专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]测长机日常检测与自动补正方法-CN201310198726.6有效
  • 黄文德;张岳妍;朱厚毅 - 深圳市华星光电技术有限公司
  • 2013-05-24 - 2013-09-11 - G01B11/02
  • 本发明提供一种测长机日常检测与自动补正方法,包括:步骤1、在预设日常检测时间到达时,判断机台运行状况;步骤2、当机台处于空闲状态时,则停止进片;步骤3、测量机台上用于承载基板的平台上对位标记的坐标值,生成平台测量数据档,并将该测量得到的对位标记坐标值与预设标准坐标值进行对比;步骤4、如果测量的对位标记坐标值与预设标准坐标值之间的差异在预定差异范围内,则自动计算补正量,并将该补正量更新到平台坐标系参数档,完成自动补正;如果测量的对位标记坐标值与预设标准坐标值之间的差异超出预定差异范围,则报警提示;步骤5、根据预判的差异超出预定差异范围的原因,作出继续自动补正、不自动补正或进行大片基板测量确认。
  • 长机日常检测自动补正方法
  • [发明专利]精密测长机及其光量干涉排除方法和装置-CN201310106348.4有效
  • 黄文德;张岳妍;朱厚毅 - 深圳市华星光电技术有限公司
  • 2013-03-29 - 2013-07-24 - G01B11/02
  • 本发明实施例公开了一种精密测长机及其光量干涉排除方法和装置。在量测前,光量干涉排除装置调节当前量测点位的反射输入光量直至测得的反射输出光量等于目标反射输出光量值,得到补正反射输入光量值,其中所有量测点位的目标反射输出光量值均相等;和/或调节当前量测点位的透射输入光量直至测得的透射输出光量等于目标透射输出光量值,得到补正透射输入光量值,其中所有量测点位的目标透射输出光量值均相等。然后,光量干涉排除装置将得到的当前量测点位的补正反射输入光量值和/或补正透射输入光量值保存在量测参数集合中。
  • 精密长机及其干涉排除方法装置
  • [发明专利]喷嘴清洁装置和具有该喷嘴清洁装置的涂布机-CN201310008969.9有效
  • 张岳妍;黄文德;朱厚毅 - 深圳市华星光电技术有限公司
  • 2013-01-10 - 2013-04-17 - B05B15/02
  • 本发明公开一种喷嘴清洁装置和具有该喷嘴清洁装置的涂布机,用于清洁一涂布机喷嘴(101),该喷嘴清洁装置包括清洁器(402)、抽真空管道(403)与真空泵(404),该清洁器(402)具有一形状与该涂布机喷嘴(101)相吻合的凹孔(4021),供该涂布机喷嘴(101)容纳于该凹孔(4021)中,该凹孔(4021)的内壁开设有多个通孔(4022);该抽真空管道(403)的一端与该多个通孔(4022)连接,该抽真空管道(403)的另一端接入该真空泵(404)。通过本发明提供的喷嘴清洁装置可方便地去除残留的光刻胶以清洁喷嘴,有效地提高产品的成品率以及生产效率,且无需使用昂贵的纳米材料,成本低廉。
  • 喷嘴清洁装置具有涂布机

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