专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种无动力火抛机及其抛圆方法-CN202111465722.0有效
  • 程俊华;赵成玉;赵国祥;赵天佑 - 杭州乾智新材料研究有限公司
  • 2021-12-03 - 2023-08-18 - C03B29/14
  • 一种无动力火抛机,包括内部为热环境的炉体,所述炉体竖直设置,所述炉体内设置有金属圆筒,所述金属内筒内有玻璃球沿着滚落的螺旋体,所述螺旋体的上端设置有进料口,其下端设置有出料口;所述炉体内的热环境温度沿金属圆筒的轴向设有温度热点或高温段。本发明的有表面缺陷的玻璃球在具有三维导向几何特性的螺旋面的引导下反复翻转和旋转向下运动,提高玻璃球的圆度和光泽。无论是有表面缺陷的玻璃球还是高圆度的玻璃球的翻转、旋转和移动并不依靠外力,而是依靠玻璃球自身的重力和螺旋面的三维导向作用,无动力自进料口进入,由出料口排出;不再有玻璃球容易叠堆在金属圆筒的底部的现象,受热不均匀的缺陷,单机产能大幅度提高。
  • 一种动力火抛机及其方法
  • [实用新型]一种无动力火抛机-CN202123017641.2有效
  • 程俊华;赵成玉;赵国祥;赵天佑 - 杭州乾智新材料研究有限公司
  • 2021-12-03 - 2022-06-03 - C03B29/14
  • 一种无动力火抛机,包括内部为热环境的炉体,所述炉体竖直设置,所述炉体内设置有金属圆筒,所述金属内筒内有玻璃球沿着滚落的螺旋体,所述螺旋体的上端设置有进料口,其下端设置有出料口;所述炉体内的热环境温度沿金属圆筒的轴向设有温度热点或高温段。本实用新型的有表面缺陷的玻璃球在具有三维导向几何特性的螺旋面的引导下反复翻转和旋转向下运动,提高玻璃球的圆度和光泽。无论是有表面缺陷的玻璃球还是高圆度的玻璃球的翻转、旋转和移动并不依靠外力,而是依靠玻璃球自身的重力和螺旋面的三维导向作用,无动力自进料口进入,由出料口排出;不再有玻璃球容易叠堆在金属圆筒的底部的现象,受热不均匀的缺陷,单机产能大幅度提高。
  • 一种动力火抛机
  • [实用新型]一种镀膜用载具及镀膜设备-CN202121754978.9有效
  • 陶利松;程俊华 - 杭州乾智新材料研究有限公司
  • 2021-07-30 - 2022-04-29 - C23C14/04
  • 本实用新型属于镀膜技术领域,尤其涉及一种镀膜用载具及镀膜设备;其中,镀膜用载具,包括:承载座,用于承载待镀膜的基材;掩膜板,具有一个或多个镀膜口;掩膜板盖设于基材之上并固定安装于承载座,以通过镀膜口对基材的目标位置进行镀膜;其中,掩膜板具有提拉部;通过机械提拉或磁力作用于掩膜板的提拉部,以使掩膜板脱离基材。本实用新型的镀膜用载具,在掩膜板上设计提拉部,放置或者移开掩膜板时,手指或机械手或利用磁力作用可抓取提拉部,可避免触碰基材,进而避免基材表面被划伤,避免镀膜产品报废。
  • 一种镀膜用载具设备
  • [实用新型]一种真空蒸发镀膜设备-CN202122006653.9有效
  • 陶利松 - 杭州乾智新材料研究有限公司
  • 2021-08-25 - 2022-04-29 - C23C14/30
  • 本实用新型公开一种真空蒸发镀膜设备,包括真空腔体,所述真空腔体内顶部设有中心回转机构,中心回转机构下端连接有用于放置待镀膜基板的工件盘,真空腔体内底部两侧均设有用于蒸发镀膜材料的蒸发装置,真空腔体内底部中央设有离子源装置,真空腔体内设有加热装置,所述蒸发装置包括电子发生器、罐状水冷机构,罐状水冷机构环绕设于电子发生器外围,工件盘设有温度传感器,真空腔体外设有控制器,控制器分别与温度传感器、罐状水冷机构连接。优点为:可即时将电子发生器多余的辐射热带出,避免基板翘曲等;可根据实时温度控制罐状水冷机构冷水循环,避免温度过高的同时也避免热量浪费;设备特别适用于低温镀膜需求的基板,如小于1mm厚的微纳晶。
  • 一种真空蒸发镀膜设备
  • [发明专利]一种真空蒸发镀膜设备-CN202110978455.0在审
  • 陶利松 - 杭州乾智新材料研究有限公司
  • 2021-08-25 - 2022-01-14 - C23C14/54
  • 本发明公开一种真空蒸发镀膜设备,包括真空腔体,所述真空腔体内顶部设有中心回转机构,中心回转机构下端连接有用于放置待镀膜基板的工件盘,真空腔体内底部设有离子源装置以及用于蒸发镀膜材料的蒸发装置,真空腔体内设有加热装置,所述蒸发装置包括电子发生器、罐状水冷机构,罐状水冷机构环绕设于电子发生器外围,工件盘设有温度传感器,真空腔体外设有控制器,控制器根据温度传感器检测得到的温度控制罐状水冷机构的冷水循环。优点为:可即时将电子发生器多余的辐射热带出,避免温度过高而使基板翘曲等;可根据实时温度控制冷水循环,不仅避免了腔体内温度过高,也避免了热量浪费;设备特别适用于低温镀膜需求的基板,如小于1mm厚的微纳晶。
  • 一种真空蒸发镀膜设备

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