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[发明专利]一种降解泥水体系中双酚A的方法-CN202211348515.1在审
发明人：张轶;陈昕炜;王国琴;朱霞月;朱彬彬;王润;王蔓;丛燕青 -专利权人：浙江工商大学
申请日： 2022-10-31 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： C02F1/461 文献下载
摘要：本申请公开一种降解泥水体系中双酚A的方法，在电动‑光催化联合降解装置中进行，电动‑光催化联合降解装置包括反应器和光源；反应器内由滤膜分隔为阳极储层、反应室和阴极储层，反应室位于阳极储层和阴极储层之间，阳极储层内插入电极阳极，阴极储层内插入电极阴极，电极阳极和电极阴极分别连接电源的正负极；光源向阳极储层内发送模拟太阳光；分别向阳极储层和阴极储层内加入Na2SO4以及模拟海水溶液，向反应室内加入待处理的泥水混合物，打开光源和电源，降解泥水混合物中的双酚A，降解过程中保持泥水混合物的震荡或搅拌。本申请将电动过程与光电催化结合，协同降解泥水体系中的双酚A，在较短时间内取得了较好的降解效果。
一种降解泥水体系中双酚方法

[发明专利]一种感光覆盖膜组合物及应用-CN201811018276.7有效
发明人： 朱霞月;李志强;李伟杰;周光大 -专利权人：浙江福斯特新材料研究院有限公司
申请日： 2018-09-03 - 公布日： 2022-03-15 - 主分类号： G03F7/032 文献下载
摘要：本发明公开了一种感光覆盖膜组合物及应用，所述感光覆盖膜组合物包括40‑70重量份树脂粘结剂、25‑50重量份光聚合性组合物、1‑10重量份光引发剂以及1‑3重量份添加剂；其中，所述树脂粘结剂由15‑50wt％的含有环氧结构的树脂粘结剂和50‑85wt％的(甲基)丙烯酸类碱可溶性树脂粘结剂组成。与传统的油墨以及聚酰亚胺类感光覆盖膜相比，本发明具有弱碱性水溶液显影、原材料易得以及薄膜直接贴合的特点，因此，具有环境友好、降低成本、操作方便的优点。
一种感光覆盖组合应用

[发明专利]一种激光直接成像正性感光水溶性阻焊干膜及用途-CN201711451158.0有效
发明人： 朱霞月;李伟杰;严晓慧;李志强;周光大 -专利权人：杭州福斯特电子材料有限公司
申请日： 2017-12-27 - 公布日： 2021-08-24 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明公开了一种激光直接成像正性感光水溶性阻焊干膜及用途，该感光水溶性阻焊干膜主要由树脂粘结剂、光酸生成剂、增塑剂、热固化粘合剂、热固化粘合催化剂、高低沸点溶剂和添加剂组成。本发明的激光直接成像正性阻焊干膜具备较高的分辨率、粘附力、柔韧性和耐高温的性质，具备传统感光干膜的图形转移作用同时有阻焊作用，其使用方法是经过一次贴膜，三次曝光，以及热固化，从而完成线路板的图像转移、阻焊和线路终端保护的所有流程。该干膜可采用激光直接成像的方式进行二次图像转移，具备高的对位精度，可降低重复性缺陷，提高生产合格率，降低成本。
一种激光直接成像性感水溶性阻焊干膜用途

[发明专利]树脂组合物、混合物、干膜抗蚀剂及相应的元件-CN202010686590.3有效
发明人：韩传龙;李伟杰;朱霞月;朱薛妍;严晓慧;周光大 -专利权人：福斯特（安吉）新材料有限公司
申请日： 2020-07-16 - 公布日： 2021-06-25 - 主分类号： G03F7/027 文献下载
摘要：本发明涉及一种树脂组合物、混合物、干膜抗蚀剂及相应的元件，属于电路印刷元件的制备技术领域。树脂组合物，包含有如下重量份的原料：粘合剂聚合物，50~70份；光聚合单体，10~50份；光引发剂，0.5~5.0份；消泡剂，0.1~5.0份；其中，光聚合单体中包含有通式（Ⅰ）所示的化合物，消泡剂中包含有通式（Ⅱ）所示的化合物。该树脂组合物具有优异的柔韧性、耐化学性和耐电镀性能，并且显影泡沫低、显影后干膜侧边形貌良好；进一步的，该树脂组合物作为干膜抗蚀剂制备元件时，可以有效提升产品良率和生产效率。
树脂组合混合物干膜抗蚀剂相应元件

[发明专利]干膜抗蚀剂层压体-CN201911144334.5在审
发明人： 朱霞月;李伟杰;周光大 -专利权人：浙江福斯特新材料研究院有限公司
申请日： 2019-11-20 - 公布日： 2021-05-21 - 主分类号： G03F7/095 文献下载
摘要：本发明提供了一种干膜抗蚀剂层压体。该干膜抗蚀剂层压体包括支撑层、第一抗蚀剂层和第二抗蚀剂层，第一抗蚀剂层涂覆于支撑层的一侧表面上；第二抗蚀剂层涂覆于第一抗蚀剂层的远离支撑层的一侧表面上；其中，第二抗蚀剂层的曝光速度大于第一抗蚀剂层的曝光速度。将一个干膜抗蚀体分成两层叠加，吸收同一种光源同时进行不同速度的曝光，可以解决干膜厚度比较大特别是超过50um以后，抗蚀剂底部光固化弱易出现的曝光不良现象问题。因此，该干膜抗蚀剂层压体在印刷电路板、引线框架、金属精密加工、半导体封装、IC载板制作等领域中作为蚀刻或镀敷用的干膜抗蚀剂层压体材料，在图形曝光显影后，能够得到侧边形貌优良，菱角分明清晰的图案。
干膜抗蚀剂层压

[发明专利]一种高光敏性和优异掩孔性能的感光性树脂组合物及应用-CN201810103631.4有效
发明人：杨亮;朱霞月;朱薛妍;周光大;林建华 -专利权人：浙江福斯特新材料研究院有限公司
申请日： 2018-02-01 - 公布日： 2021-05-07 - 主分类号： G03F7/027 文献下载
摘要：本发明公开了一种具有高光敏性和优异掩孔性能的感光性树脂组合物，所述感光性树脂组合物包括45～75wt％的碱溶性树脂、20～50wt％的至少具有一个乙烯型不饱和双键的光聚合性化合物、0.001～2wt％的光聚合引发剂、0.1～3wt％的添加剂。本发明所制得的感光性树脂组合物和层压体，在利用激光直接成像法的抗蚀图形的形成中使用，具有对405nm波长激光光源的光敏性、掩孔性能、密合性和分辨率优异，可通过碱性水溶液显影，在PCB生产中可以有效降低破孔概率，有助于提升生产良率，显著提高PCB的生产效率。
一种光敏优异性能感光性树脂组合应用

[发明专利]感光树脂组合物、干膜抗蚀剂及相应的元件-CN202010686597.5在审
发明人：李伟杰;韩传龙;朱霞月;周光大 -专利权人：浙江福斯特新材料研究院有限公司
申请日： 2020-07-16 - 公布日： 2020-10-30 - 主分类号： G03F7/027 文献下载
摘要：本发明涉及一种感光树脂组合物、制备方法、干膜抗蚀剂及相应的元件，属于电路印刷元件的制备技术领域。感光树脂组合物，包含50~70%的碱溶性树脂，碱可溶性树脂分子的侧链具有芳香族基团或脂环碳氢结构、30~50%的光自由基聚合单体、0.1~5%的光引发剂、0.01~1%的附着力促进剂，该感光树脂组合物所制得的干膜抗蚀剂具有良好的耐电镀特性和可剥离特性，并且该感光性树脂组合物具有良好的盖孔能力及高解析度。
感光树脂组合干膜抗蚀剂相应元件

[发明专利]一种可直接描绘曝光成像的抗蚀剂组合物及抗蚀剂层压体-CN201710205416.0有效
发明人：李志强;李伟杰;严晓慧;黄森彪;韩传龙;朱霞月 -专利权人：苏州福斯特光伏材料有限公司
申请日： 2017-03-31 - 公布日： 2019-11-22 - 主分类号： G03F7/027 文献下载
摘要：本发明涉及一种可直接描绘曝光成像的抗蚀剂组合物及抗蚀剂层压体，它包括：（a）光聚合性组分；（b）光引发剂；（c）重均分子量为3×10⁴~1.2×10⁵且结构通式如式（I）所示的碱溶性共聚物树脂，，式中，R1、R2、R3、R4和R5相互独立地为H原子或甲基，R6为碳原子数为1~12的烷基链，R7、R8相互独立地表示碳原子数为1~2的烷基链；k和I相互独立地为1~4的整数。在进行直接描绘曝光时有优异的光敏性、分辨率和剥离特性，能够高效率的形成精细的抗蚀图形和制造高精细的印刷线路板。
一种直接描绘曝光成像抗蚀剂组合层压

[发明专利]一种正性感光水溶性阻焊干膜及用途-CN201710098304.X在审
发明人： 朱霞月;李伟杰;严晓慧 -专利权人：浙江福斯特新材料研究院有限公司
申请日： 2017-02-22 - 公布日： 2017-06-20 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明公开了一种正性感光水溶性阻焊干膜及用途，该感光水溶性阻焊干膜主要由碱溶性树脂、光敏化合物、灵敏度提高剂、增塑剂，热固化粘合剂、热固化粘合催化剂、低沸点溶剂、高沸点溶剂以及其余添加剂组成。本发明的阻焊干膜可代替感光干膜，同时兼备图形转移和阻焊的作用，同时该干膜具备很好的柔韧性，经过一次贴膜，三次曝光，以及热固化，完成线路板的图像转移、阻焊和线路终端保护的所有流程，并且保留了部分干膜覆盖于线路图上，起到保护线路不被划伤或者焊接时耐高温的作用，简省制作流程，节约经济成本。
一种性感水溶性阻焊干膜用途

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