“根本亮二”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果11个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]曝光方法及其装置-CN201110413542.8无效
发明人：石田进;手塚秀和;土井秀明;斋藤佳大;根本亮二 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2011-12-13 - 公布日： 2012-07-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种曝光方法及其装置。为了削减在LED光源中使用的LED元件数，小型并且低成本地提供能够在短时间内获得充分的光量的曝光用光源，而使曝光装置构成为具备：曝光用光源单元，其发出曝光光；台单元，其承载曝光用基板，并能够在平面内移动；控制单元，其控制台单元和曝光用光源单元，曝光用光源单元具备2维排列了多个发光元件的光源部，控制单元在通过曝光用光源单元在预定的时间内以预定的曝光总光量对承载在台单元上的曝光用基板进行曝光时，控制光源部，一边依次改变照射条件，一边使得从该光源部发出多个脉冲光，对曝光用基板进行照射。
曝光方法及其装置

[发明专利]曝光装置以及曝光方法-CN201110364683.5无效
发明人： 根本亮二 -专利权人：株式会社日立高科技
申请日： 2011-11-11 - 公布日： 2012-07-04 - 主分类号： G02F1/1337 文献下载
摘要：将光偏转元件(2b、2c)或光偏转元件(2d、2e)或光偏转元件(2f、2g、2h、2i)或光偏转元件(2j、2k)设置于光罩(2)的上表面或下表面，将曝光光束倾斜地从光罩(2)照射至基板(1)，所述光偏转元件(2b、2c)或光偏转元件(2d、2e)或光偏转元件(2f、2g、2h、2i)或光偏转元件(2j、2k)使从曝光光束照射装置(30)照射出的曝光光束透过，且使曝光光束的前进方向倾斜。各种光偏转元件(2b、2c)或光偏转元件(2d、2e)或光偏转元件(2f、2g、2h、2i)或光偏转元件(2j、2k)使从曝光光束照射装置(30)照射出的曝光光束的前进方向分别向不同的方向倾斜。
曝光装置以及方法

[发明专利]液晶曝光装置-CN201110221578.6无效
发明人：徳山幹夫;渡部成夫;牧信行;小松伸寿;根本亮二;森顺一;高桥聪 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2011-08-04 - 公布日： 2012-03-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：在曝光装置中将基板接触支撑于卡盘这一方法，有可能会因附着于基板的尘埃而发生仿照基板保持形状的“里面转印”，或者因基板与卡盘的接触顺序等而在基板上发生皱折等使平坦度受损，发生曝光不良。为此，设置在卡盘上利用空气力使基板进行浮起的部件，通过以非接触方式保持基板，就能够防止有可能因接触状态而发生的平坦度的损害和皱折的发生，将曝光图案在基板上高精度地进行曝光。另外，通过设置恒温(定温)部件，就能够防止使其浮起的基板的温度变化(上升)，所以不会有基板的浮起曝光所导致的逊色。
液晶曝光装置

[发明专利]液晶用取向膜曝光方法及其装置-CN201110193716.4无效
发明人：吉武康裕;片冈文雄;根本亮二 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2011-07-05 - 公布日： 2012-01-11 - 主分类号： G02F1/1337 文献下载
摘要：一种液晶用取向膜曝光方法及其装置。在对液晶基板的取向膜照射细小间距的线形光图案并沿一个方向扫描时，对取向膜赋予与该扫描方向相应的同样的取向特性，但在现有的透过掩膜照射光图案来进行曝光的方式中曝光时间长，在实用上有瓶颈。本发明中，在对从光源发射的曝光光赋予偏振光特性并使其入射到具有大量微小可动镜面的微镜器件，把通过由微镜器件的微小可动镜面形成的反射图案反射的曝光光的图案经投影光学系统投影到载置在载台上的在表面上形成取向膜的基板上，对取向膜进行曝光的液晶用取向膜曝光方法中，在通过使载台在一个方向上连续移动而在一个方向上连续移动的基板上，曝光的图案以比载台的移动速度慢的速度移动来对取向膜进行曝光。
液晶取向曝光方法及其装置

[发明专利]微镜器件的筛选方法、微镜器件筛选装置以及无掩膜曝光装置-CN201110021679.9无效
发明人：吉武康裕;根本亮二;上野刚渡 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2011-01-14 - 公布日： 2011-07-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种微镜器件的筛选方法、微镜器件筛选装置以及无掩膜曝光装置。该微镜器件筛选装置用于在无掩膜曝光装置中获得在宽度方向和厚度方向上都无凹陷的线性良好的描画图案。在该微镜器件筛选装置中具备：将照明光照射到微镜器件(2)的微镜(21)的照明系统；使通过微镜(21)产生的衍射光入射到摄像元件(79)的光学系统；以及对通过摄像元件(79)拍摄到的衍射光分布图像进行处理，进行微镜器件(2)为合格品或不合格品的判定的处理系统(9)。
器件筛选方法装置以及无掩膜曝光

[发明专利]邻近曝光装置、其曝光光束形成方法及面板基板制造方法-CN201010215353.5无效
发明人：手塚秀和;土井秀明;根本亮二;吉武康裕;针山达雄 -专利权人：株式会社日立高科技
申请日： 2010-06-25 - 公布日： 2011-01-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明是有关于一种邻近曝光装置、其曝光光束形成方法及面板基板制造方法。本发明围绕着从多个放大透镜(43)到蝇眼透镜(45)为止的光路而设置反射构件(50)。将搭载于底层基板(51)的外周部的半导体发光元件(42)以及与这些半导体发光元件对应的放大透镜(43)配置成，从该半导体发光元件(42)产生并经对应的放大透镜(43)而放大后的光的其中一端在不偏离蝇眼透镜(45)的照射面的规定角度以内而入射至蝇眼透镜(45)。并且，将反射构件(50)配置成，从搭载于底层基板(41)的外周部的半导体发光元件(42)产生并经对应的放大透镜(43)而放大后的光的另一端由该反射构件(50)而反射后，在不偏离蝇眼透镜(45)的照射面的规定角度以内而入射至蝇眼透镜(45)。
邻近曝光装置光束形成方法面板制造

[发明专利]曝光装置、曝光光束照射方法及显示用面板基板制造方法-CN201010149603.X无效
发明人：手塚秀和;根本亮二;土井秀明;斎藤佳大 -专利权人：株式会社日立高科技
申请日： 2010-04-07 - 公布日： 2010-10-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种曝光装置、曝光光束照射方法及显示用面板基板制造方法。当多个半导体发光元件用来形成曝光光束时，效率良好地使多个半导体发光元件冷却。从多个半导体发光元件产生形成曝光光束的光，将多个半导体发光元件产生的光放大并聚光而形成曝光光束。一边对多个半导体发光元件进行冷却，一边改变多个半导体发光元件内的点灯的半导体发光元件的数量，以对曝光光束的照度进行调节，并伴随时间的经过来改变熄灯的半导体发光元件。或一边使多个半导体发光元件冷却，一边使多个半导体发光元件的一部分或全部断续地点灯，以对曝光光束的照度进行调节，并使断续地点灯的半导体发光元件的一部分，在与其他的断续地点灯的半导体发光元件不同的时间点上点灯。
曝光装置光束照射方法显示面板制造

[发明专利]曝光装置、曝光方法以及显示用面板基板的制造方法-CN200910265751.5无效
发明人： 根本亮二 -专利权人：株式会社日立高科技
申请日： 2009-12-31 - 公布日： 2010-08-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明是有关一种曝光装置、曝光方法以及显示用面板基板的制造方法，光束照射装置(20)的空间光调制器(25)是将反射光束用的多个微小的反射镜排列在二方向上而构成，驱动电路(27)根据描绘数据来变更各反射镜的角度，由此来对照射至基板(1)的光束进行调制。经调制后的光束从光束照射装置(20)的包含照射光学系统的头部(20a)照射向基板(1)。对光束照射装置(20)的驱动电路(27)供给该描绘数据，并监视空间光调制器(25)的各反射镜的动作，且根据对光束照射装置(20)的驱动电路所供给的描绘数据与所监视的空间光调制器(25)的各反射镜的动作，来判定空间光调制器(25)的各反射镜是否正常动作。
曝光装置方法以及显示面板制造

[发明专利]液晶曝光装置-CN201010115737.X无效
发明人：渡部成夫;松山胜章;根本亮二;牧信行 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2010-02-11 - 公布日： 2010-08-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明的课题是在液晶曝光装置中提供组装平台时容易定位的构造。本发明提供一种液晶曝光装置，具有：搭载工件的工件台、具有该工件台的移动机构的可动平台、具有该可动平台的移动机构的固定平台、和支持对所述工件台上的工件曝光掩膜图形的曝光单元的门架部，其中，固定所述门架部的固定平台具有在与所述可动平台的移动方向成直角的方向上可分割为多个的构造。
液晶曝光装置

[发明专利]曝光装置、曝光方法以及显示用面板基板的制造方法-CN200810132100.4无效
发明人：松山胜章;根本亮二;森顺一;佐藤隆悟;林知明 -专利权人：株式会社日立高科技
申请日： 2008-07-28 - 公布日： 2009-02-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：在使用多个移动平台的近接方式的曝光中，使用激光测长系统，来高精度地进行曝光时的基板的定位。各移动平台搭载着夹盘(10a)与(10b)而向副平台底座(11a)、(11b)上以及主平台底座(11)上移动，从而在主平台底座(11)上进行基板(1)的定位。各第一激光测长系统包括激光源(31a)与(31b)、安装在各移动平台的X平台(14)下方的柱状镜(34a)与(34b)、以及设置在主平台底座(11)的偏离X导轨(13)的位置上的激光干涉仪(32a)与(32b)，从而对各移动平台的X方向的位置进行检测。激光干涉仪(32a)与(32b)不会受到副平台底座(11a)与(11b)的振动的影响，并且从激光干涉仪(32a)与(32b)到主平台底座(11)上的各移动平台为止的测定距离变短。
曝光装置方法以及显示面板制造

[发明专利]曝光装置、曝光方法、及显示用面板基板的制造方法-CN200710123444.4无效
发明人： 根本亮二 -专利权人：株式会社日立高科技
申请日： 2007-06-22 - 公布日： 2008-03-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种曝光装置，即使掩膜的温度产生变化，其也可防止图案的曝光精度下降。照相机获得设置在掩膜上的检测用图案的图像，且输出图像信号。图像信号处理装置对照相机所输出的图像信号进行处理。主控制装置根据图像信号处理装置的处理结果，检测掩膜的伸缩量，且对温度控制装置设定夹盘的目标温度。热交换器使向热介质通路供给的二次热介质的温度及数量改变，以使夹盘的温度产生变化。温度传感器检测夹盘的温度，温度控制装置以使温度传感器所检测的夹盘的温度成为目标温度的方式，来控制热交换器。经由夹盘而高精度地调节基板的温度，并以与掩膜的伸缩相一致的方式使基板伸缩。
曝光装置方法显示面板制造

1
共 11 条