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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]树脂膜的制造方法、以及相位差膜及其制造方法-CN202080014739.1有效
发明人： 村上俊秀 -专利权人：日本瑞翁株式会社
申请日： 2020-02-17 - 公布日： 2023-06-02 - 主分类号： G02B1/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种树脂膜的制造方法，在树脂膜的制造方法中，适当地控制升温工序中的拉伸膜的升温，所述树脂膜的制造方法包括以下工序：准备工序，准备原料膜；拉伸工序，将原料膜以规定的表面拉伸倍率进行拉伸而得到拉伸膜；升温工序，将拉伸膜的温度升高；以及热固定工序，将拉伸膜的温度保持在规定范围。
树脂制造方法以及相位差及其

[发明专利]树脂膜、阻隔膜和导电性膜、以及它们的制造方法-CN202210994462.4在审
发明人： 村上俊秀;山田圣;井伊泰规 -专利权人：日本瑞翁株式会社
申请日： 2015-10-09 - 公布日： 2022-11-22 - 主分类号： C08J5/18 文献下载
摘要：本发明提供一种高温环境下的尺寸稳定性优异的树脂膜。一种树脂膜，由包含具有结晶性的含有脂环式结构的聚合物的树脂形成，在150℃加热了1小时的情况下的热尺寸变化率的绝对值在膜面内的任意的方向上为1％以下。含有脂环式结构的聚合物优选为双环戊二烯的开环聚合物的氢化物。本发明还提供一种树脂膜的制造方法，其包含一边维持结晶膜平坦、一边缓和结晶膜的张紧的工序。
树脂阻隔导电性以及它们制造方法

[发明专利]树脂膜、阻隔膜和导电性膜、以及它们的制造方法-CN202210995845.3在审
发明人： 村上俊秀;山田圣;井伊泰规 -专利权人：日本瑞翁株式会社
申请日： 2015-10-09 - 公布日： 2022-11-01 - 主分类号： C08J5/18 文献下载
摘要：本发明提供一种高温环境下的尺寸稳定性优异的树脂膜。一种树脂膜，由包含具有结晶性的含有脂环式结构的聚合物的树脂形成，在150℃加热了1小时的情况下的热尺寸变化率的绝对值在膜面内的任意的方向上为1％以下。含有脂环式结构的聚合物优选为双环戊二烯的开环聚合物的氢化物。本发明还提供一种树脂膜的制造方法，其包含一边维持结晶膜平坦、一边缓和结晶膜的张紧的工序。
树脂阻隔导电性以及它们制造方法

[发明专利]树脂膜、隔离膜及导电性膜以及它们的制造方法-CN201780056721.6有效
发明人： 村上俊秀 -专利权人：日本瑞翁株式会社
申请日： 2017-09-25 - 公布日： 2021-06-08 - 主分类号： C08J5/18 文献下载
摘要：本发明提供一种树脂膜，由包含聚合物的树脂形成，上述聚合物含有脂环式结构且具有结晶性，上述聚合物的晶化度为30％以上，并且，上述树脂膜的由式(1)表示的厚度不均Tv为5％以下。其中，上述式(1)为Tv[％]＝[(Tmax‑Tmin)/Tave]×100，该式(1)中，Tmax为上述树脂膜的厚度的最大值，Tmin为上述树脂膜的厚度的最小值，并且Tave为上述树脂膜的厚度的平均值。
树脂隔离导电性以及它们制造方法

[发明专利]相位差膜及其制造方法-CN201680058906.6有效
发明人： 村上俊秀 -专利权人：日本瑞翁株式会社
申请日： 2016-10-13 - 公布日： 2021-02-02 - 主分类号： G02B5/30 文献下载
摘要：本发明涉及相位差膜及其制造方法，上述相位差膜由包含具有结晶性的聚合物的树脂形成，NZ系数小于1，上述制造方法包含以下工序：贴合工序，其为在第1膜的一面或两面贴合第2膜而得到第3膜的工序，上述第1膜由包含具有结晶性的聚合物、玻璃化转变温度为Tg(℃)、熔点为Tm(℃)的树脂形成，上述第2膜的(Tg+30)℃时的至少一个方向的收缩率为5～50％；收缩工序，将上述第3膜加热到Tg℃～(Tg+30)℃，使其沿着至少一个方向收缩，使其面积收缩5～50％而得到第4膜；以及二次加热工序，将上述第4膜加热到(Tg+50)℃～(Tm‑40)℃。
相位差及其制造方法

[发明专利]有机电致发光显示装置用的多层膜以及包含其的偏振片、防反射膜和有机电致发光显示装置-CN201880019491.0在审
发明人：与田健治;村上俊秀;菊川贤 -专利权人：日本瑞翁株式会社
申请日： 2018-03-19 - 公布日： 2019-11-12 - 主分类号： H05B33/02 文献下载
摘要：一种有机电致发光显示装置用的多层膜，其具备：包含结晶性聚合物的至少一层的基材层、阻隔层和导电层，上述阻隔层和上述导电层中的至少一者与上述基材层直接相接。
有机电致发光显示装置多层膜基材层阻隔层结晶性聚合物导电层中防反射膜导电层偏振片

[发明专利]显示装置-CN201880004902.9在审
发明人：桥本弘昌;三浦拓也;村上俊秀 -专利权人：日本瑞翁株式会社
申请日： 2018-01-29 - 公布日： 2019-07-23 - 主分类号： G02B5/30 文献下载
摘要：本发明涉及一种显示装置，依次具有起偏器保护膜、起偏器、相位差膜和显示元件，上述起偏器保护膜包含基材，上述基材包含激光吸收剂且能够作为λ/4波片而发挥功能，上述相位差膜的波长550nm时的面内延迟量Re(550)为90nm～150nm。
起偏器显示装置相位差膜保护膜基材激光吸收剂面内延迟显示元件波长波片

[发明专利]导电性膜及其制造方法-CN201780038948.8在审
发明人： 村上俊秀 -专利权人：日本瑞翁株式会社
申请日： 2017-07-14 - 公布日： 2019-03-01 - 主分类号： B32B27/32 文献下载
摘要：一种导电性膜，为具有基材膜和设置在上述基材膜上的有机导电层的导电性膜，上述基材膜由树脂形成，上述树脂包含具有结晶性的含有脂环式结构的聚合物，上述基材膜的厚度为5μm以上且50μm以下，上述具有结晶性的含有脂环式结构的聚合物的晶化度为30％以上。上述具有结晶性的含有脂环式结构的聚合物优选为双环戊二烯的开环聚合物的加氢物。
基材膜脂环式结构导电性膜结晶性聚合物树脂聚合物优选开环聚合物双环戊二烯有机导电层加氢物晶化度制造

[发明专利]树脂膜、阻隔膜和导电性膜、以及它们的制造方法-CN201580057037.0在审
发明人： 村上俊秀;山田圣;井伊泰规 -专利权人：日本瑞翁株式会社
申请日： 2015-10-09 - 公布日： 2017-08-18 - 主分类号： C08J5/18 文献下载
摘要：本发明提供一种高温环境下的尺寸稳定性优异的树脂膜。一种树脂膜，由包含具有结晶性的含有脂环式结构的聚合物的树脂形成，在150℃加热了1小时的情况下的热尺寸变化率的绝对值在膜面内的任意的方向上为1％以下。含有脂环式结构的聚合物优选为双环戊二烯的开环聚合物的氢化物。本发明还提供一种树脂膜的制造方法，其包含一边维持结晶膜平坦、一边缓和结晶膜的张紧的工序。
树脂阻隔导电性以及它们制造方法

[发明专利]栅格起偏镜及其制法-CN200680026794.2无效
发明人： 村上俊秀;涩谷明庆 -专利权人：日本瑞翁株式会社
申请日： 2006-07-24 - 公布日： 2008-07-23 - 主分类号： G02B5/30 文献下载
摘要：本发明涉及一种栅格起偏镜，其包括包含透明材料的第1层、包含透明材料的第3层以及位于第1层和第3层之间的第2层；第2层，其包括细长线状延伸的多个A层和细长线状延伸的多个B层，这些A层和B层被交替并列配置，所述A层包含双折射率(N＝n－iκ)的实部n和虚部κ之差的绝对值为1.0以上的材料，所述B层包含气体；第3层，其通过包含与无机材料结合的反应基团和与有机材料结合的反应基团的化合物与A层结合、或包含透明的无机氧化物或无机氮化物、或包含多孔性物质。
栅格起偏镜及其制法

[发明专利]栅格偏振膜、栅格偏振膜的制造方法、光学叠层体、光学叠层体的制造方法和液晶显示装置-CN200680018662.5无效
发明人：上岛贡;村上俊秀;涩谷明庆;藤田惠美;林昌彦;荒川公平 -专利权人：日本瑞翁株式会社
申请日： 2006-05-29 - 公布日： 2008-05-21 - 主分类号： G02B5/30 文献下载
摘要：本发明提供一种长带状的栅格偏振膜，其包括：长带状的树脂膜和设置在该树脂膜的表面和/或内部的相互大致平行延伸的多条栅格线，该栅格线由双折射率(N₁＝n₁－iκ₁)的实部n₁和虚部κ₁之差的绝对值为1.0以上的材料G构成，上述树脂膜的表面上形成相互大致平行延伸的多条沟槽，上述栅格线由叠层在沟槽的底面上和/或位于相邻沟槽间的垄的顶面上的材料G的薄膜构成。还提供一种包含该长带状栅格偏振膜和其他长带状偏振光学膜的长带状光学叠层体。
栅格偏振制造方法光学叠层体液晶显示装置

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