专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]测量磊晶层厚度的方法-CN02146939.3有效
  • 林庆福;曾华洲;杨镫祺 - 联华电子股份有限公司
  • 2002-10-25 - 2003-12-03 - G01B11/06
  • 本发明揭示了一种测量磊晶层厚度的方法。此方法使用一非单晶层于磊晶层形成于底材上之前先形成于底材上,因此磊晶层形成于非单晶层上的部份成为多晶。测量多晶层与非单晶层的厚度以及多晶层加上非单晶层的总厚度与磊晶层的厚度差可得到磊晶层的厚度。磊晶层的厚度等于多晶层加上非单晶层的总厚度减去多晶层加上非单晶层的总厚度与磊晶层的厚度差。此方法在当欲测量的磊晶层的掺杂浓度低于或等于底材的掺杂浓度时特别有用。
  • 测量磊晶层厚度方法

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