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[发明专利]扫描光学系统的制造方法-CN202080060182.5有效
发明人：小田纯平;桑垣内智仁 -专利权人：纳卢克斯株式会社
申请日： 2020-04-14 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： G02B26/12 文献下载
摘要：本发明是扫描光学系统的制造方法，能够在不改变入射光学系统以及包含扫描透镜的成像光学系统的情况下，通过仅改变多面反射镜来获得有效扫描宽度不同的扫描光学系统，其中，该扫描光学系统的制造方法包含以下步骤：使用与第1值的有效扫描宽度对应的第1多面反射镜(1101)来设计第1扫描光学系统；将偏转基准点定在该第1扫描光学系统的偏转基准点(O(0，0))的位置来设计第2扫描光学系统，该第2扫描光学系统具有与比该第1值小的第2值的有效扫描宽度对应的第2多面反射镜(1102)，其中，该第1扫描光学系统的偏转基准点的位置是偏转角为0的情况下的光线在该第1多面反射镜(1101)的反射面上的反射点；以及调整该扫描透镜的形状和位置，以调整副扫描方向截面中的该成像光学系统的横向倍率。
扫描光学系统制造方法

[发明专利]扫描光学系统和扫描透镜-CN201980037018.X有效
发明人： 桑垣内智仁 -专利权人：纳卢克斯株式会社
申请日： 2019-03-14 - 公布日： 2022-06-21 - 主分类号： G02B26/10 文献下载
摘要：一种扫描光学系统，设面上的扫描方向为y轴，设向该面垂直入射的主光线为z轴，设该主光线在该偏转器上的反射点为原点，设从原点到该面的距离为L，设该面上的扫描路径的长度为W，设主光线通过该扫描透镜的出射面的点的y坐标的最大值和最小值分别为ymax和ymin，设该点处的该出射面的主扫描方向的曲率为c，设材料的折射率为n，将该点处的主扫描方向的光焦度定义为Φ＝(1‑n)·c，设ymin到0.6ymin和0.6ymax到ymax的范围内的dΦ/dy的绝对值的最大值为|dΦ/dy|out，设0.6ymin到0.6ymax的范围内的dΦ/dy的绝对值的最大值为|dΦ/dy|in，所述扫描光学系统满足0.54≤L/W≤0.64、|dΦ/dy|out/|dΦ/dy|in≤0.5。
扫描光学系统透镜

[发明专利]反射器-CN202180003369.6在审
发明人： 桑垣内智仁 -专利权人：纳卢克斯株式会社
申请日： 2021-02-04 - 公布日： 2021-12-21 - 主分类号： G02B5/126 文献下载
摘要：提供一种反射镜，其使光线向相对于入射方向成规定角度的方向反射，能够根据该规定角度简单且低成本地制造。反射器包括多个反射器单元。各个反射器单元在棱柱或圆柱的一端具备逆反射结构，该逆反射结构构成为将从该棱柱或该圆柱的另一端入射的光线向入射方向反射，在该反射器单元的包含该棱柱或该圆柱的中心轴的截面即基准截面中，被确定为该逆反射结构的形状关于该中心轴而线对称，该另一端的入射面的形状在该反射器单元内关于该中心轴而线对称，且具有相对于与该中心轴垂直的方向倾斜的部分。
反射

[发明专利]微透镜阵列及包括微透镜阵列的光学系统-CN201580027904.6有效
发明人：关大介;藤村佳代子;冈野正登;西尾幸畅;桑垣内智仁 -专利权人：纳卢克斯株式会社
申请日： 2015-05-26 - 公布日： 2018-10-09 - 主分类号： G02B3/00 文献下载
摘要：本发明提供以减少包括由单一的微透镜的孔径的衍射导致的分布在内的光的强度分布的不均匀的方式，使排列或形状分散的微透镜阵列。本发明的微透镜阵列是由配置在xy平面上的N个微透镜构成的微透镜阵列。各个微透镜的透镜顶点投影到xy平面的投影点配置于规定的方向的栅格间隔在以M为正的整数时D/M(毫米)的xy平面上的基准栅格结构的栅格点的附近，以微透镜的边界线作为透镜的边，微透镜的相对的两个边的间隔大致等于D，从透镜顶点投影到xy平面的投影点至边投影到xy平面的投影线为止的距离是：D/2+εi，并且，在将各个微透镜的材料的折射率设为n，将中心附近的该规定的方向的曲率半径设为R(毫米)，将焦距设为f(毫米)时，满足：；；；。
透镜阵列包括光学系统