专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果9个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]光学测定装置以及水质分析系统-CN202180033072.4在审
  • 小林一星;坂本启伍;原康平;有本公彦 - 株式会社堀场先进技术
  • 2021-04-13 - 2022-12-30 - G01N21/47
  • 实现小型化,并且在采用基于各国的水质基准的浊度测定方式的同时也高精度地测定色度和浊度。通过测定由液体样品散射的散射光来测定液体样品的浊度的光学测定装置包括:样品池,其收纳液体样品;透过光测定用光源,其对样品池内的液体样品照射透过光测定用的光;散射光测定用光源,其对样品池内的液体样品照射散射光测定用的光;光检测器,其检测透过光测定的光的透过光以及散射光测定用的光的散射光;以及反射镜,其将透过光测定用的光在样品池内进行反射而朝向光检测器,散射光测定用光源以朝向反射后的光路并与该反射后的光路以预定的角度相交的方式射出散射光测定用的光,所述反射后光路为被反射镜反射而朝向光检测器的透过光测定用的光的光路。
  • 光学测定装置以及水质分析系统
  • [发明专利]参比电极-CN201580028852.4有效
  • 宫村和宏;中井阳子;森良弘;驹田世志人;有本公彦;辻冈唯二;世古朋子;箕轮大辉 - 株式会社堀场制作所
  • 2015-06-19 - 2019-07-05 - G01N27/401
  • 本发明的参比电极即使在检测液体中混有气泡时,在液体联络部中也能够维持内部液体与检测液体的导通,进行检测液体的电位检测,所述参比电极包括第二主体(42)和内部电极(R),所述第二主体具备:收容第二内部液体(15)的第二内部液体室(36);以使所述第二内部液体(15)与作为检测对象的检测液体(9)接触的方式配置于第二内部液体室(36)的液体联络部(40),所述内部电极配置于第二内部液体室(36)内,液体联络部(40)包括由多孔质或纤维状的部件形成的导通用部件(41)、和与导通用部件(41)邻接的开口(45)。
  • 参比电极
  • [发明专利]气体浓度测量装置-CN201710428284.8在审
  • 有本公彦;横山一成;世古朋子;土坂祐太郎;北木大介;古川泰生 - 株式会社堀场制作所
  • 2017-06-08 - 2018-01-09 - G01N21/359
  • 本发明提供一种气体浓度测量装置,能够在光纤中不容易产生温度变化,尽管结构简单却不浪费多余的能量,并且不容易因周围环境的空气进入测量光的光路而对测量精度产生影响,所述气体浓度测量装置包括第一密封件(5),在所述气体池(1)的所述射入面(14)和第一端面(25)之间设置成包围射出口(24)的周围,所述第一端面(25)形成在所述光射出单元(2)的所述射出口(24)的周围;以及第二密封件(6),在所述气体池(1)的所述射出面(15)和第二端面(35)之间设置成包围射入口(34)的周围,所述第二端面(35)形成在所述受光单元(3)的所述射入口(34)的周围。
  • 气体浓度测量装置
  • [发明专利]光学分析装置-CN201110432455.7有效
  • 横山一成;有本公彦 - 株式会社堀场制作所
  • 2011-12-21 - 2012-07-25 - G01N21/01
  • 本发明提供一种光学分析装置,通过降低腐蚀性气体对焦点位置修正用的基准修正构件的影响,在降低光学分析装置的测量误差的同时,解决伴随更换基准修正构件所产生的各种问题。本发明的光学分析装置包括基准修正构件(6),该基准修正构件(6)能在位于聚光光学系统(3)和检测光学系统(4)之间的光路(L)上的基准位置(R)、以及从该基准位置(R)退避开的退避位置(S)之间移动,使在基准位置(R)上通过的光的焦点位置与通过位于测量位置(P)上的测量单元(5)的光的焦点位置基本相同,基准修正构件(6)的在基准位置(R)上与光路(L)相交的外表面部分(6A),由对腐蚀性气体具有耐腐蚀性的材料构成。
  • 光学分析装置
  • [发明专利]光学测量用池-CN201110148022.9无效
  • 横山一成;有本公彦 - 株式会社堀场制作所
  • 2011-06-01 - 2012-02-15 - G01N21/05
  • 本发明提供一种光学测量用池,在降低制造成本的同时,可以改变池长度,并且可以将垫片可靠地定位在希望的位置。流动池具有夹持流道的一对光学窗,流动池包括:池主体,设置有容纳凹部以及与容纳凹部连通的液体导入部和液体导出部;一对透光部件,容纳在容纳凹部中,形成一对光学窗;垫片,确定一对透光部件彼此的相对面之间的距离;以及按压机构,将透光部件和垫片朝向容纳凹部的底面按压,并形成流道,在一对透光部件彼此的相对面的至少一方上,设置有形状与垫片对应的定位凹部,垫片嵌入定位凹部而被大体定位。
  • 光学测量

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top