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[发明专利]正型抗蚀剂组合物和形成抗蚀图案的方法-CN200480026631.5有效
发明人：山崎晃义;谷和夫;本池直人;前盛论;吉泽佐智子 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2004-09-17 - 公布日： 2006-10-25 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：一种正型抗蚀剂组合物，其包括含有酸可解离的、溶解抑制基团和在酸作用下显示提高的碱溶解度的树脂组分(A)和通过曝光生成酸的酸生成剂组分(B)，其中树脂组分(A)是包含衍生自羟基苯乙烯的第一结构单元(a1)和衍生自具有醇式羟基的(甲基)丙烯酸酯的第二结构单元(a2)的共聚物(A1)，其中已经由酸可解离的、溶解抑制基团保护结构单元(a1)的羟基和结构单元(a2)的醇式羟基的部分；和酸生成剂组分(B)包括重氮甲烷基酸生成剂和鎓盐基酸生成剂；或者该组合物还包含含有至少一种酸可解离的、溶解抑制基团和在由组分(B)生成的酸作用下生成有机羧酸的化合物。
正型抗蚀剂组合形成图案方法

[发明专利]化学放大正性光致抗蚀剂组合物-CN200380100580.1有效
发明人：新田和行;本池直人 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2003-10-27 - 公布日： 2005-11-02 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：公开了一种化学放大正性光致抗蚀剂组合物，其对不同类型的抗蚀图形具有极好的灵敏度和图形分辨率，呈高曝光极限和聚焦深度宽容度。必要组分包括(A)能通过与酸反应来增加碱溶解度的树脂和(B)一种产生酸的化合物，成分(A)是第一树脂(a1)和第二树脂(a2)的组合，第一树脂(a1)和第二树脂(a2)各是用酸可离解的、降低溶解度的取代基团部分取代羟基氢原子的羟基苯乙烯基共聚树脂。特征地，除了质均分子量不同，(a1)质均分子量高而(a2)质均分子量低以外，在(a1)树脂中取代基的酸离解性高于在(a2)树脂中的酸离解性如在(a1)的1－乙氧基乙基和(a2)的四氢吡喃的组合。
化学放大正性光致抗蚀剂组合