN202222176593.X有效
发明人：王改良 -专利权人： 梭莱镀膜工业（江阴）有限公司
申请日： 2022-08-18 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： G01B5/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种异型长靶管测量装置，包括底板，所述底板上侧的两端分别安装有一处支板，所述支板的外侧安装有固定件，所述支板和所述固定件之间安装有固定座，所述固定座的内部开设有与所述固定件活动连接的限位槽，一处所述固定座的内部安装有限位销，另一处所述固定座的内部安装有百分表，两处所述支板的上侧安装有标准长度杆；本实用新型一种异型长靶管测量装置，通过设置由支板、百分表、限位销和标准长度杆组成的快速测量模型，利用将待测量长靶管逐个放入测量模型内部的方式，即可配合百分表的读数对批量靶管的长度进行精准、快速地检测，从而提升了长靶管长度检测的精度和效率。
一种异型长靶管测量装置

[发明专利]导电硅溅射靶-CN202110837547.7在审
发明人： W·德博斯切;I·卡雷蒂吉安加斯普罗;蔺裕平 -专利权人：梭莱先进镀膜有限公司;梭莱镀膜工业（江阴）有限公司
申请日： 2021-07-23 - 公布日： 2023-02-07 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：一种溅射靶(10)具有用于溅射的靶材(11)，该靶材(11)包括层状结构和至少1％的孔隙率，并且具有低于1000ohm.cm的电阻率，例如低于100ohm.cm，例如诸如低于10ohm.cm，该靶材还包括硅以及来自元素周期表的第13族和/或第15族的至少一种附加元素，其中硅的量是至少98wt.％，更优选至少99wt.％，更优选高于99.5wt.％，并且该至少一种附加元素的量是低于0.03wt.％，其中所述量不包括氮量(如果存在氮的话)。还提供了一种制造方法和溅射方法。
导电溅射

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