专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]氟化物皮膜形成用铝合金构件和具有氟化物皮膜的铝合金构件-CN202080028468.5有效
  • 村濑功 - 昭和电工株式会社
  • 2020-03-11 - 2022-09-02 - C22C21/06
  • 提供没有黑色点状隆起部的产生而平滑性优异并且针对腐蚀性气体和等离子体等具备优异耐蚀性的氟化物皮膜形成用铝合金构件。一种氟化物皮膜形成用铝合金构件(1),含有Si:0.01质量%~0.3质量%、Mg:0.5质量%~5.0质量%、Fe:0.05质量%~0.5质量%,Cu含有率为0.5质量%以下,Mn含有率为0.30质量%以下,Cr含有率为0.30质量%以下,余量由Al和不可避免的杂质构成,在将铝合金构件中的Fe系结晶物的平均长径设为“D”(μm),并将所述铝合金构件中的平均晶体粒径设为“Y”(μm)时,满足log10Y-0.320D+4.60的关系式。在所述氟化物皮膜形成用铝合金构件(1)的至少部分表面形成氟化物皮膜(2)。
  • 氟化物皮膜形成铝合金构件具有
  • [发明专利]氟化物皮膜形成用铝合金材料及具有氟化物皮膜的铝合金材料-CN201980038108.0有效
  • 村濑功 - 昭和电工株式会社
  • 2019-04-19 - 2021-12-21 - C22C21/06
  • 提供没有黑色的点状隆起部的产生而平滑性优异并且针对腐蚀性气体和等离子体等具备优异的耐蚀性的氟化物皮膜形成用铝合金材料。一种半导体制造装置用的氟化物皮膜形成用铝合金材料(1),含有Si:0.3质量%~0.8质量%、Mg:0.5质量%~5.0质量%、Fe:0.05质量%~0.5质量%,Cu的含有率为0.5质量%以下,Mn的含有率为0.30质量%以下,Cr的含有率为0.30质量%以下,余量包含Al及不可避免的杂质,在将铝合金材料中的Fe系结晶物的平均长径设为D(μm),将所述铝合金材料中的平均晶体粒径设为Y(μm)时,满足log10Y‑0.320D+4.60的关系式。在所述氟化物皮膜形成用铝合金材料(1)的表面的至少一部分形成氟化物皮膜(2)。
  • 氟化物皮膜形成铝合金材料具有
  • [发明专利]磁记录介质用衬底及硬盘驱动器-CN201810062750.X有效
  • 村濑功;杉本公德 - 昭和电工株式会社
  • 2018-01-23 - 2020-06-12 - G11B5/82
  • 一种磁记录介质用衬底,在其铝合金衬底的表面上形成有NiP基镀膜。铝合金衬底含有9.5质量%以上13.0质量%以下范围的Si、0.05质量%以上0.40质量%以下范围的Mn、0.30质量%以上0.40质量%以下范围的Zn、0.005质量%以上0.03质量%以下范围的Sr、0.05质量%以上0.50质量%以下范围的Cu、0.05质量%以上且0.50质量%以下范围的Mg、0.03质量%以上0.30质量%以下范围的Zr。在合金结构上,铝合金衬底的Si颗粒或Al‑Si系化合物颗粒之中的最大粒径为8μm以上的颗粒的分布密度为300个/mm2以下。NiP基镀膜的厚度为7μm以上。磁记录介质用衬底的外径为53mm以上,厚度为0.9mm以下,杨氏模量为79GPa以上。
  • 记录介质衬底硬盘驱动器
  • [发明专利]磁记录介质基板和硬盘驱动器-CN201710499215.6有效
  • 村濑功;杉本公德 - 昭和电工株式会社
  • 2017-06-27 - 2019-06-07 - G11B5/82
  • 一种在铝合金基板的表面上形成了NiP系镀膜的磁记录介质基板,其中,所述铝合金基板包括:位于9.5质量%以上且11.0质量%以下的范围内的Si、位于0.45质量%以上且0.90质量%以下的范围内的Mn、位于0.32质量%以上且0.38质量%以下的范围内的Zn、及位于0.01质量%以上且0.05质量%以下的范围内的Sr。所述铝合金基板的合金组织中的Si颗粒的平均粒径为2μm以下。所述NiP系镀膜的膜厚为7μm以上。所述磁记录介质基板的外径为53mm以上,厚度为0.9mm以下,杨氏模量(E)为79GPa以上。
  • 记录介质硬盘驱动器
  • [发明专利]磁记录介质用基底-CN201611150375.1有效
  • 幸松孝治;村濑功;杉本公德;小林智也 - 昭和电工株式会社
  • 2016-12-14 - 2019-05-03 - G11B5/73
  • 一种磁记录介质用基底,包括:衬底,其由铝合金制成;以及膜,其由NiP基合金制成并设置在所述衬底上,其中,所述衬底的铝合金含有0.2质量%~6质量%范围内的Mg、3质量%~17质量%范围内的Si、0.05质量%~2质量%范围内的Zn、及0.001质量%~1质量%范围内的Sr,所述衬底的合金结构中的Si颗粒的平均粒径为2μm以下,所述膜具有10μm以上厚度,所述衬底具有53mm以上的外径、0.9mm以下的厚度、及79GPa以上的杨氏模量。
  • 记录介质基底
  • [发明专利]铝合金挤压材料-CN201680042816.8在审
  • 加藤良知;村濑功 - 昭和电工株式会社
  • 2016-09-07 - 2018-03-27 - C22C21/10
  • 本发明提供一种优秀的铝合金挤压材料,通过对其进行切削加工并实施阳极氧化处理,能够制造确保高的强度并且外观性优异的壳体。本发明的铝合金挤压材料,合金组成中含有Zn5.8质量%~8.0质量%、Mg1.2质量%~2.0质量%、Cu0.4质量%~1.2质量%、Si0.20质量%以下、Fe0.20质量%以下、Ti0.01质量%~0.1质量%,Mn、Cr和Zr的总量限制为0.10质量%以下,余量由Al和不可避免的杂质构成,并且整个截面由再结晶组织构成。
  • 铝合金挤压材料

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