“李加海”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果215个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]一种耐磨防油保护膜及其制备方法-CN202210892919.0有效
发明人： 李加海;杨惠明 -专利权人：安徽禾臣新材料有限公司
申请日： 2022-07-27 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： C08J7/046 文献下载
摘要：本发明涉及一种耐磨防油保护膜及其制备方法，属于保护膜制备技术领域，包括以下步骤：第一步、将PET薄膜清洗干燥后进行低温等离子体处理，得到基膜；第二步、将含氟超支化聚合物、活性稀释剂、改性硅溶胶和光引发剂超声混合后涂布于基膜上，干燥，固化，得到耐磨防油保护膜；先对基膜进行低温等离子体处理，使基膜表面含氧极性基团增加，提高其表面自由能，进而使其与胶料结合紧密，然后以含氟超支化聚合物为主料代替传统线性聚合物，减少活性稀释剂的用量，避免由于线性聚合物黏度大采用过多稀释剂稀释引起涂膜收缩开裂问题的出现，氟元素的引入也提高了保护膜耐油性能，并且在交联中加入改性硅溶胶，赋予保护膜优异的耐磨性。
一种耐磨保护膜及其制备方法

[发明专利]包含卡莫司他及氯硝柳胺的共晶、包含其的药物组合物及其制备方法-CN202280006162.9在审
发明人：朴映准;崔淑;李加海;卢东贤 -专利权人： IMD制药公司
申请日： 2022-01-28 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： C07C235/64 文献下载
摘要：本发明涉及新型共晶、包含其的药物组合物及其制备方法，利用本发明的共晶可以有效预防和/或治疗癌症、炎症疾病或病毒感染疾病。
包含卡莫司氯硝柳胺药物组合及其制备方法

[发明专利]一种防褶皱断裂的复合型阻尼布及其生产工艺-CN202310839110.6在审
发明人： 李加海;杨惠明;李元祥 -专利权人：安徽禾臣新材料有限公司
申请日： 2023-07-10 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： B32B27/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种防褶皱断裂的复合型阻尼布及其生产工艺，属于阻尼布技术领域，包括阻尼布基层、抗皱弹性层和阻尼布面层，所述抗皱弹性层的上表面连接有阻尼布面层，所述抗皱弹性层的下表面连接有阻尼布基层，所述阻尼布基层和阻尼布面层均与抗皱弹性层之间的间隙处填充有粘接固化剂。本发明解决了现有的阻尼布整体防褶皱性能差，导致阻尼布在长时间使用后，阻尼布易断裂，进而影响阻尼布的正常使用，降低了阻尼布的使用寿命的问题，本发明可有效提升复合型阻尼布的拉伸力和弹性，提升复合型阻尼布的整体防褶皱性能，避免复合型阻尼布在长时间使用后断裂，可充分保障复合型阻尼布的正常使用，提升复合型阻尼布的使用寿命。
一种褶皱断裂复合型阻尼及其生产工艺

[发明专利]一种玻璃显示屏抛光用吸附垫及其制备方法-CN202210272915.2有效
发明人： 李加海;黄国平;梁则兵;杨惠明;李元祥 -专利权人：安徽禾臣新材料有限公司
申请日： 2022-03-18 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： C09J7/29 文献下载
摘要：本发明涉及一种玻璃显示屏抛光用吸附垫的制备方法，属于吸附垫制备技术领域，包括以下步骤：将基布的表面涂覆聚氨酯胶粘剂，放上聚氨酯多孔膜，进行固化处理，然后在聚氨酯多孔膜的表面覆盖保护膜，得到基垫；将基垫远离保护膜的一侧粘贴双面胶，在双面胶的外侧粘贴离型纸，收卷，切割，即得玻璃显示屏抛光用吸附垫；本发明在聚氨酯多孔膜中加入导热填料，增加多孔膜的散热速率和耐磨性，还加入保护剂，该保护剂兼具受阻酚和受阻胺的抗氧化性，能够提高多孔膜的耐老化性，该吸附垫压缩率在37％以上，压缩恢复率在92％以上，吸水量在4.0以下，具有较高的耐溶剂、耐老化和散热性能，使用寿命较长。
一种玻璃显示屏抛光吸附及其制备方法

[发明专利]一种基于石英基板材料的抛光工艺-CN202211159728.X有效
发明人： 李加海;杨慧明;李元祥 -专利权人：安徽禾臣新材料有限公司
申请日： 2022-09-22 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： B24B29/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于石英基板材料的抛光工艺，属于抛光设备技术领域，包括一种抛光装置，抛光装置包括抛光台、可调式抛光机构和隔音遮挡外罩，包括如下步骤：将石英基板材料放置在抛光台上，使隔音遮挡外罩位于可调式抛光机构的外围；可调式抛光机构调整抛光位置，利用可调式抛光机构对石英基板材料进行贴合抛光。为了解决易碰伤操作人员，且污染环境，不能保证抛光轮始终贴合抛光，其抛光效果差的问题，本发明的基于石英基板材料的抛光工艺，避免废料四溅及污染环境，减少操作人员被碰伤事件的发生，减小抛光噪音，利用可调式抛光机构对石英基板材料进行贴合抛光，对于不平整面，抛光轮可适用，其适用范围广，其抛光效果好。
一种基于石英板材抛光工艺

[发明专利]一种玻璃抛光用防水型单面毡绒抛光垫及其生产工艺-CN202310781147.8在审
发明人： 李加海;杨惠明;孙传东 -专利权人：安徽禾臣新材料有限公司
申请日： 2023-06-29 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： B24D13/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种玻璃抛光用防水型单面毡绒抛光垫及其生产工艺，属于。本发明的一种玻璃抛光用防水型单面毡绒抛光垫，包括基底层、防水层和抛光层，所述防水层设置有弧面顶和下围圈，弧面顶的下端与下围圈的上端一体成型，下围圈内设置有基底层，弧面顶的上表面与抛光层固定连接，抛光层包括无纺布基层和植绒层。本发明解决了现有基垫磨损较快，使用寿命短的问题，本发明提出的一种玻璃抛光用防水型单面毡绒抛光垫及其生产工艺，植绒层设置在无纺布基层远离防水层的一侧，植绒层的间隙较大，采用浸渍的方式使得无纺布基层和植绒层能够粘附较多的磨料胶粘剂，提高了抛光垫的硬度，降低了抛光垫的磨损。
一种玻璃抛光防水单面及其生产工艺

[发明专利]一种光学元件表面抛光用阻尼布及其生产工艺-CN202310929520.X在审
发明人： 李加海;杨惠明;李元祥 -专利权人：安徽禾臣新材料有限公司
申请日： 2023-07-27 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： B24D11/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种光学元件表面抛光用阻尼布及其生产工艺，属于阻尼布技术领域，包括底基层、支撑加强层及磨料层，所述支撑加强层的上端嵌在磨料层内，且支撑加强层通过热熔胶层连接磨料层，所述支撑加强层的下端嵌在底基层内，且支撑加强层通过热熔胶层连接底基层。本发明解决了现有的阻尼布，在长时间抛光使用时，其耐磨性差，易断裂，导致阻尼布的使用寿命低下的问题，本发明通过在底基层和磨料层之间增加由上支撑层、下支撑层和加强筋层组成的支撑加强层，可提升阻尼布的整体抛光强度及耐磨性，避免阻尼布长时间抛光使用而导致的断裂，可充分保障阻尼布的正常使用，可延长阻尼布的使用寿命。
一种光学元件表面抛光阻尼及其生产工艺

[实用新型]一种抛光用防刮痕的无蜡垫-CN202321162082.0有效
发明人： 李加海;杨惠明;李元祥 -专利权人：安徽禾臣新材料有限公司
申请日： 2023-05-15 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： B24D11/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种抛光用防刮痕的无蜡垫，属于无蜡垫技术领域。本实用新型的一种抛光用防刮痕的无蜡垫，包括基垫和抛光垫，所述抛光垫包括抛光层、牵引绳、中心支撑柱和调节螺柱，抛光层的边缘等距离的固定连接有牵引绳，牵引绳的一端共同连接有中心支撑柱，中心支撑柱的下端与调节螺柱啮合。本实用新型的一种抛光用防刮痕的无蜡垫，将无蜡垫分为基垫和抛光垫，抛光垫包括抛光层、牵引绳、中心支撑柱和调节螺柱，抛光层通过牵引绳的拉伸，整体平整，牵引绳暗藏在牵引孔内，在抛光层出现松弛时，通过中心支撑柱带动牵引绳收紧，将抛光层拉紧，始终保持抛光层表面平整，防止出现刮痕。
一种抛光刮痕无蜡垫

[发明专利]一种显示屏抛光用高拉伸性白垫及其生产工艺-CN202310283570.5在审
发明人： 李加海;杨惠明;李元祥 -专利权人：安徽禾臣新材料有限公司
申请日： 2023-03-22 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： B24D11/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种显示屏抛光用高拉伸性白垫及其生产工艺，属于抛光垫技术领域。本发明的一种显示屏抛光用高拉伸性白垫，包括基层、吸附层和抛光层，所述吸附层包括支撑网状构件、吸附主体和滤网层，支撑网状构件与基层粘接，支撑网状构件之间填充有吸附主体，滤网层的上表面设置有抛光层。本发明解决了现有白垫的拉伸性较低的问题，本发明提出的一种显示屏抛光用高拉伸性白垫及其生产工艺，在吸附层上设置支撑网状构件，支撑网状构件的网孔形状为菱形状，提高了支撑网状构件的拉伸性，同时吸附主体内设置有气孔，增加了白垫的拉伸性，同时支撑网状构件的纵向结构不被压制变形，降低了白垫的压缩率，避免边角处过高。
一种显示屏抛光拉伸性白垫及其生产工艺

[发明专利]一种高精度石英基板镀膜及其生产工艺-CN202211013170.4有效
发明人： 李加海;杨慧明;李元祥 -专利权人：安徽禾臣新材料有限公司
申请日： 2022-08-23 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种高精度石英基板镀膜及其生产工艺，属于石英基板镀膜技术领域。本发明的一种高精度石英基板镀膜及其生产工艺，所述镀膜设置为双层结构，分别为表层的氮化铬镀层以及底层的离型复合镀层。为解决现有技术中的光掩膜所需的石英基材在长时间使用的过程中会受到蚀刻液的影响，从而导致其表面出现磨损情况，一旦基材出现磨损，整个掩膜版结构便无法再投入使用的问题，离型复合镀层是由纯铬和低晶聚四氟乙烯涂层组合而成，聚四氟乙烯涂层可以对石英基材起到一个保护的作用，避免在后续蚀刻的过程中液体对基材的表面造成腐蚀，去除低晶聚四氟乙烯涂层时，只需将基材放入到加热箱中加热便可以直接分解成气体，从而实现无伤脱模的操作。
一种高精度石英镀膜及其生产工艺

[发明专利]一种用于晶体抛光的多孔阻尼布及其制备工艺-CN202210554778.1有效
发明人： 李加海;杨慧明;李元祥 -专利权人：安徽禾臣新材料有限公司
申请日： 2022-05-20 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： B32B27/38 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于晶体抛光的多孔阻尼布及其制备工艺，属于晶体抛光技术领域，包括阻尼布面层、热熔胶粘接层和阻尼布基层，所述阻尼布面层的底部设置有热熔胶粘接层，所述热熔胶粘接层的底部设置有阻尼布基层，所述阻尼布面层上设置有均匀分布的抛光微孔，抛光微孔的直径为30‑38μm。为了解决硬度和耐磨性差且使用寿命低下的问题，本发明的用于晶体抛光的多孔阻尼布及其制备工艺，采用环氧树脂、聚四氟乙烯、石墨、Cr、分散剂和催化剂制备阻尼布面层，且将阻尼布面层、热熔胶粘接层和阻尼布基层热压制得多孔阻尼布，采用该种方式制备的多孔阻尼布可提高多孔阻尼布的硬度及耐磨性，提升抛光效果，延长多孔阻尼布的使用寿命。
一种用于晶体抛光多孔阻尼及其制备工艺

[发明专利]抛光用带有底部缓冲保护层的缓冲阻尼布及其制备工艺-CN202310669649.1在审
发明人： 李加海;杨惠明;孙传东 -专利权人：安徽禾臣新材料有限公司
申请日： 2023-06-07 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： B32B27/40 文献下载
摘要：本发明公开了抛光用带有底部缓冲保护层的缓冲阻尼布及其制备工艺，属于阻尼布技术领域。本发明的抛光用带有底部缓冲保护层的缓冲阻尼布，包括基底缓冲层、热熔胶层和抛光面层，所述基底缓冲层通过热熔胶层与抛光面层粘接，基底缓冲层包括第一弹性层、第二弹性层、第一织物层、第二织物层和第三织物层。本发明解决了现有不同的弹性垫聚氨酯多孔吸附垫弹性差异较大，本发明提出的抛光用带有底部缓冲保护层的缓冲阻尼布，棕榈纤维单丝绞制成螺旋绳，获得卷曲的棕榈纤维，再由天然橡胶混合黏合，黏合后的纤维网在纤维相交处形成弹性节点，提高了棕榈纤维的弹性，增强了基底缓冲层的抗压和抗拉能力，从而起到缓冲保护作用。
抛光带有底部缓冲保护层阻尼及其制备工艺

[发明专利]高通量立式管式炉-CN202310510689.1在审
发明人：王双宝;李加海;刘子杰;何家宜;梁庭斌;张荣显;杨智超;郑德辉;王红;王振;陈馨健;朱静 -专利权人：云南大学
申请日： 2023-05-08 - 公布日： 2023-09-01 - 主分类号： C21D9/00 文献下载
摘要：本发明公开了高通量立式管式炉，涉及金属材料热处理技术领域，包括支架以及炉体和温度控制器，并列设置在炉体上且位于两个所述炉膛内的多个炉管放置腔，分别对应设置于炉管放置腔内且通过炉管固定环进行固定的多个炉管，炉管的外侧还设置有保温隔热组件，且炉管的内侧还设置有样品承载组件；本设计在炉体上设计不同温区，可以对多个样品一次进行不同加热温度和时间的热处理，从而可以提高实验效率，通过保温隔热组件以及绝热炉管塞的配合使用，可以对同一温度不同时间热处理的样品取样时，炉管温度波动较小，提高实验温度的准确性，并且可以防止不同炉管之间的温度相互影响，本设计，结构简单，操作便捷。
通量立式管式炉

[发明专利]一种蓝玻璃精磨用的阻尼布及其制备工艺-CN202310448771.6在审
发明人： 李加海;杨惠明;李元祥 -专利权人：安徽禾臣新材料有限公司
申请日： 2023-04-24 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： B24D11/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种蓝玻璃精磨用的阻尼布及其制备工艺，属于阻尼布制备技术领域，包括从上至下依次设置的阻尼布基材层、胶层和磨料层，制备工艺如下：将阻尼布基材表面涂覆聚氨酯乳液，在温度100‑120℃下干燥30‑60min，之后采用静电植砂法将表面处理耐磨粒子植入到胶层上，得到半成品阻尼布，将半成品阻尼布置于干燥箱中，55‑60℃预干20‑30min，再升温至80‑85℃干燥60‑80min，即得所述蓝玻璃精磨用的阻尼布，本发明通过对增强胶层韧性以及提高磨粒与胶层的粘接性，得到了品质优良的阻尼布，适用于蓝玻璃的精抛。
一种玻璃精磨用阻尼及其制备工艺

[发明专利]一种用于抛光的多孔高弹缓冲阻尼布及其制备工艺-CN202310632628.2在审
发明人： 李加海;杨惠明;孙传东 -专利权人：安徽禾臣新材料有限公司
申请日： 2023-05-31 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： B24D11/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于抛光的多孔高弹缓冲阻尼布及其制备工艺，属于用于阻尼布技术领域。本发明的一种用于抛光的多孔高弹缓冲阻尼布及其制备工艺，包括尼布基材层、热熔胶层、EVA海绵层、长毛绒圈层以及阻尼布面布层，阻尼布面布层、阻尼布基材层、EVA海绵层、长毛绒圈层从上至下依次设置，其中，热熔胶层设置在阻尼布面布层、阻尼布基材层、EVA海绵层和长毛绒圈层之间用于连接。本发明解决了现有的问题，本发明由高密度海绵以及低密封海绵两者装配时，凹凸的连接处，可以能够最大程度的抵抗旋转的扭矩，避免阻尼布在使用过程中产生分离的问题。能够起到较好的过滤抛光屑的目的，将抛光屑留在海绵层，避免划伤工件。
一种用于抛光多孔缓冲阻尼及其制备工艺

1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
12
13
14
15
下一页»
尾页
共 215 条