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本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法-CN202080082676.3在审
发明人： 染谷康夫;海保贵昭;阿出川穂 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2020-11-27 - 公布日： 2022-07-12 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及一种抗蚀剂组合物，通过曝光产生酸、且对显影液的溶解性因酸的作用而变化。含有具有以通式(a0‑1)表示的结构单元(a0)的高分子化合物(A1)、以通式(b1)表示的化合物(B1)以及以通式(d1)表示的化合物(D1)。R为氢原子等；Va01为2价的连接基团；na01为1～2的整数；Ra01为具有氰基等的含内酯环式基；Yb01为2价的连接基团或单键；Lb01为‑C(＝O)‑O‑等；Rb01～Rb03为烷基；Rb04～Rb06为烷基等；nb04为0～4的整数；nb05～nb06为0～5的整数；X‑为反荷阴离子；Rd01为环式基等；Mm+为m价的有机阳离子。[化1]
抗蚀剂组合以及图案形成方法

[发明专利]送液性得到改善的光刻用药液及包含其的抗蚀剂组合物-CN201610249101.1有效
发明人：米村幸治;染谷康夫;尹得荣 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2016-04-20 - 公布日： 2022-03-15 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种既能降低光刻用组合物的粘度从而改善送液性、又能够形成作为目标的厚度均匀的厚膜的光刻用药液，并且提供包含该光刻用药液的抗蚀剂组合物。上述课题的解决手段为：以膜厚成为5μm以上的方式，利用旋涂法涂布含有具有规定范围内的饱和蒸气压及粘度的溶剂和树脂的光刻用药液。
送液性得到改善光刻用药包含抗蚀剂组合

[发明专利]光致抗蚀剂图案形成方法-CN202011423854.2在审
发明人：角田力太;柳楠熙;染谷康夫 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2020-12-08 - 公布日： 2021-06-11 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：一种光致抗蚀剂图案形成方法，包括：(i)在支承体上使用光致抗蚀剂组合物形成光致抗蚀剂膜的工序；(ii)将所述光致抗蚀剂膜曝光的工序；及(iii)将所述曝光后的光致抗蚀剂膜显影而形成光致抗蚀剂图案的工序，其特征在于，所述抗蚀剂组合物含有：对显影液的溶解性因酸的作用而变化的树脂(A)、通过曝光产生酸的产酸剂(B)、可光降解的碱(D1)、溶剂(S)及以下述式(x‑1)表示的化合物(X)，在所述工序(i)中形成的光致抗蚀剂膜中残留的溶剂的量为910ppm以上，式中，R1～R4为羟基或碳数为1～5的烷基，R5及R6为氢、碳数为1～5的烷基或被羟基取代而得的碳数为1～10的烷基。
光致抗蚀剂图案形成方法

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共 3 条

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