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[发明专利]基板处理装置和基板处理方法-CN202111633984.3在审
发明人： 桑特·阿雷克赖恩;具滋明 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2021-12-29 - 公布日： 2022-07-01 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明构思提供了一种基板处理装置和基板处理方法。该基板处理装置包括工艺腔室，在该工艺腔室中具有处理空间；支承单元，其用于在所述工艺腔室中支承基板；气体供应单元，其用于将工艺气体供应到所述工艺腔室内部；以及等离子体产生单元，其用于从所述工艺气体产生等离子体，其中，所述等离子体产生单元包括：顶部电极，其设置在所述基板上方；底部电极，其设置在所述基板下方；边缘电极，其设置在围绕所述基板的边缘处；三个高频电源，其将高频功率施用至所述底部电极；以及边缘阻抗控制电路，其连接至所述边缘电极。
处理装置方法

[发明专利]用于处理基板的装置和方法-CN202010607960.X在审
发明人：具滋明;安宗焕;朴君昊;赵台勋;桑特·阿雷克赖恩 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2020-06-29 - 公布日： 2020-12-29 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明涉及用于处理基板的装置和方法。一种基板处理装置包括：腔室，该腔室中具有工艺空间；基板支承单元，其在工艺空间中支承基板；气体供应单元，其将气体供应至工艺空间；和等离子体生成单元，其从气体生成等离子体。其中，基板支承单元包括：基板支承部件，其支承基板；聚焦环，其围绕基板支承部件；绝缘体，其位于聚焦环的下方，且具有形成在其中的凹槽；电极，其设置在形成于绝缘体中的凹槽中；以及阻抗控制器，阻抗控制器与电极连接，且调节电极的阻抗，并且阻抗控制器包括：共振控制电路，其调节施加到电极的电流的最大值；以及阻抗控制电路，其控制基板的边缘区域的等离子体离子的入射角。
用于处理装置方法