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[发明专利]用于CVD设备的控温系统和半导体工艺设备-CN202310920973.6在审
发明人： 李钦波;蒲泽鼐 -专利权人：拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司
申请日： 2023-07-25 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： C23C16/52 文献下载
摘要：本发明的实施例提供了一种用于CVD设备的控温系统和半导体工艺设备，涉及半导体技术领域。用于CVD设备的控温系统包括供水设备、供水管路、回水管路和流量控制阀。供水设备具有一出口和进口。供水管路的一端与出口连接，另一端与换热流道的进液口连接，以输送换热介质。回水管路的一端与进口连接，另一端与换热流道的出液口连接，以将换热介质回收至供水设备。流量控制阀设置于回水管路，以调整流量。其能够实现稳定的控温。
用于 cvd 设备系统半导体工艺设备

[实用新型]一种新型钻孔灌注桩垂直度检测装置-CN202320575754.4有效
发明人：朱宽;胡海经;李钦波;徐小博;代国斌;倪维 -专利权人：中国机械工业第二建设工程有限公司
申请日： 2023-03-22 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： E02D33/00 文献下载
摘要：本实用新型实施例公开了一种新型钻孔灌注桩垂直度检测装置，所述调节机构包括设置在固定杆的空腔内用于对测试环进行调节的调节装置，所述调节装置的右侧设置有用于驱动调节装置对测试环进行调节的锥齿轮三，所述锥齿轮三的顶端中部插接有用于驱动锥齿轮三进行转动的传动轴。在对桩孔进行垂直度检测时，只需要观察位于测试盘上的三个测量杆的位置是否发生，来判断桩孔的垂直度。而对不同桩孔进行垂直度检测时，只需要通过转动旋转手柄，使传动轴带动锥齿轮三进行转动，从而在锥齿轮三与锥齿轮四的啮合作用下，使三个呈圆周的螺杆进行转动，进而可带动测量环进行移动，从而可将测量环根据桩孔的直径进行调整，从而可满足不同直径的桩孔的使用。
一种新型钻孔灌注垂直检测装置

[实用新型]一种反应腔室的进气结构和HDP机台的反应腔室-CN202321073237.3有效
发明人：姜宏亮;李钦波;杨晓楠;战勇 -专利权人：拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司
申请日： 2023-05-06 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本申请提供一种反应腔室的进气结构和HDP机台的反应腔室，涉及半导体设备技术领域，包括：进气部件，进气部件上分别设置有用于向反应腔室通入第一气体的第一气道，以及用于向反应腔室通入第二气体的第二气道，第一气道和第二气道分别和反应腔室连通，第一气道用于使第一气体一次匀气后均匀进入反应腔室。应用于HDP机台的反应腔清洗操作时，第一气体通过第一气道均匀地进入反应腔室，提高了第一气体在反应腔室内的均匀性，进而改善了第一气体在晶圆上的膜厚分布，使得晶圆具有更均匀的膜厚；同时由于均匀进气，缩短了清洗操作的时长，提高整个HDP机台的产能。
一种反应结构 hdp 机台

[实用新型]一种进气结构及气相沉积设备-CN202321082166.3有效
发明人：战勇;杨晓楠;姜宏亮;李钦波 -专利权人：拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司
申请日： 2023-05-06 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：一种进气结构及气相沉积设备，涉及气相沉积技术领域。该进气结构，包括进气主体、第一密封条和第二密封条，进气主体具有相对设置的两个加工端面，两个加工端面分别用于在进气主体内加工匀气槽和出气槽，第一密封条将匀气槽的槽口密封以形成匀气道，第二密封条将出气槽的槽口密封以形成出气道，匀气道和出气道的底部通过连接孔连通。该进气结构的匀气道和出气道的底部通过连接孔连通，对应的加工方式仅在匀气槽和出气槽之间形成了加工孔，待第一密封条和第二密封条将匀气槽和出气槽密封后，无需在进气主体的其他部位进行堵焊以确保匀气道和出气槽的密封性，也不会因虚焊而产生漏孔。因此，该进气结构具有较高的气密性和较低的加工成本。
一种结构沉积设备

[实用新型]一种外墙保温防渗水结构-CN202321075317.2有效
发明人：吴彦龙;朱宽;薛凡;郭冬;江鸣;岑文;代国斌;李钦波;舒磊 -专利权人：中国机械工业第二建设工程有限公司
申请日： 2023-05-08 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： E04B1/68 文献下载
摘要：本实用新型提供一种外墙保温防渗水结构，包括保温防渗水板，还包括位于两个保温防渗水板之间的防渗压条，该防渗压条和两个所述保温防渗水板相邻端正面接触，所述防渗压条背面设置有保温填充条，该保温填充条和防渗压条之间设置有密封胶条，所述防渗压条、保温填充条和密封胶条一侧均贯穿开设有沿着长度方向分布的螺栓连接孔，该螺栓连接孔上串接有膨胀螺栓。本实用新型具有提高保温防渗水板拼接时防水密封性的优点，而且防水密封的可靠度更高。
一种外墙保温渗水结构

[发明专利]晶圆托盘的保护装置、薄膜沉积装置及反应腔的清洗方法-CN202310554999.3在审
发明人： 李钦波;杨晓楠 -专利权人：拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司
申请日： 2023-05-17 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：本发明公开了一种晶圆托盘的保护装置、薄膜沉积装置，以及一种反应腔的清洗方法。该保护装置包括：传片盒，连接薄膜沉积装置的反应腔的外部入口，其内部存放保护晶圆；以及所述保护晶圆，在所述反应腔完成薄膜沉积工作并进行清洗操作之前，被所述传片盒送入所述反应腔，并覆盖其内部的晶圆托盘的上表面，以隔离所述晶圆托盘与其上方的等离子清洗区域。通过本发明提供的晶圆托盘的保护装置，能够结合反应腔内等离子场的分布，在反应腔进行清洗工作之前，对晶圆托盘进行物理保护，以避免晶圆托盘表面接触等离子体，从而延长其使用寿命。
托盘保护装置薄膜沉积装置反应清洗方法

[发明专利]薄膜沉积设备及其喷嘴规格的确定方法和划分工装-CN202310559156.2在审
发明人：杨晓楠;李钦波;姜宏亮;战勇 -专利权人：拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司
申请日： 2023-05-17 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明公开了一种薄膜沉积设备的喷嘴规格的确定方法和划分工装，以及一种薄膜沉积设备。该确定方法包括以下步骤：确定该薄膜沉积设备的多条并联支路中的至少一条参考支路上的标准流量，其中，该参考支路上设有标准喷嘴；确定该多条并联支路中的至少一条待测支路上的实际流量，其中，该待测支路上设有待测喷嘴；以及根据该标准喷嘴的标准口径，以及该标准流量和该实际流量的比值，确定该待测喷嘴的实际口径。通过执行这些步骤，该方法能够更为精准地检测出薄膜沉积设备腔体所需的侧喷嘴的小口径的规格，不仅提高了检测精度，减小了加工尺寸误差，还能更好地模拟工艺环境，对小口径的喷嘴的规格划分更加详细，提高了工艺调整的效率。
薄膜沉积设备及其喷嘴规格确定方法划分工装

[发明专利]反应腔的开腔机构、反应腔系统和半导体器件的加工装置-CN202211685302.8在审
发明人：谈太德;李钦波;孙晓波 -专利权人：拓荆科技股份有限公司
申请日： 2022-12-27 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： C23C16/50 文献下载
摘要：本发明公开了一种反应腔的开腔机构、一种反应腔系统和一种半导体器件的加工装置。该开腔机构包括：至少一个升降机构，其底座连接该反应腔的侧面，其上部活动端连接该反应腔的腔盖，用于带动该腔盖进行上升及下降；以及机械限位装置，其底部设置于该升降机构的底座，其顶部在该腔盖上升到达行程上限时，抵接该腔盖的下表面以支撑该腔盖。通过采用上述配置，本发明能够防止腔盖突然坠落的风险。
反应开腔机构系统半导体器件加工装置

[发明专利]具有聚焦环的下电极组件及半导体沉淀设备-CN202211532044.X在审
发明人：贾时;谈太德;杨辰烨;李钦波;杨晓楠;冯鹏 -专利权人：拓荆科技股份有限公司
申请日： 2022-12-01 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供了一种具有聚焦环的下电极组件和半导体沉淀设备，涉及半导体器件制作的技术领域，包括下电极主体和聚焦环；聚焦环沿着下电极主体的圆周边缘环形布置，且聚焦环与下电极主体的侧壁配合连接，聚焦环用于平衡下电极主体的表面高度，以平衡下电极主体与晶圆的高度配合；根据下电极主体的环形设计聚焦环的形状，利用聚焦环直接与下电极主体的侧壁装配连接，通过聚焦环能够控制晶圆边缘的等离子体场的基础上，减少了装配过程中的公差叠加，保证了聚焦环与下电极主体的间隙公差范围，缓解了现有技术中存在的聚焦环装配公差叠加造成高度差不可控，易导致晶圆背面冷却氦气的泄漏，下电极表面以及晶圆背面会沉积反应生成物的技术问题。
具有聚焦电极组件半导体沉淀设备

[实用新型]等离子体处理装置及HDP-CVD设备-CN202223120488.0有效
发明人：杨晓楠;张亚新;冯鹏;孙鸿智;郭东;李钦波 -专利权人：拓荆科技股份有限公司
申请日： 2022-11-23 - 公布日： 2023-02-28 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本申请涉及半导体技术领域，尤其涉及一种等离子体处理装置及HDP‑CVD设备。该等离子体处理装置包括静电吸盘和聚焦环结构，静电吸盘的上方为与其同轴设置的晶圆设置区，用于放置晶圆，晶圆设置区的外周部突出于静电吸盘的外周侧壁设置；聚焦环结构包括第一环体部和突出于第一环体部的上表面的突出部，突出部环绕晶圆设置区的外周部设置，第一环体部环绕静电吸盘的外周侧壁设置，晶圆设置区的外周部的底面和第一环体部的上表面之间留有第一空隙。该等离子体处理装置及HDP‑CVD设备解决了漏电流过大和可能造成晶圆和静电吸盘被击穿的技术问题。
等离子体处理装置 hdp cvd 设备

[发明专利]一种真空管路结构及半导体镀膜设备-CN202211433235.0在审
发明人： 李钦波;孙鸿智;姜宏亮 -专利权人：拓荆科技股份有限公司
申请日： 2022-11-16 - 公布日： 2023-02-24 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本发明涉及半导体设备加工技术领域，具体涉及一种真空管路结构及半导体镀膜设备。本发明提供的一种真空管路结构，包括第一管道、高真空隔离阀、分子泵、分支管道、粗抽管道和真空规；所述第一管道、所述高真空隔离阀、所述分子泵、所述分支管道和所述粗抽管道首尾依次相连；所述分支管道上安装有前级隔离阀；所述粗抽管路上安装有电磁阀和低真空隔离阀，所述低真空隔离阀安装于粗抽管路上靠近所述第一管道的一端，所述分支管道与所述粗抽管路的连接处位于所述电磁阀和所述低真空隔离阀之间。能够及时掌握高真空管路、反应腔、分支管道和粗抽管路的泄露情况，避免因发生泄漏而污染管路系统及腔体。
一种真空管路结构半导体镀膜设备

[发明专利]气相沉积设备的温控系统、温度控制方法及存储介质-CN202211287310.7在审
发明人： 李钦波;贾时 -专利权人：拓荆科技股份有限公司
申请日： 2022-10-20 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： G05D23/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种气相沉积设备的温控系统、一种气相沉积设备的温度控制方法，以及一种计算机可读存储介质。该气相沉积设备的温控系统包括：至少一个光纤探头，其末端设有感温材料，并接触所述气相沉积设备的外壁的至少一个检测点，其中，所述感温材料在光源的作用下，根据所处温度发出对应衰减时间常数的荧光；光纤，其第一端连接所述光纤探头，而其第二端连接处理器；以及所述处理器，被配置为：经由所述光纤向所述光纤探头提供光源；经由所述光纤从所述光纤探头获取返回的荧光；以及根据所述荧光的衰减时间常数，确定对应检测点的温度。
沉积设备温控系统温度控制方法存储介质

[发明专利]静电吸盘安装拆卸工具-CN202211175099.X在审
发明人：张亚新;冯鹏;谈太德;孙晓波;杨辰烨;李钦波 -专利权人：拓荆科技（北京）有限公司
申请日： 2022-09-26 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： B25B27/00 文献下载
摘要：本发明涉及半导体制造技术领域，更具体的说，涉及一种静电吸盘安装拆卸工具。本发明提出的一种静电吸盘安装拆卸工具，包括：静电吸盘组件取放工装，所述静电吸盘组件取放工装，用于与静电吸盘组件进行紧固连接；数根导向轴，一端与腔体底部连接，所述静电吸盘组件取放工装与静电吸盘组件沿导向轴进入或者取出腔体；数个紧固件，用于将静电吸盘组件取放工装与静电吸盘组件进行紧固连接以及将静电吸盘组件与腔体进行紧固连接。本发明提出的静电吸盘安装拆卸工具，可以实现静电吸盘组件的快速安装与拆卸，一方面对静电吸盘组件的安装和拆卸更为方便、安全、稳定，另一方面可以有效减少静电吸盘组件的维护工时，提高HDP‑CVD设备的维护效率。
静电吸盘安装拆卸工具

[发明专利]真空泵的安装结构、安装方法及半导体器件的加工装置-CN202211175140.3在审
发明人： 李钦波 -专利权人：拓荆科技（北京）有限公司
申请日： 2022-09-26 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： F04B39/00 文献下载
摘要：本发明提供了真空泵的安装结构、安装方法及半导体器件的加工装置。所述安装结构包括固定件及活动件。所述固定件的第一端固定连接反应腔体，而其第二端设有环状凸台，并经由所述环状凸台活动连接活动件的第一端。所述活动件的第一端设有限位环，并经由所述限位环活动连接所述固定件。所述活动件的第二端固定连接真空泵。所述活动件沿所述真空泵的转子的旋转方向上设有弹性件。在所述弹性件于所述固定件的旋转路径上设有限位件。响应于所述真空泵发生旋转，所述真空泵经由所述活动件带动所述弹性件在所述旋转路径上沿所述旋转方向位移，并使所述弹性件接触所述限位件。
真空泵安装结构方法半导体器件加工装置

[实用新型]一种高空悬挑钢结构构件吊装装置-CN202221151083.0有效
发明人： 李钦波;张焱;陈乾;方敏哲;姜震 -专利权人：中国机械工业第二建设工程有限公司
申请日： 2022-05-13 - 公布日： 2022-10-25 - 主分类号： B66C1/14 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种高空悬挑钢结构构件吊装装置，包括平衡梁和吊装机构，所述吊装机构设有四个，四个所述吊装机构均位于平衡梁的下方，所述吊装机构包括第一连接块、丝杆、第二连接块、挂钩和限位块，所述丝杆固定安装在第一连接块的下端面，所述第二连接块的上端面开设有连接孔。本实用新型通过设置丝杆、第二连接块、多个挂钩和限位块，使得该装置可通过限位块对第二连接块的活动范围进行限制，避免第二连接块与丝杆滑丝从丝杆上掉落，第二连接块下端面的四个挂钩使装置可对待吊件进行内挂、外挂、侧挂，可通过转动第二连接块来调整挂钩的高度，从而使挂钩高度的调整更加的简单，调整效率也得到提升。
一种高空钢结构构件吊装装置

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